二氧化硅——名称： 二氧化硅（SiO2）
经验告诉我们，氧离子助镀（IAD)SiO将是SiO2薄膜可再现性问题的一个解决方法，并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜.
SiO2薄膜如果压力过大，薄膜将有气孔并且易碎，相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大，需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性，必要是需要氧气和氩气混合充气，但是这是热镀的情况，冷镀时这种性况不存在.
SiO2用于防反膜，冷光膜，滤光片，绝缘膜，眼镜膜，紫外膜.
透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
200--2000 1.46 1800-2200 防反膜，增透少，升华
无色颗粒状，折射率稳定，放气量少,和OS-10等高折射率材料组合制备截止膜，滤光片等.
塑料薄膜是用聚氯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯以及其他树脂制成的薄膜。杨浦区塑料膜哪家好
"防止薄膜反面电晕的主要措施是要调节好电晕处理辊前的橡胶压紧辊的压力，压紧辊两端压力既要一致且压力大小又要合适。另外，电晕辊和压紧辊必须进行严格的动静平衡试验，径向跳动要求小于0.05毫米，目的是保证塑料薄膜平整地进入电晕辊、防止夹入空气，从而避免发生反面电晕的现象。
特性比较
常用的塑料薄膜有聚乙烯（PE）、聚氯乙烯（PVC）、聚苯乙烯(PS)、聚酯薄膜（PET）、聚丙烯（PP）、尼龙等。 各种塑料薄膜性能不同，印刷的难易程度也不同，作为包装材料的用途也不同。" 景宁塑料膜多少钱随着新材料、新设备和新工艺涌现，促使塑料膜朝着多样化、**化以及具备多功能的复合膜方向发展。
薄膜科学上的解释为：由原子，分子或离子沉积在基片表面形成的2维材料。例：光学薄膜、复合薄膜、超导薄膜、聚酯薄膜、尼龙薄膜、塑料薄膜等等。薄膜被宽泛用于电子电器，机械，印刷等行业。
薄膜材料是指厚度介于单原子到几毫米间的薄金属或有机物层。电子半导体功能器件和光学镀膜是薄膜技术的主要应用。
简介
由薄膜产生的干涉。薄膜可以是透明固体、液体或由两块玻璃所夹的气体薄层。
入射光经薄膜上表面反射后得一束光，折射光经薄膜下表面反射，又经上表面折射后得第二束光，这两束光在薄膜的同侧，由同一入射振动分出，是相干光，属分振幅干涉。
氟化铅，名称：氟化铅（PbF2）氟化铅在UV中可用作高折射率材料，在300nm时N=1.998，该材料与钼钽，钨舟接触时折射率将降低，因此需要用铂或陶瓷皿.Ennos指出氟化铅具有相对较低的应力，开始是压力，随着膜厚度的增加张力明显增大，但这与蒸着速度无关.透光范围（nm) 折射率（N)500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，250-17000 1.75 700--1000 电子用具，铂舟，坩锅 红外膜 少，铬，名称：铬（Cr)
铬有时用在分光镜上并且通常用作""胶质层""来增强附着力，胶质层可能在5-50NM的范围内，但在铝镜膜导下面，30NM是增强附着力的有效值.颗粒状可用钨舟蒸发而块状宜用电子用具来蒸发，该材料升华，但是表面氧化物可以防止它蒸发/升华，可以全用铬电镀钨丝.可以用铬作为胶质层对金镜化合物进行韧性处理，也可在塑料上使用铬作为胶质层.也可使用一个螺旋状的钨丝蒸发.它应该是所有材料中具有比较高拉应力的材料.
透光范围（nm) 折射率（N)500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，⒈5 1300--1400 电子用具，铂舟，钨舟 吸收膜分光膜导电膜加硬膜。
随着经济的发展以及农村产业结构的调整，中国各行各业对塑料薄膜的市场需求不断上升。
SAINTY等人成功地使用ZRO2作为铝膜和银膜的保护膜，该膜层（指ZRO2）是在室温基板上使用700EV氩离子助镀而得到的.一般为白色柱状或块状，蒸发分子为ZRO,O2.透光范围（nm) 折射率（N)，550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，320-7000 2.05⒉0AT2000 约2500 电子用具，
增透，加硬膜
眼镜膜保护膜 一般
制程特性：白色颗粒，柱状，或块状，粉状材料使用钨舟或钼舟.颗粒状，粉状材料排杂气量较多，柱状或块状较少.
真空度小于2*10-5Torr条件下蒸发可得到较稳定的折射率，真空度大于5*10-5Torr时蒸发，薄膜折射率逐渐变小。蒸镀时加入一定压力的氧气可以改善其材料之不均匀性。 按塑料薄膜用途分有农用，包装及用于特殊环境、具有特殊用途的透气薄膜，水溶薄膜及具有压电性能的薄膜等。椒江区塑料膜可量尺定做
塑料薄膜表面处理的方法有涂层法。杨浦区塑料膜哪家好
在玻璃上冷镀MGF2加以IAD助镀可以得到300（℃）同等的薄膜，但是125-150EV能量蒸镀可是**适合的.在塑料上使用IAD蒸镀几乎强制获得合理的附着力与硬度.经验是MGF2不能与离子碰撞过于剧烈.
透光范围（nm) 折射率（N)，550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，2000-7000 1.38，⒈35AT200 约1100 电子用具，，钼钽钨舟 增透，加硬膜，眼镜膜 少，MGF2，（MGF2）2
制程特性：折射率稳定，真空度和速率对其变化影响小
预熔不充分或蒸发电流过大易产生飞溅，造成镜片""木""不良.在打开档板后蒸发电流不要随意加减，易飞溅.基片须加热到高的张应力
白色颗粒状，常用于抗反射膜，易吸潮.购买时应考虑其纯度.
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