超纯水基本参数
  • 品牌
  • 威立特
  • 型号
  • H2O
  • CAS
  • 7732-18-5
  • 保存条件
  • 避光、常温
  • 产品等级
  • 一级
  • 密度
  • 1000000
  • 厂家
  • 苏州威立特环保科技有限公司
  • 产品规格
  • 25KG/桶
  • 执行标准
  • 国标
  • 有效物质含量
  • 1
  • 产地
  • 苏州
超纯水企业商机

在电力工业中,超纯水扮演着举足轻重的角色。特别是在蒸汽发电领域,锅炉用水必须是超纯水。水中的杂质,如钙、镁等离子,在高温高压的锅炉环境下会形成水垢,附着在锅炉管道内壁,降低热传递效率,增加能源消耗,甚至可能引发管道堵塞、破裂等严重安全事故。超纯水能够有效避免这些问题,保证锅炉的高效、安全运行。同时,在核电站中,超纯水用于冷却核反应堆芯,其高纯度和稳定的化学性质能够确保在极端辐射和高温条件下,有效地带走热量,维持核反应堆的稳定运行,防止放射性物质泄漏,对保障核电站的安全运行和周围环境的保护起着至关重要的作用。超纯水在航空航天领域用于零部件清洗与试验。北京介绍超纯水

超纯水

紫外线杀菌(UV) 杀菌原理 紫外线杀菌是利用紫外线(主要是 254nm 波长的紫外线)照射破坏微生物的 DNA 结构,使微生物失去繁殖和生存能力。对于水中残留的细菌、病毒和藻类等微生物,紫外线照射能够有效地将它们杀灭,从而保证超纯水的微生物指标符合要求。 设备配置 紫外线杀菌设备通常由紫外灯、石英套管和反应器组成。紫外灯发出的紫外线透过石英套管照射在水中,为了确保杀菌效果,要根据处理水量和水质来确定紫外灯的功率和数量,同时要保证水在反应器中的停留时间足够长,一般在几秒到几十秒之间。上海什么是超纯水销售公司超纯水在橡胶工业中用于特殊配方的调配。

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物理过滤过程:反渗透是一种物理过滤方式,无需添加化学试剂,不会引入新的化学物质到水中,避免了化学残留对水质的影响,这对于对水质纯净度要求极高的行业,如电子工业、制药行业等尤为重要,可有效保证产品质量和安全性178.高脱盐率与高纯净度:在去除有机污染物的同时,还可去除水中的溶解性固体、胶体、细菌、病毒等杂质,很好的提高水的纯度,满足对水质要求极高的应用场景,如电子行业中半导体器件制造对超纯水的需求1811.技术成熟,设备稳定:反渗透技术发展成熟,设备运行稳定可靠。只要控制好操作条件,如压力、温度、进水水质等,系统就能持续稳定地去除有机污染物,并可配备自动化监测和控制系统,实时监测运行参数,及时发现和处理问题,保障稳定供水,适合大规模连续生产1811.与蒸馏法对比:虽然反渗透过程需要一定压力驱动水通过半透膜,但相较于蒸馏法等其他高级净化技术,其能耗要低得多,可很好的降低生产成本和对环境的影响,在长期运行中更具经济优势18.

连接管道:采用耐酸碱的塑料管道(如 UPVC 或 PVDF)连接清洗水箱、清洗泵和反渗透膜组件,管道直径根据流量计算确定,同时要保证连接牢固、无泄漏。化学药剂,酸性清洗剂:如柠檬酸,纯度不低于 99%,用于去除钙、镁等无机盐垢。根据膜污染程度,将柠檬酸配制成 0.2% - 0.5%(质量分数)的溶液,例如,对于 5m³ 的清洗水箱,需称取 10 - 25kg 柠檬酸,先在少量水中溶解后再加入清洗水箱并补充水至规定体积。碱性清洗剂:可选用氢氧化钠,纯度不低于 96%,用于去除有机物和生物膜污染。配制成 0.1% - 0.3%(质量分数)的氢氧化钠溶液,操作方法同酸性清洗剂配制。氧化剂清洗剂:如过氧化氢(浓度为 30%)或次氯酸钠(有效氯含量不低于 10%),用于处理生物膜和一些难以氧化的有机物。过氧化氢溶液浓度可配制成 0.1% - 0.3%(体积分数),次氯酸钠溶液有效氯浓度控制在 200 - 500ppm,配制时需注意安全,在通风良好的环境下操作并穿戴防护用品。超纯水在电力行业用于发电机组冷却与化学分析。

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总有机碳(TOC)的检测方法,高温燃烧法,原理:将水样中的有机物质在高温(通常为 900℃-1200℃)下完全氧化为二氧化碳,然后利用非色散红外检测器(NDIR)对二氧化碳进行定量检测,从而计算出总有机碳的含量。适用范围:适用于海水、江河、工业废水等污染较重的水体以及 TOC 浓度较高或含有高水平颗粒物的水样。优点:氧化彻底,测量精度高,可检测到 ppb 级的 TOC,适用于各种类型的有机物氧化。缺点:仪器设备昂贵,运行成本高,对样品的前处理要求较高,需要去除悬浮物和金属氧化物等干扰物质。超纯水在纺织印染行业用于品质染料配制。上海什么是超纯水销售公司

超纯水在体育器材制造中用于材料处理。北京介绍超纯水

电子行业 在半导体制造领域,超纯水的应用极为关键。芯片制造过程中,从硅片的清洗、光刻、蚀刻到离子注入等各个工序,都需要超纯水。例如,在硅片清洗过程中,超纯水可以有效去除硅片表面的颗粒、有机物和金属离子等杂质。因为芯片的线宽非常小,微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或出现性能问题。在光刻工艺中,超纯水用于冲洗光刻胶,确保光刻图案的准确性。其高纯度能够避免水中杂质对光刻胶的溶解特性产生影响,从而保障芯片的高精度制造。 对于电子元器件的生产,如电路板的制作,超纯水也不可或缺。它用于清洗电路板,去除焊接过程中产生的助焊剂残留物、金属屑等杂质。这些杂质如果残留在电路板上,可能会引起电路的腐蚀或短路,影响电子产品的可靠性和使用寿命。北京介绍超纯水

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原理:反渗透是在压力驱动下,利用半透膜的特性,使水从高浓度一侧(原水侧)向低浓度一侧(透过液侧)渗透。半透膜的孔径非常小,一般在 0.1 - 1 纳米之间,能够有效截留水中的大部分有机污染物,包括大分子有机物(如蛋白质、多糖等)和许多小分子有机物(如农药、染料等)。只有水分子和极少数小分子能够通过半...

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