GMP对生物制药用水制备设备的要求：1、注射用水接触的材料必须是良好低碳不锈钢（例如316L不锈钢）或其他经验证不对水质产生污染的材料。制备注射用水的设备应定期清洗，并对清洗效果验证。2、纯化水储存周期不宜大于24小时，其储罐宜采用不锈钢材料或经验证无毒，耐腐蚀，不渗出污染离子的其他材料制作。保护其通气口应安装不脱落纤维的疏水性除菌滤器。储罐内壁应光滑，接管和焊缝不应有死角和沙眼。应采用不会形成滞水污染的显示液面、温度压力等参数的传感器。对储罐要定期清洗、消毒灭菌，并对清洗、灭菌效果验证。半导体、显象管等制造业用高纯水等用途。反渗透工业超纯水市价
工业纯化水设备结合了电渗析与离子交换两项技术，能够实现去除水中导电介质，达到行业用水标准纯度的目的。通过电除盐EDI模块，不同数量的模块搭配起来，可以满足不同行业的水处理要求，为不同行业高纯水的生产提供了有力保障。化工冶金行业。化工行业对用水水质的电导率要求控制在20us/cm-0.1us/cm的范围内。超纯水设备通常应用于化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程，电子半导体和集成电路板上用到的化工材料，以及石英、硅材料的生产加工提纯过程。电镀涂装行业。电子工业超纯水公司创造了更高的经济效益。
工业超纯水制备流程：电子工业上的过程中的水粗略地分为以下类别的制备方法：1，使用水处理离子交换树脂的传统方法制造的超纯水，基本流程：原水和沉淀物活性炭过滤器→→→精滤床→尹押嗯床→混床（复床）→纯水箱→后排精密过滤器纯水泵→→用水点；2，通过反渗透水处理设备结合了离子交换设备，基本工艺方法：原水和沉淀物活性炭过滤器→→软水器-精密过滤器反渗透设备→→→纯水箱混床（复床）→→超纯水超纯水的水箱水泵→→后精密过滤器水点。3，采用反渗透水处理设备和电脱离子（EDI）的方法的装置，这是一种制备超纯水的较新技术，是一种环保型的，经济的，潜在的超纯水的过程发展。
设备清洗要求：设备的清洗规程应遵循以下原则：1、有明确的洗涤方法和洗涤周期。2、明确关键设备的清洗验证方法。3、清洗过程及清洗后检查的有关数据要有记录并保存。4、无菌设备的清洗，尤其是直接接触药品的部位和部件必须灭菌，并标明灭菌日期，必要时要进行微生物学的验证。经灭菌的设备应在三天内使用。5、某些可移动的设备可移到清洗区进行清洗、消毒和灭菌。6、同一设备连续加工同一无菌产品时，每批之间要清洗灭菌;同一设备加工同一非灭菌产品时，至少每周或每生产三批后进行全方面的清洗。纯化水水质标准电阻率：≥0.5MΩ.CM，电导率：≤2μS，氨≤0.3μg/ml，硝酸盐≤0.06μg/ml，重金属≤0.5μg/ml。纯化水设备采用自动反冲活性炭过滤罐。
纯化水设备中常用原水预处理方法为使原水的水质达到一个预期的指标，以满足纯化过程对源水的要求，必须对原水进行预处理，原水预处理的主要对象是水中的悬浮物、微生物、胶体、有机物、重金属和游离状态的余氯等。源水中悬浮颗粒的含量小于50mg/L时，可以采用接触凝聚或过滤，即加入凝聚剂后，经过水泵或管道直接注入过滤器，目前多是采用多介质过滤器。当原水中碳酸盐硬度较高时，可以在去除浊度的同时，加入石灰进行预软化。当然目前采用较多的方法是采用阳离子交换树脂或加阻垢剂。当原水中的有机物含量较高时，可采用加氯、凝聚、澄清过滤等方法处理，若仍然不能满足后续工序的进水要求时，可增加活性炭过滤等去除有机物的措施。当原水中游离氯超过后续进水标准时，可采用活性炭过滤或加入亚硫酸钠等方法处理。如果后续处理工序采用反渗透或EDI等设备时，应在原水放进设备以前，再增设一个(组)精密过滤装置，作为反渗透等设备的保护措施。如果后续工序对胶体状态的硅要求较高，可在加入石灰的同时加入氧化镁，以达到去除硅的目的。当原水中铁、锰含量较高时，应增加曝气、过滤装置，去除铁和锰。纯净水、矿泉水生产等用途。电子工业超纯水公司
原水只有经过适当的预处理后，方能满足后道制水制备系统对进水的水质要求。反渗透工业超纯水市价
工业纯水设备的使用作用：1、处理速度非常高，随着科学技术的发展，工业纯水设备的推广也得到了许多行业的认可。现在使用这个设备，你会得到水资源处理的效果。使用各种类型的试剂和过滤工具，您可以轻松确保水资源被处理成纯净水。2、处理水资源速度很快，水资源的使用是很多厂家都不会陌生的资源。为了保证商品的生产可以更加迅速，对于水资源的品质要求也是比较高，现在有非常多可以处理水资源的设备可以应用。工业纯水处理设备的使用，可以保证处理水资源的速度有保障。反渗透工业超纯水市价
