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    图1为本发明实施例提供的一种抛光减薄装置的结构示意图；图2为本发明实施例提供的一种托盘和待加工部件的键合固定方式示意图；图3为本发明实施例提供的一种磁转子的结构示意图；图4为本发明实施例提供一种磁转子的旋转方式的示意图；图5为本发明实施例提供的一种抛光减薄方法的流程示意图。具体实施方式以上是本发明的思想，为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。本发明实施例提供了一种抛光减薄装置，用于对inp基晶圆等部件进行抛光减薄，如图1所示，包括托盘10、喷头11和磁转子12，当然，本发明实施例中的抛光减薄装置还包括反应室13等，托盘10、喷头11和磁转子12等在反应室13内进行抛光和减薄反应。其中，托盘10，可选为石英托盘，用于固定待加工部件20，待加工部件20包括inp基晶圆。喷头11用于向待加工部件20的待加工表面喷涂抛光液110，以对待加工表面进行抛光。无锡半导体减薄用清洗剂推荐货源减薄清洗剂，轻松应对各种涂层挑战，让您的工作更轻松。

    将待加工部件固定在托盘上包括：采用光刻胶将待加工部件固定在托盘上。具体地，将待加工部件背面喷涂厚度约为2μm的光刻胶，如az4620光刻胶，然后在托盘表面喷涂厚度约为3μm的光刻胶，如az4620光刻胶，之后，将托盘光刻胶面向上放于温度为90℃的热板上，将待加工部件光刻胶面和托盘光刻胶面贴合，在2×10-2mabr真空下，施加1bar压强于待加工部件上进行键合，键合时间20min。s102：通过喷头向待加工部件的待加工表面喷涂抛光液，来对待加工表面进行抛光；s103：通过磁转子旋转对待加工表面进行机械研磨，来对待加工表面进行减薄。可选地，本发明实施例中，s102和s103可以交替进行，也就是说，控制磁转子旋转一段时间后，控制磁转子停止旋转，并控制喷头喷涂抛光液，停止喷涂抛光液后，再次控制磁转子旋转，以此类推。本发明实施例中，通过磁转子和喷头交替工作，实现了减薄和抛光两种工艺交替作用，使得减薄和抛光一体化完成，整个过程稳定，速度快，控制性好，重复度高，无粉尘污染，衬底减薄终厚度达到20μm，抛光面ra＜2nm。由于减薄过程中待加工部件20如inp基晶圆本身不旋转，因此，可以降低抛光减薄过程中对待加工部件20如inp基晶圆的挤压应力。

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减薄用清洗剂的适用人群有哪些？深圳什么是减薄用清洗剂什么价格

    若干所述侧支撑件44固定设置在所述固定板423的端面上；所述固定板423两端均设置有至少两个固定卡块427，所述固定卡块427一般设置为矩形横截面结构，便于所述固定板423端面的朝向定位；对应的，所述调节槽内设置有固定槽426，当所述固定板423两端各自的两所述固定卡块427分别设置于对应的所述固定槽426内时，设置有所述侧支撑件44的端面对应所述竖直平板421上的所述侧支撑件44，且设置所述侧支撑件44的所述竖直平板421和所述固定板423设置在所述底支撑件43的两侧，从而实现对所述盛放部内玻璃的支撑限位。其中，如图3所示，所述侧板422上所述调节槽的一种实施方式为，所述调节槽包括若干水平槽424和与所述水平槽424均竖直贯通连接的竖直槽425，所述固定槽426设置于所述水平槽424的下边缘，所述固定槽426对应所述固定卡块427设置为u型槽，从而便于固定所述固定卡块427的摆放位置。所述水平槽424和所述竖直槽425的尺寸均对应所述固定卡块427的尺寸设置，使所述固定卡块427可在所述水平槽424和所述竖直槽425内自由移动。在本实施方式中，两所述竖直平板421中一所述竖直平板421上设置有所述侧支撑件44，同一所述水平槽424多只设置一个所述固定卡块427。深圳什么是减薄用清洗剂什么价格