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塑料膜基本参数
  • 产地
  • 宁波
  • 品牌
  • 奥胜
  • 型号
  • 齐全
  • 是否定制
塑料膜企业商机

氟化镁

名称:氟化镁(MgF2)

MGF2作为1/4波厚抗反射膜普遍使用来作玻璃光学薄膜,它难以或者相对难以溶解,而且有大约120NM真实 紫外线到大约7000nm的中部红外线区域里透过性能良好。OLSEN,MCBRIDE等人指出从至少200NM到6000NM的区域里,2.75MM厚的单晶体MGF2是透明的,接着波长越长吸收性开始增大,在10000NM透过率降到大约2%,虽然在8000-12000NM区域作为厚膜具有较大的吸收性,但是可以在其顶部合用一薄膜作为保护层.

不使用IAD助镀,其膜的硬度,耐久性及密度随基板的温度的改变而改变的.在室温中蒸镀,MGF2膜层通常被手指擦伤,具有比较高的湿度变化.在真空中大约N=1.32,堆积密度82%,使用300(℃)蒸镀,其堆积密度将达到98%,N=1.39它的膜层能通过消除装置的擦伤测试并且温度变化低,在室温与300(℃)之间,折射率与密度的变化几乎成正比例的.


电子半导体功能器件和光学镀膜是塑料薄膜技术的主要应用。余杭区塑料膜销售价格

⑶按薄膜的成型方法分类:有挤出塑化、然后吹塑成型的薄膜,称为吹塑薄膜;经挤出塑化,然后熔融料从模具口流延成型的薄膜,称为流延薄膜;在压延机上由几根辊筒辗压塑化原料制成的薄膜,称为压延薄膜。

应用参数

三氧化二钇

名称:钇(Y)

三氧化二钇,(Y2O3)使用电子蒸镀,该材料性能随膜厚而变化,在500nm时折射率约为1.8,用作铝保护膜极其受欢迎,特别相对于800-12000nm区域高入射角而言,可用作眼镜保护膜,且24小时暴露于湿气中,一般为颗粒状和片状。 洞头区原装塑料膜塑料膜已经宽泛地应用于食品、医药、化工等领域。

塑料薄膜的表面张力

塑料薄膜的表面张力取决于塑料薄膜表面自由能大小,而薄膜表面能又取决于薄膜材料本身的分子结构。多数塑料薄膜如聚烯烃薄膜(LDPE、HDPE、LLDPE、PP)属非极性聚合物,其表面自由能小,表面湿张力较低,一般为30达因/厘米左右。理论上讲,若物体的表面张力低于33达因/厘米,普通的油墨或粘合剂就无法附着牢固,因此必须对其表面处理。聚酯类(PET、PBT、PEN、PETG)是属于极性高分子,其表面自由能较高,表面湿张力在40达因/厘米以上。

硫化锌

名称:硫化锌(ZnS)

折射率为2.35,400-13000nm的透光范围,具有良好的应力和良好的环境耐久性, ZnS在高温蒸着时极易升华,这样在需要的膜层附着之前它先在基板上形成一无吸附性膜层,因此需要彻底清炉,并且在比较高温度下烘干,花数小时才能把锌的不良效果消除.HASS等人称紫外线(UV)对ZNS有较大的影响,由于紫外线在大气中导致15-20nm厚的硫化锌膜层完全转变成氧化锌(ZNO)。

透光范围(nm) 折射率(N) 550nm 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 方式

400--14000 2.35 1000--1100钽钼舟,防反膜, 升华

应有:分光膜,冷光膜,装饰膜,滤光片,高反膜,红外膜. 塑料薄膜表面处理的方法有化学处理法。

二氧化钛

名称:二氧化钛(TiO₂)

TiO₂由于它的高折射率和相对坚固性,人们喜欢把这种高折射率材料用于可见光和近红外线区域,但是它本身又难以得到一个稳定的结果.TiO₂,Ti2O3. TiO,Ti,这些原材料氧-钛原子的模拟比率分别为:2.0,1.67,1.5,1.0,0. 后发现比率为1.67的材料比较稳定并且大约在550nm生成一个重复性折射率为2.21的坚固的膜层,比率为2的材料首层产生一个大约2.06的折射率,后面的膜层折射率接近于2.21.比率为1.0的材料需要7个膜层将折射率2.38降到2.21.这几种膜料都无吸收性,几乎每一个TiO2蒸着遵循一个原则:在可使用的光谱区内取得可以忽略的 吸收性,这样可以降低氧气压力的限制以及温度和蒸着速度的限制.TiO2需要使用IAD助镀,氧气输入口在挡板下面.


常用的塑料薄膜有聚乙烯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚酯薄膜、聚丙烯、尼龙等。洞头区原装塑料膜

中国塑料薄膜行业正处于一个蓬勃发展的阶段。余杭区塑料膜销售价格

锗化锌,名称:锗化锌(ZnGe)疏散的锗化锌具有一个比其相对较高的折射率,在500NM时N=2.6,在可见光谱区以及12000-14000NM区域具有较少的吸收性并且疏散的锗化锌没有其材质那么硬.使用钽舟将其蒸发到150℃的基板上制备SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜层试图获到长波长IR渐低折射率的光学滤镜.氧化铪,名称:氧化铪(HfO2)在150℃的基板上有用电子用具蒸着,折射率在2.0左右,用氧离子助镀可能取和得2.05-2.1稳定的折射率,在8000-12000NM区HFO2用作铝保护膜外层好过SIO2,透光范围(nm) 折射率(N)550nm 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 杂气排放量,230-7000 2.0 2350 电子用具,增透,高反膜,紫外膜 少,无色圆盘状或灰色颗粒状和片状.


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