折射率受蒸着真空度和蒸发速率影响较大，真空不好即速率低则膜折射率变低；真空度好蒸发速率较快时，膜折射率相对增大，接近1.62
Al2O3蒸发时会产生少量的Al分子造成膜吸收现象，加入适当的O2时，可避免其吸收产生.但是加氧气要注意不要影响到它的蒸发速率否则改变了它的折射率.名称：OS-10(TiO2+ZrO2）透光范围（nm) 折射率（N)550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，250-7000 2.3 2050 电子用具，增透，滤光片，截止膜，一般，制程特性：棕褐色颗粒状. 杂气排放较大，预熔不充分或真空度小于5*10-5Torr时蒸发，其折射率会比2.3小，帮必须充分预熔且蒸发真空度希望大于上述这数值.蒸发此种材料时宜控制衡定的蒸发速率，材料可添加重复使用，为减少杂气排放量，尽量避免全数使用新材料.
作为食品包装要求塑料薄膜表面自由能要高、湿张力要大。瓯海区塑料膜哪家好
氟化铅，名称：氟化铅（PbF2）氟化铅在UV中可用作高折射率材料，在300nm时N=1.998，该材料与钼钽，钨舟接触时折射率将降低，因此需要用铂或陶瓷皿.Ennos指出氟化铅具有相对较低的应力，开始是压力，随着膜厚度的增加张力明显增大，但这与蒸着速度无关.透光范围（nm) 折射率（N)500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，250-17000 1.75 700--1000 电子用具，铂舟，坩锅 红外膜 少，铬，名称：铬（Cr)
铬有时用在分光镜上并且通常用作""胶质层""来增强附着力，胶质层可能在5-50NM的范围内，但在铝镜膜导下面，30NM是增强附着力的有效值.颗粒状可用钨舟蒸发而块状宜用电子用具来蒸发，该材料升华，但是表面氧化物可以防止它蒸发/升华，可以全用铬电镀钨丝.可以用铬作为胶质层对金镜化合物进行韧性处理，也可在塑料上使用铬作为胶质层.也可使用一个螺旋状的钨丝蒸发.它应该是所有材料中具有比较高拉应力的材料.
透光范围（nm) 折射率（N)500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，⒈5 1300--1400 电子用具，铂舟，钨舟 吸收膜分光膜导电膜加硬膜。
宝山区优质塑料膜按塑料薄膜的成型方法分有吹塑薄膜，流延薄膜，压延薄膜。
聚乙烯分子上基本不带极性基团，是一种非极性印于，聚丙烯分子中，每个结构单元上都含有一甲基，这分种弱极性基团，基本上也属于非极性，因此，它们对油墨的亲和性都比较差，所以在印刷前在印刷前要经过处理后才能得到满意的印件。
处理方法大多是通过氧化，使之增加极性，使表面结构发生变化。具体的处理方法有放电（俗称电晕、电火花）法、火焰法、紫外线辐射法、酸（铬酸）处理法等几种。而以放电法比较简单而普及。
薄膜
薄膜是一种薄而软的透明薄片。用塑料、胶粘剂、橡胶或其他材料制成。
沉积技术以气相沉积法为主，按原理可分为化学气相沉积（chemical vapor deposition，CVD）方法和物理的气相沉积（physical vapor deposition）方法两大类。
PVD法相对于CVD方法有独特的优势，因此在金属多层膜的制备过程中，大多采用PVD方法。
PVD方法可呈现多种不同形式，如真空蒸发沉积、溅射沉积、离子束和离子束辐照沉积、分子束外延沉积、脉冲激光沉积、离化团簇束沉积、脉冲电弧沉积等。
选购技巧：市场上的薄膜品种很多，但**常用的印刷膜有BOPP，NY，PET，PE。就印刷而言，**重要的当然是薄膜的表面处理效果，NY膜是否受潮。印刷时应该制定对膜的表面张力一个膜卷一测的工艺要求。电晕效果具有时效性，放置过长时间，电晕效果可能下降幅度太多达不到印刷的要求；也可以避免由于不小心弄反膜面印刷的故障。 塑料薄膜在包装领域的应用较为宽泛。
碲化铅
名称：碲化铅（PbTe）
是一种具有高折射率的IR材料，作为薄膜材料在3800---40000NM是透明的，在红外区N=5.1-5.5，该材料升华，基板板温度250℃是有益的，健康预防是必要的，在高达40000NM时使用效果很好，别的材料常常用在超过普通的14000NM红外线边缘.
铝氟化物
名称：铝氟化物（AlF3）
可以在钼中升华， 在190-1000NM区域有透过性，N=1.38，有些人声称已用在EⅪMER激光镜，它无吸收性，在250-1000NM区域透过性良好.ALF3是冰晶石，是NaAlF4的一个组成部分，且多年来一直在使用，但是在未加以保护层时其耐久性还未为人知.
塑料薄膜可以是透明固体、液体或由两块玻璃所夹的气体薄层。宝山区优质塑料膜
塑料薄膜的品种分类没有统一的规定。瓯海区塑料膜哪家好
氟化镁
名称：氟化镁（MgF2）
MGF2作为1/4波厚抗反射膜普遍使用来作玻璃光学薄膜，它难以或者相对难以溶解，而且有大约120NM真实 紫外线到大约7000nm的中部红外线区域里透过性能良好。OLSEN，MCBRIDE等人指出从至少200NM到6000NM的区域里，2.75MM厚的单晶体MGF2是透明的，接着波长越长吸收性开始增大，在10000NM透过率降到大约2%，虽然在8000-12000NM区域作为厚膜具有较大的吸收性，但是可以在其顶部合用一薄膜作为保护层.
不使用IAD助镀，其膜的硬度，耐久性及密度随基板的温度的改变而改变的.在室温中蒸镀，MGF2膜层通常被手指擦伤，具有比较高的湿度变化.在真空中大约N=1.32，堆积密度82%，使用300（℃）蒸镀，其堆积密度将达到98%,N=1.39它的膜层能通过消除装置的擦伤测试并且温度变化低，在室温与300（℃）之间，折射率与密度的变化几乎成正比例的.
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