华东高品质四氟化碳优选企业

    四氟化碳与氧在高温下不反应]四氟化炭是目前微电子行业使用比较多的等离子蚀刻气体，它是由高纯气与高纯气配高纯氧的混合物，可用于硅粉、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和钨薄膜材料的蚀刻。在使用CF4-H2反应离子刻蚀的硅及二氧化硅系统中，通过调节两种气体的比例，可以获得45:1的选择性，这对刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜是非常有用的。危害概览危险类别：：吸入健康危险：吸入浓度高的四氟化碳后，出现呼吸困难、呕吐等窒息症状。 四氟化碳的化学性质稳定，在通常情况下，它与硅直接接触，也不会发生化学反应。华东高品质四氟化碳优选企业

    四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常环境下是相对惰性的，在不通风的地方会引起窒息。在射频等离子体环境中，氟自由基表现为典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高纯度的四氟化碳能很好的控制加工过程，使尺寸和形状得到更好的控制，这不同于其他的卤烃遇到空气或氧气时不利于各种特殊的控制（如半导体各项异性控制）。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯阳氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。 无锡新能源四氟化碳厂家供货所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中，需要使用四氟化碳。

作为关键性原材料，特种电子气体的产品质量对下游产业影响很大，例如对晶圆加工生产商而言，若生产用的气体产品发生质量问题，将导致整条生产线产品报废，造成巨额损失。因此，精密化程度非常高的大规模集成电路厂商对气体供应商的选择都会非常审慎和严格。国内外企业市场份额占比悬殊的主要缘由之一便是难以在短期内弥补的技术差距。特种电子气体生产是一个系统工程，涉及到气体的深度提纯技术、痕量杂质分析检测技术、气瓶的内表面处理技术、尾气的处理技术等。

    四氯化碳有什么作用？四氯化碳可以做萃取剂来萃取有机物（极性分子相似相溶）。萃取实验中萃取出的碘单质是紫红色的，而其他卤素也会有其他对应的颜色，所以四氯化碳有的时候用于卤素除杂与鉴定；曾用作灭火剂但是由于在一些条件下四氯化碳会产生窒息性的剧毒气体——光气;另外它也不能用于扑灭活泼金属钾、钠的失火，因四氯化碳会强烈分解。现被1211灭火剂替代；可与水置于同一容器防倒吸（利用密度梯度分离，导气管需伸入下层）。 .由碳与氟反应，或一氧化碳与氟反应。

四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。淄博迪嘉5N四氟化碳气体常用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术，  四氟化碳又称四氟甲烷,分子量为88.01,无色无味气体.微溶于水,在25℃、1大气压时，溶解度为0。0015%（重量）。常温下是压缩气体。 与可燃性气体一起燃烧时，发生分解，产生的氧化物。江浙沪直销四氟化碳优选企业

四氟化碳可用于金属冶炼。华东高品质四氟化碳优选企业

     四氟化碳有以下用途：用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体，用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂；是微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用；用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术。 华东高品质四氟化碳优选企业

上海隆鑫工业气体有限公司致力于化工，以科技创新实现高品质管理的追求。隆鑫拥有一支经验丰富、技术创新的专业研发团队，以高度的专注和执着为客户提供超纯气，电子气，标准气，同位素气体。隆鑫继续坚定不移地走高质量发展道路，既要实现基本面稳定增长，又要聚焦关键领域，实现转型再突破。隆鑫始终关注自身，在风云变化的时代，对自身的建设毫不懈怠，高度的专注与执着使隆鑫在行业的从容而自信。