薄膜干涉原理广泛应用于光学表面的检验、微小的角度或线度的精密测量、减反射膜和干涉滤光片的制备等。等倾干涉和等厚干涉是薄膜干涉的两种典型形式。
由薄膜上、下表面反射（或折射）光束相遇而产生的干涉．薄膜通常由厚度很小的透明介质形成．如肥皂泡膜、水面上的油膜、两片玻璃间所夹的空气膜、照相机镜头上所镀的介质膜等．比较简单的簿膜干涉有两种，一种称做等厚干涉，这是由平行光入射到厚度变化均匀、折射率均匀的薄膜上、下表面而形成的干涉条纹．
塑料薄膜表面处理常采用的是电晕处理法。富阳区塑料膜来电咨询
但聚酯薄膜的价格较高，一般厚度为12 μ m，常用做蒸煮包装的外层材料，印刷性较好。
尼龙薄膜（PA）
尼龙薄膜是一种非常坚韧的薄膜，透明性好，并具有良好的光泽，抗张强度、拉伸强度较高，还具有较好的耐热性、耐寒性、耐油性和耐有机溶剂性，耐磨性、耐穿刺性优良，且比较柔软，阻氧性优良，但对水蒸气的阻隔性较差，吸潮、透湿性较大，热封性较差，适于包装硬性物品，例如油腻性食品、肉制品、油炸食品、真空包装食品、蒸煮食品等。 象山塑料膜可量尺定做塑料薄膜表面处理的方法有机械打毛法。
氟化铅，名称：氟化铅（PbF2）氟化铅在UV中可用作高折射率材料，在300nm时N=1.998，该材料与钼钽，钨舟接触时折射率将降低，因此需要用铂或陶瓷皿.Ennos指出氟化铅具有相对较低的应力，开始是压力，随着膜厚度的增加张力明显增大，但这与蒸着速度无关.透光范围（nm) 折射率（N)500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，250-17000 1.75 700--1000 电子用具，铂舟，坩锅 红外膜 少，铬，名称：铬（Cr)
铬有时用在分光镜上并且通常用作""胶质层""来增强附着力，胶质层可能在5-50NM的范围内，但在铝镜膜导下面，30NM是增强附着力的有效值.颗粒状可用钨舟蒸发而块状宜用电子用具来蒸发，该材料升华，但是表面氧化物可以防止它蒸发/升华，可以全用铬电镀钨丝.可以用铬作为胶质层对金镜化合物进行韧性处理，也可在塑料上使用铬作为胶质层.也可使用一个螺旋状的钨丝蒸发.它应该是所有材料中具有比较高拉应力的材料.
透光范围（nm) 折射率（N)500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，⒈5 1300--1400 电子用具，铂舟，钨舟 吸收膜分光膜导电膜加硬膜。
塑料薄膜的表面张力
塑料薄膜的表面张力取决于塑料薄膜表面自由能大小，而薄膜表面能又取决于薄膜材料本身的分子结构。多数塑料薄膜如聚烯烃薄膜(LDPE、HDPE、LLDPE、PP)属非极性聚合物，其表面自由能小，表面湿张力较低，一般为30达因/厘米左右。理论上讲，若物体的表面张力低于33达因/厘米，普通的油墨或粘合剂就无法附着牢固，因此必须对其表面处理。聚酯类(PET、PBT、PEN、PETG)是属于极性高分子，其表面自由能较高，表面湿张力在40达因/厘米以上。 塑料薄膜是用塑料、胶粘剂、橡胶或其他材料制成。
透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
400--12000 2.35 2000-2200 防反膜，增透
TiO2用于防反膜，装饰膜，滤光片，高反膜
Ti2O3用于防反膜 滤光片 高反膜 眼镜膜
氟化钍——名称：氟化钍（ThF4）260-12000nm以上的光谱区域，是一种优良的低折射率材料，然而存在放射性，在可视光谱区N从 1.52降到1.38（1000nm区域）在短波长趋近于1.6，蒸发温度比MGF2低一些，通常使用带有凹罩的舟皿以免THF4良性颗粒火星飞溅出去，而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加坚固.该膜在IR光谱区300NM小水带几乎没有吸收，这意味着有望得到一个低的光谱移位以及更大的整体坚固性，在8000到12000NM完全没有材料可以替代. 塑料薄膜被宽泛用于电子电器，机械，印刷等行业。富阳区塑料膜来电咨询
塑料薄膜是用聚氯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯以及其他树脂制成的薄膜。富阳区塑料膜来电咨询
铝，名称：铝（Al)
不管是装饰膜还是专业膜都是普遍用于蒸发/溅镀镜膜，常用钨丝来蒸发铝丝，在紫外域中它是普通金属中反射性能比较好的一种,在红外域中不用Cu,Ag,Au.铝原先有一个比较高的拉应力，在不透明厚度时，该 拉应力降低到一个小的压应力，并且蒸着以后拉应力进一步降低.其膜的有效厚度为50NM以上.
银，名称：银（Ag)
如果蒸着速度足够快并且基板温度不很高时，银和铝一样具有良好的反射性，这是在高速低温下大量集结的结果，这一集结同时导致更大的吸收.银通常不浸湿钨丝，但是往往形成具有高表面张力的液滴，它可以用一高紧密性的螺旋式钨丝来蒸发，从而避免液滴下掉.有人先在一个V型钨丝上绕几圈铂丝接着绕上银丝，银丝可以浸湿铂丝但没有浸湿钨丝.
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