科睿设备:深耕科研仪器领域,赋能多学科创新突破。
科睿设备有限公司作为专注于微电子、半导体、过滤设备、生命科学及材料科学研发的进口科研仪器供应商,始终以技术创新为原则,聚焦纳米科技相关设备的引进与推广,为全球科研机构和企业提供高性能解决方案。公司主营的纳米颗粒沉积系统、超高真空PVD系统、粉体镀膜涂覆系统等系列产品,凭借精洗的工艺控制、广泛的应用适配性和稳定的运行表现,成为工业研发与学术研究的主要支撑设备。多年来,科睿设备深耕细分领域,不仅注重产品本身的技术先进性,更致力于为用户提供从设备选型、安装调试到后期运维的全周期服务,助力科研工作者打破技术瓶颈,在催化、光子学、储能、传感器及生命科学等多个前沿领域实现创新突破。无论是共享研究实验室的多用户并行使用需求,还是工业场景下的高精度批量生产要求,科睿设备都能通过定制化的产品配置和专业的技术支持,满足不同用户的诉求,成为科研创新道路上的可靠合作伙伴。 操作人员需经专业培训,熟悉真空系统操作与应急停机流程。薄膜UHV沉积系统定制服务

在电源要求方面,设备需接入稳定的三相交流电(具体电压和频率需根据设备规格确定),并配备单独的接地系统(接地电阻应≤4Ω),以避免电压波动和电磁干扰对设备运行的影响,确保沉积过程的准确控制。在气体供应方面,需配备高纯度的工作气体(如氩气、氮气等,纯度一般要求≥99.999%),并安装相应的气体净化装置和压力调节装置,确保气体供应的稳定性和洁净度,避免气体中的杂质影响沉积质量。此外,安装场地需远离振动源(如大型水泵、空压机等)和强磁场环境,防止振动导致设备部件松动或磁场干扰设备的电子控制系统,影响设备的运行精度。设备安装需由科睿设备专业的技术人员按照规范流程进行,包括设备定位、管路连接、电路接线、真空系统调试等环节,确保设备安装的准确性和安全性。薄膜UHV沉积系统定制服务涂层均匀性不佳时,可通过调整基板旋转速率或优化粒子束流聚焦解决。

PCS粉末涂层系统的设计巧妙,其主要组件是一个配备振动碗的紧凑型真空室。振动装置使粉末在沉积过程中处于持续、温和的流化状态,确保了每一个粉末颗粒都能均匀地暴露于PVD源产生的粒子流中,从而实现涂层的均匀全覆盖。系统提供三种不同容量的振动碗,可处理2升的粉末样品,兼顾了实验研发与小批量制备的需求。
视线沉积技术是PVD过程的本质特点之一,它确保了涂层材料只沿着直线路径飞行并沉积在暴露的粉末表面。这种特性带来了涂层的不可伪造性,即被遮挡的区域不会形成涂层,这使得该技术特别适合于需要图案化涂层或局部改性的应用。同时,结合振动碗的均匀混合,系统在粉末整体上实现了高度均匀的覆盖。
在光子器件制造中,系统能够在光学基板、光纤端面等关键部位精细沉积光学薄膜,实现增透、反射、滤波等功能,例如在激光器件中,通过沉积高均匀性的介质薄膜,可提升激光的输出效率和稳定性;在光传感器中,通过沉积纳米颗粒敏感层,可增强器件对特定波长光的响应灵敏度。此外,NL-FLEX 系统的多基材适配性的优势,能够满足柔性光子器件、非平面光学元件等新型光子器件的制备需求,为光子学领域的创新研究提供了更多可能。同时,系统的先进过程控制功能可确保沉积层的厚度均匀性和光学性能一致性,为光子器件的批量生产和性能优化提供了可靠保障。无碳氢化合物纳米颗粒制备能力,适配高纯度材料研发的严苛要求。

NL-FLEX多功能沉积系统:全场景基材适配,解锁多元应用可能
NL-FLEX作为科睿设备有限公司旗下明星产品,以“全场景基材兼容+多技术集成”的设计,成为纳米科技领域的多功能创新平台。与传统沉积设备只能适配平面基材不同,NL-FLEX打破了基材类型的限制,能够轻松容纳卷对卷柔性材料、非平面异形件以及粉末状基材,无论是工业生产中批量处理的柔性薄膜,还是科研实验中特殊形状的功能部件,都能实现均匀、高效的纳米颗粒或薄膜沉积。这一优势使得该系统在多个领域展现出强大的应用潜力:在柔性电子领域,可实现柔性基板上的纳米导电层沉积;在生物医药领域,能为非平面医用器件表面修饰生物相容性纳米涂层;在材料科学领域,可对粉末状催化剂进行精细改性。同时,NL-FLEX集成了纳米颗粒沉积、薄膜沉积等多种技术,配合QMS质量过滤器的实时纳米颗粒过滤功能,能够根据不同应用需求灵活切换工艺模式,实现从单一纳米颗粒沉积到复合薄膜制备的多元工艺组合。此外,系统支持自定义配置选项和先进的过程控制功能,用户可根据实验要求调整沉积速率、颗粒尺寸、薄膜厚度等关键参数,进一步提升了工艺的灵活性和准确度,成为工业研发与学术研究中应对复杂需求的理想选择。 粉体镀膜涂覆系统采用无化学工艺,实现粉末表面无机薄膜洁净沉积。薄膜UHV沉积系统定制服务
它为二维材料异质结的可控构筑提供了理想制备平台。薄膜UHV沉积系统定制服务
在催化领域,催化剂的活性、选择性和稳定性直接决定了催化反应的效率和经济性,而催化剂的表面结构和活性组分分布是影响其性能的主要因素。科睿设备有限公司的纳米颗粒沉积系统和超高真空 PVD 系统,为催化材料的准确设计与制备提供了强大的技术手段。通过超高真空环境下的超纯非团聚纳米颗粒沉积,可将 Pt、Ir₂O₃、CuO、Ru、Ni、NiO 等高性能催化活性组分,以纳米尺度均匀分散在载体表面,形成高比表面积、高活性位点密度的催化涂层。这种制备方式能够精细控制活性组分的颗粒尺寸、分散度和负载量,有效避免了传统浸渍法中活性组分团聚、分布不均等问题,明显提升了催化剂的活性和选择性。薄膜UHV沉积系统定制服务
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