铈（Ce）氟化物，名称：铈（Ce）氟化物，Hass等人研究GeF3，他们使用高密度的钨舟蒸发发现在500NM时N=1.63，并且机械强度和化学强度令人满意，他们指出在234NM和248NM的吸收比较大，而在波长大过300NM时吸收可以忽略.FUJIWARA用钼舟蒸发CEF3和CEO2混合物，得到一个1.60---2.13的合乎需要的具有合理重复性的折射率，他指出该材料的机械强度和化学强度都令人满意.透光范围（nm) 折射率（N)500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，300-5000 1.63 约1500 电子用具，钼钽钨舟 增透，眼镜 少，氟化钙，名称：氟化钙（CaF2），CaF2是Heavens提出来的，它可以在10-4以上的压力下蒸发获得一个约为1.23---1.28的折射率。可是他说**终的膜层不那么令人满意，在室温下蒸着氟化钙其堆积密度大约为0.57，这与Ennos给出的疏散折射率1.435相吻合
聚酯薄膜是一种无色透明、有光泽的塑料薄膜。兰溪塑料膜按需定制
其主要缺点是对氧气的阻隔性较差，常用于复合软包装材料的内层薄膜，而且也是目前应用**宽泛、用量比较大的一种塑料包装薄膜，约占塑料包装薄膜耗用量的40%以上。
由于聚乙烯分子中不含极性基团，且结晶度高，表面自由能低，因此，该薄膜的印刷性能较差，对油墨和胶黏剂的附着力差，所以在印刷和复合前需要进行表面处理。
聚酯薄膜（PET）
聚酯薄膜是以聚对苯二甲酸乙二醇酯为原料，采用挤出法制成厚片，再经双向拉伸制成的薄膜材料。它是一种无色透明、有光泽的薄膜，机械性能优良，刚性、硬度及韧性高，耐穿刺，耐摩擦，耐高温和低温，耐化学药品性、耐油性、气密性和保香性良好，是常用的阻透性复合薄膜基材之一。 海曙区正规塑料膜从中国塑料薄膜的应用领域看，用比较比较大、品种比较多、应用比较广的是包装工业。
聚酯薄膜是无色、透明、耐湿、不透气、柔软、强度大、耐酸碱油酯和溶剂、对高低温均不怕的材料，经电火花处理后，对油墨有比较好的表面牢度。用于包装和复合材料。
聚丙烯薄膜有良好的光泽和很好的透明度，耐热酸碱、耐溶剂、耐摩擦、耐撕裂、能透气，低于160℃时不能热封。
尼龙薄膜的强度比聚乙烯薄膜大，无味、不透细菌、耐油、耐酯、耐沸水及大部分溶剂，一般用于荷重、耐磨的包装，以及蒸煮包装（食品的再热），它不需表面处理即可印刷。
氟化铅，名称：氟化铅（PbF2）氟化铅在UV中可用作高折射率材料，在300nm时N=1.998，该材料与钼钽，钨舟接触时折射率将降低，因此需要用铂或陶瓷皿.Ennos指出氟化铅具有相对较低的应力，开始是压力，随着膜厚度的增加张力明显增大，但这与蒸着速度无关.透光范围（nm) 折射率（N)500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，250-17000 1.75 700--1000 电子用具，铂舟，坩锅 红外膜 少，铬，名称：铬（Cr)
铬有时用在分光镜上并且通常用作""胶质层""来增强附着力，胶质层可能在5-50NM的范围内，但在铝镜膜导下面，30NM是增强附着力的有效值.颗粒状可用钨舟蒸发而块状宜用电子用具来蒸发，该材料升华，但是表面氧化物可以防止它蒸发/升华，可以全用铬电镀钨丝.可以用铬作为胶质层对金镜化合物进行韧性处理，也可在塑料上使用铬作为胶质层.也可使用一个螺旋状的钨丝蒸发.它应该是所有材料中具有比较高拉应力的材料.
透光范围（nm) 折射率（N)500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，⒈5 1300--1400 电子用具，铂舟，钨舟 吸收膜分光膜导电膜加硬膜。
塑料薄膜表面处理的方法有化学处理法。
沉积技术以气相沉积法为主，按原理可分为化学气相沉积（chemical vapor deposition，CVD）方法和物理的气相沉积（physical vapor deposition）方法两大类。
PVD法相对于CVD方法有独特的优势，因此在金属多层膜的制备过程中，大多采用PVD方法。
PVD方法可呈现多种不同形式，如真空蒸发沉积、溅射沉积、离子束和离子束辐照沉积、分子束外延沉积、脉冲激光沉积、离化团簇束沉积、脉冲电弧沉积等。
选购技巧：市场上的薄膜品种很多，但**常用的印刷膜有BOPP，NY，PET，PE。就印刷而言，**重要的当然是薄膜的表面处理效果，NY膜是否受潮。印刷时应该制定对膜的表面张力一个膜卷一测的工艺要求。电晕效果具有时效性，放置过长时间，电晕效果可能下降幅度太多达不到印刷的要求；也可以避免由于不小心弄反膜面印刷的故障。 塑料薄膜生产方法是是要把塑料加热熔化，再用各种方法使它变为膜。海曙区正规塑料膜
在塑料薄膜生产卷取和高速包装过程中，则要求薄膜表面有一定的摩擦性能防止薄膜粘连或打滑。兰溪塑料膜按需定制
锗化锌，名称：锗化锌（ZnGe)疏散的锗化锌具有一个比其相对较高的折射率，在500NM时N=2.6，在可见光谱区以及12000-14000NM区域具有较少的吸收性并且疏散的锗化锌没有其材质那么硬.使用钽舟将其蒸发到150℃的基板上制备SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜层试图获到长波长IR渐低折射率的光学滤镜.氧化铪，名称：氧化铪（HfO2）在150℃的基板上有用电子用具蒸着，折射率在2.0左右，用氧离子助镀可能取和得2.05-2.1稳定的折射率，在8000-12000NM区HFO2用作铝保护膜外层好过SIO2，透光范围（nm) 折射率（N)550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，230-7000 2.0 2350 电子用具，增透，高反膜，紫外膜 少，无色圆盘状或灰色颗粒状和片状.
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