薄膜干涉原理广泛应用于光学表面的检验、微小的角度或线度的精密测量、减反射膜和干涉滤光片的制备等。等倾干涉和等厚干涉是薄膜干涉的两种典型形式。
由薄膜上、下表面反射（或折射）光束相遇而产生的干涉．薄膜通常由厚度很小的透明介质形成．如肥皂泡膜、水面上的油膜、两片玻璃间所夹的空气膜、照相机镜头上所镀的介质膜等．比较简单的簿膜干涉有两种，一种称做等厚干涉，这是由平行光入射到厚度变化均匀、折射率均匀的薄膜上、下表面而形成的干涉条纹．
塑料薄膜性质柔软,粘着性能好,容易粘贴,容易剥离,剥离无残胶。越城区塑料膜来电咨询
在它们的共同作用下，使塑料薄膜表面产生活化、表面能增加。通过电晕处理可使聚烯烃薄膜的湿张力提高到38达因/厘米；可使聚酯薄膜的表面湿张力达到52-56达因/厘米以上。电晕处理塑料薄膜表面湿张力的大小与施加于电极上的电压高低、电极与电晕处理辊之间的距离等因素有关。当然，电晕处理应当适度，并非电晕处理强度越高越好。这里值得注意的是塑料薄膜与电晕处理辊之间应避免夹入空气，否则有可能使薄膜的反面也被电晕处理了。反面电晕造成的后果是：1有可能产生油墨印刷的反粘现象；2在镀铝时会发生镀铝层转移，在涂胶时会发生涂胶层转移。 宝山区塑料膜欢迎来电利用塑料薄膜干涉还可以制造增透膜。
但是对于高速彩色印刷或为增加真空镀铝层与BOPET薄膜表面之间的结合力，也还需要对BOPET薄膜进行表面处理，以进一步提高其表面湿张力。
塑料薄膜表面处理的方法有：电晕处理法、化学处理法、机械打毛法、涂层法等，其中**常采用的是电晕处理法。
电晕处理法的基本原理是：通过在金属电极与电晕处理辊(一般为耐高温、耐臭氧、高绝缘的硅橡胶辊)之间施加高频、高压电源，使之产生放电，于是使空气电离并形成大量臭氧。同时，高能量电火花冲击薄膜表面。
一氧化硅，名称： 一氧化硅（SiO)，透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，600--8000 1.55，at550nm1.8at1000nm1.6at7000nm 1200-1600 电子用具，钽钼舟 冷光膜装饰膜保护膜，升华，制程特性：棕褐色粉状或细块状.熔点较低，可用钼舟或钛舟蒸发，但需要加盖舟因为此种材料受热直接升华.
使用电子用具加热时不能将电子束直接打在材料上而采用间接加热法.
制备塑料镜片时，一般首层是SiO，可以增加膜的附着力.
名称：OH-5(TiO2+ZrO2）
透光范围（nm) 折射率（N)
550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
各种塑料薄膜性能不同，印刷的难易程度也不同，作为包装材料的用途也不同。
氟化铅，名称：氟化铅（PbF2）氟化铅在UV中可用作高折射率材料，在300nm时N=1.998，该材料与钼钽，钨舟接触时折射率将降低，因此需要用铂或陶瓷皿.Ennos指出氟化铅具有相对较低的应力，开始是压力，随着膜厚度的增加张力明显增大，但这与蒸着速度无关.透光范围（nm) 折射率（N)500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，250-17000 1.75 700--1000 电子用具，铂舟，坩锅 红外膜 少，铬，名称：铬（Cr)
铬有时用在分光镜上并且通常用作""胶质层""来增强附着力，胶质层可能在5-50NM的范围内，但在铝镜膜导下面，30NM是增强附着力的有效值.颗粒状可用钨舟蒸发而块状宜用电子用具来蒸发，该材料升华，但是表面氧化物可以防止它蒸发/升华，可以全用铬电镀钨丝.可以用铬作为胶质层对金镜化合物进行韧性处理，也可在塑料上使用铬作为胶质层.也可使用一个螺旋状的钨丝蒸发.它应该是所有材料中具有比较高拉应力的材料.
透光范围（nm) 折射率（N)500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量，⒈5 1300--1400 电子用具，铂舟，钨舟 吸收膜分光膜导电膜加硬膜。
塑料薄膜的成型方法，应用较多的是挤出成型和压延成型。宝山区塑料膜欢迎来电
作为食品包装要求塑料薄膜表面自由能要高、湿张力要大。越城区塑料膜来电咨询
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