EVG6200 NT附加功能:
键对准
红外对准
纳米压印光刻(NIL)
EVG6200 NT技术数据:
曝光源
汞光源/紫外线LED光源
先进的对准功能
手动对准/原位对准验证
自动对准
动态对准/自动边缘对准
对准偏移校正算法
EVG6200 NT产能:
全自动:第/一批生产量:每小时180片
全自动:吞吐量对准:每小时140片晶圆
晶圆直径(基板尺寸):高达200毫米
对准方式:
上侧对准:≤±0.5 µm
底侧对准:≤±1,0 µm
红外校准:≤±2,0 µm /具体取决于基板材料
键对准:≤±2,0 µm
NIL对准:≤±3.0 µm
曝光设定:真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式
楔形补偿:全自动软件控制
曝光选项:间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光
系统控制
操作系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数
多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR
实时远程访问,诊断和故障排除
工业自动化功能:盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,弯曲,翘曲,边缘晶圆处理
纳米压印光刻技术:SmartNIL 可以在EVG105烘烤模块上执行软烘烤、曝光后烘烤和硬烘烤操作。HERCULES光刻机优惠价格
IQ Aligner工业自动化功能:盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,弯曲,翘曲,边缘晶圆处理
晶圆直径(基板尺寸):高达200毫米
对准方式:
上侧对准:≤±0.5 µm
底侧对准:≤±1,0 µm
红外校准:≤±2,0 µm /具体取决于基板材料
曝光设定:真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式
曝光选项:间隔曝光/洪水曝光
系统控制
操作系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数
多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR
实时远程访问,诊断和故障排除
产能
全自动:第/一批生产量:每小时85片
全自动:吞吐量对准:每小时80片 安徽光刻机用于生物芯片HERCULES平台是“一站式服务”平台。
EVG ® 150光刻胶处理系统技术数据:
模块数:
工艺模块:6
烘烤/冷却模块:**多20个
工业自动化功能:
Ergo装载盒式工作站/ SMIF装载端口/ SECS / GEM / FOUP装载端口
智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)
用于过程和机器控制的集成分析功能
并行任务/排队任务处理功能
设备和过程性能跟/踪功能
智能处理功能
事/故和警报分析/智能维护管理和跟/踪
晶圆直径(基板尺寸):高达300毫米
可用模块:
旋涂/ OmniSpray ® /开发
烘烤/冷却
晶圆处理选项:
单/双EE /边缘处理/晶圆翻转
弯曲/翘曲/薄晶圆处理
IQ Aligner®NT特征:
零辅助桥接工具-双基板概念,支持200
mm和300 mm的生产灵活性
吞吐量> 200 wph(首/次打印)
尖/端对准精度:
顶侧对准低至250 nm
背面对准低至500 nm
宽带强度> 120 mW /cm²(300毫米晶圆)
完整的明场掩模移动(FCMM)可实现灵活的图案定位并兼容暗场掩模对准
非接触式原位掩膜到晶圆接近间隙验证
超平坦和快速响应的温度控制晶片卡盘,出色的跳动补偿
手动基板装载能力
返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统
远程技术支持和GEM300兼容性
智能过程控制和数据分析功能[Framework Software Platform]
用于过程和机器控制的集成分析功能
设备和过程性能跟/踪功能
并行/排队任务处理功能
智能处理功能
发生和警报分析
智能维护管理和跟/踪 HERCULES以**小的占地面积结合了EVG精密对准和光刻胶处理系统的所有优势。
IQ Aligner®NT曝光设定:硬接触/软接触/接近模式/柔性模式
楔形补偿:全自动软件控制;非接触式
IQ Aligner®NT曝光选项:间隔曝光/洪水曝光
先进的对准功能:自动对准
暗场对准功能/完整的明场掩模移动(FCMM)
大间隙对准
跳动控制对准
IQ Aligner®NT系统控制:
操作系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数
多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR
实时远程访问,诊断和故障排除
如果您需要确认准确的产品的信息,请联系我们。如果需要键合机,请看官网信息。 EVG同样为客户提供量产型掩模对准系统。HERCULES光刻机优惠价格
只有接近客户,才能得知客户**真实的需求,这是我们一直时刻与客户保持联系的原因之一。HERCULES光刻机优惠价格
EVG®610 掩模对准系统
■ 晶圆规格
:100 mm / 150 mm / 200 mm
■ 顶/底部对准精度达到 ± 0.5 µm / ± 1.0 µm
■ 用于双面对准高/分辨率顶部和底部分裂场显微镜
■ 软件,硬件,真空和接近式曝光
■ 自动楔形补偿
■ 键合对准和NIL可选
■ 支持**/新的UV-LED技术
EVG®620 NT / EVG®6200 NT
掩模对准系统(自动化和半自动化)
■ 晶圆产品规格
:150 mm / 200 mm
■ 接近式楔形错误补偿
■ 多种规格晶圆转换时间少于5分钟
■ 初次印刷高达180 wph / 自动对准模式为140 wph
■ 可选**的抗震型花岗岩平台
■ 动态对准实时补偿偏移
■ 支持**/新的UV-LED技术 HERCULES光刻机优惠价格