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外延系统基本参数
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外延系统企业商机

脉冲激光分子束外延(PLD-MBE)系统展示了当今超高真空薄膜制备技术的顶峰。它巧妙地将脉冲激光沉积(PLD)技术的高灵活性、易于实现复杂化学计量比转移的优点,与分子束外延(MBE)技术的超高真空环境、原位实时监控和原子级精度的控制能力融为一体。这种系统特别适合于生长具有精确层状结构的新型氧化物、氮化物以及多元复合薄膜材料。研究人员可以在一个集成化的超高真空环境中,利用脉冲激光烧蚀难熔靶材,同时在基板上实现原子尺度的外延生长,并通过反射高能电子衍射(RHEED)实时观察薄膜生长的每一个原子层,从而为探索前沿量子材料、高温超导薄膜、多铁性材料等提供了强大工具。真空系统维护区域需保持干燥清洁,防止部件受潮损坏。多腔室外延系统应用领域

多腔室外延系统应用领域,外延系统

在低温环境应用中,设备可利用液氮等制冷手段实现低温条件。在研究某些半导体材料的低温电学性能时,低温环境能改变材料的电子态和能带结构。例如,在研究硅锗(SiGe)合金在低温下的载流子迁移率时,通过设备提供的低温环境,可精确控制温度,测量不同温度下SiGe合金的电学参数,深入了解其在低温下的电学特性,为半导体器件在低温环境下的应用提供理论依据。除此之外,在强磁场环境应用方面,虽然设备本身主要用于薄膜沉积,但在一些与磁性材料相关的研究中,可与外部强磁场装置配合使用。在制备磁性隧道结材料时,强磁场可以影响磁性材料的磁畴结构和磁各向异性。设备在强磁场环境下进行薄膜生长,能够研究强磁场对磁性薄膜生长和磁性能的影响,为自旋电子学领域的研究提供重要的实验数据,推动新型磁性器件的研发。多腔室外延系统应用领域薄膜生长监控中,扫描型差分 RHEED 数据异常需检查光路 alignment。

多腔室外延系统应用领域,外延系统

软件编程在复杂薄膜结构生长中优势明显。对于具有复杂结构的薄膜,如超晶格结构,其由两种或多种材料周期性的交替生长而成,每层薄膜的厚度和成分都有严格要求。通过软件编程,科研人员可精确控制不同材料分子束的开启和关闭时间,以及相应的生长参数,实现原子级别的精确控制。以生长GaAs/AlGaAs超晶格结构为例,软件可精确控制GaAs层和AlGaAs层的生长厚度和成分比例,保证超晶格结构的周期性和准确性,从而获得具有优异电学和光学性能的薄膜,为高性能光电器件的制备提供了有力支持。

PLD-MBE与传统热蒸发MBE的对比。传统MBE依赖于将固体源材料在克努森池中加热至蒸发,其蒸发速率相对较低且稳定,非常适合III-V族(如GaAs)和II-VI族(如ZnSe)半导体材料的生长。然而,对于高熔点金属氧化物(如钌酸盐、铱酸盐),热蒸发非常困难。PLD-MBE则利用高能激光轻松烧蚀任何高熔点靶材,突破了源材料的限制,将MBE技术的应用范围极大地扩展至复杂的氧化物家族,实现了“全氧化物分子束外延”。

与金属有机化学气相沉积(MOCVD)的对比。MOCVD是大规模生产III-V族半导体光电器件(如LED、激光器)的主流技术,具有出色的均匀性和大规模生产能力。然而,MOCVD通常涉及高毒性和高反应活性的金属有机前驱体,设备与运营成本高昂,且存在碳污染风险。对于实验室阶段的新材料探索和机理研究,PLD和MBE系统提供了更洁净、更灵活、成本更低的平台,能够实现更高的真空度和更精确的原位监测,非常适合进行基础科学探索和原型验证。 高分子镀膜工艺研究,可借助基质辅助脉冲激光沉积系统实现。

多腔室外延系统应用领域,外延系统

设备对实验室环境有着严格的要求,为满足这些环境要求,需采取相应保障措施。安装空调系统,精确控制实验室的温度和湿度。空调系统应具备温度和湿度自动调节功能,能够根据设定的参数自动调整制冷、制热和除湿量,确保实验室环境稳定。配备空气净化设备,如高效空气过滤器(HEPA),过滤空气中的微小颗粒,提高实验室的洁净度。空气净化设备应定期更换过滤器,保证其过滤效果。实验室的地面和墙面应采用不易积尘、易于清洁的材料,如环氧地坪漆和洁净板。地面要做好防静电处理,可铺设防静电地板,减少静电对设备的影响。可编程温控系统支持复杂升降温工艺曲线。多腔室外延系统应用领域

集成RHEED系统实时监测薄膜生长过程中的晶体结构。多腔室外延系统应用领域

样品装载是实验的重要环节,正确的装载方法和注意事项能够确保样品在沉积过程中获得良好的结果。在装载样品前,需对样品进行严格的清洁处理。使用合适的清洗剂,如二甲基酮、酒精等,去除样品表面的油污、灰尘和杂质,以保证薄膜与样品表面有良好的附着性。对于一些特殊样品,可能需要采用更精细的清洗工艺,如超声清洗等。

装载样品时,要通过设备的负载锁定室进行操作。先将样品放入负载锁定室,关闭室门,然后对负载锁定室进行抽真空,使其真空度与工艺室相近。这样可以避免在将样品传输到工艺室时,因压力差过大而对设备和样品造成损害。通过可靠、快速的线性传输系统,将样品从负载锁定室传输到工艺室的基板支架上。在传输过程中,要确保传输系统运行平稳,避免样品晃动或掉落。 多腔室外延系统应用领域

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