其主要缺点是对氧气的阻隔性较差，常用于复合软包装材料的内层薄膜，而且也是目前应用**宽泛、用量比较大的一种塑料包装薄膜，约占塑料包装薄膜耗用量的40%以上。
由于聚乙烯分子中不含极性基团，且结晶度高，表面自由能低，因此，该薄膜的印刷性能较差，对油墨和胶黏剂的附着力差，所以在印刷和复合前需要进行表面处理。
聚酯薄膜（PET）
聚酯薄膜是以聚对苯二甲酸乙二醇酯为原料，采用挤出法制成厚片，再经双向拉伸制成的薄膜材料。它是一种无色透明、有光泽的薄膜，机械性能优良，刚性、硬度及韧性高，耐穿刺，耐摩擦，耐高温和低温，耐化学药品性、耐油性、气密性和保香性良好，是常用的阻透性复合薄膜基材之一。 塑料薄膜可以是透明固体、液体或由两块玻璃所夹的气体薄层。江北区塑料膜高性价比的选择
二氧化硅——名称： 二氧化硅（SiO2）
经验告诉我们，氧离子助镀（IAD)SiO将是SiO2薄膜可再现性问题的一个解决方法，并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜.
SiO2薄膜如果压力过大，薄膜将有气孔并且易碎，相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大，需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性，必要是需要氧气和氩气混合充气，但是这是热镀的情况，冷镀时这种性况不存在.
SiO2用于防反膜，冷光膜，滤光片，绝缘膜，眼镜膜，紫外膜.
透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
200--2000 1.46 1800-2200 防反膜，增透少，升华
无色颗粒状，折射率稳定，放气量少,和OS-10等高折射率材料组合制备截止膜，滤光片等.
南浔区塑料膜欢迎来电塑料薄膜表面处理的方法有化学处理法。
硫化锌
名称：硫化锌（ZnS)
折射率为2.35,400-13000nm的透光范围，具有良好的应力和良好的环境耐久性， ZnS在高温蒸着时极易升华，这样在需要的膜层附着之前它先在基板上形成一无吸附性膜层，因此需要彻底清炉，并且在比较高温度下烘干，花数小时才能把锌的不良效果消除.HASS等人称紫外线（UV）对ZNS有较大的影响，由于紫外线在大气中导致15-20nm厚的硫化锌膜层完全转变成氧化锌(ZNO）。
透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 方式
400--14000 2.35 1000--1100钽钼舟，防反膜， 升华
应有：分光膜，冷光膜，装饰膜，滤光片，高反膜，红外膜.
一氧化硅，名称： 一氧化硅（SiO)，透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，600--8000 1.55，at550nm1.8at1000nm1.6at7000nm 1200-1600 电子用具，钽钼舟 冷光膜装饰膜保护膜，升华，制程特性：棕褐色粉状或细块状.熔点较低，可用钼舟或钛舟蒸发，但需要加盖舟因为此种材料受热直接升华.
使用电子用具加热时不能将电子束直接打在材料上而采用间接加热法.
制备塑料镜片时，一般首层是SiO，可以增加膜的附着力.
名称：OH-5(TiO2+ZrO2）
透光范围（nm) 折射率（N)
550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
在用于电器、电子产品等包装时，则要求薄膜具有一定的防静电性能等等。
折射率受蒸着真空度和蒸发速率影响较大，真空不好即速率低则膜折射率变低；真空度好蒸发速率较快时，膜折射率相对增大，接近1.62
Al2O3蒸发时会产生少量的Al分子造成膜吸收现象，加入适当的O2时，可避免其吸收产生.但是加氧气要注意不要影响到它的蒸发速率否则改变了它的折射率.名称：OS-10(TiO2+ZrO2）透光范围（nm) 折射率（N)550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，250-7000 2.3 2050 电子用具，增透，滤光片，截止膜，一般，制程特性：棕褐色颗粒状. 杂气排放较大，预熔不充分或真空度小于5*10-5Torr时蒸发，其折射率会比2.3小，帮必须充分预熔且蒸发真空度希望大于上述这数值.蒸发此种材料时宜控制衡定的蒸发速率，材料可添加重复使用，为减少杂气排放量，尽量避免全数使用新材料.
塑料薄膜的成型方法，应用较多的是挤出成型和压延成型。泰顺原装塑料膜
双向拉伸聚丙烯薄膜的物理稳定性、机械强度、气密性较好，是应用比较宽泛的印刷塑料薄膜。江北区塑料膜高性价比的选择
这说明该材料不耐用并容易随温度变化而变化.原有的高拉应力随膜厚增大而降低，膜厚增大导致大量的可见光散射.可以用钨钽舟钼舟蒸发而且会升华，在红外线中其穿透性超过12000nm，它没有完全的致密性似乎是其利用受到限制的原因，随着IAD蒸着氟化物条件的改善这种材料的使用前景更为广阔.
氟化钡
名称：氟化钡（BaF2）
与氟化钙具有相似的物理特性，在室温下蒸镀氟化钡，使用较低的蒸着速度时材料的堆积密度为0.66，并且密度变化与蒸着速度增大几乎成正比，在速度为20NM/S堆积密度高达0.83，它的局限性又是它缺乏完全致密性.透过性在高温时移到更长的波长，所以它只能用在红外膜.透光范围（nm) 折射率（N)500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量250-15000 1.48 约1500 电子用具，钼钽钨舟 红外膜少
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