EVG ® 510 HE热压印系统
应用:高度灵活的热压印系统,用于研发和小批量生产
EVG510 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。该设备配置有通用压花室以及真空和接触力功能,并管理适用于热压印的全部聚合物。结合高纵横比压印和多种脱压选项,提供了许多用于高质量纳米图案转印的工艺。
EVG ® 510 HE特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用
自动化压花工艺
EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印
完全由软件控制的流程执行
闭环冷却水供应选项
外部浮雕和冷却站 EVG提供不同的***积压印系统,大面积压印机,微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。EVG720纳米压印微流控应用

UV纳米压印光刻系统
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统
■高精度对准台
■自动楔形误差补偿机制
■电动和程序控制的曝光间隙
■支持***的UV-LED技术
■**小化系统占地面积和设施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自动化的全场纳米压印解决方案,适用于第3代基材
■体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度
■专有的SmartNIL®技术和多用途聚合物印章技术
■集成式压印,UV固化,脱模和工作印模制作
■盒带间自动处理以及半自动研发模式
■适用于所有市售压印材料的开放平台
重庆纳米压印联系电话HERCULES NIL 300 mm提供市场上**纳米压印功能,具有较低的力和保形压印,快速高功率曝光和平滑压模分离。

EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积上的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术,具有非常高的复制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高长宽比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。
NILPhotonics®能力中心-支持和开发
NILPhotonics能力中心是经过验证的创新孵化器。
欢迎各位客户来样制作,验证EVG的纳米压印设备的性能。
该公司的高科技粘合剂以功能与可靠性闻名于世。根据客户的专门需求,公司对这些聚合物作出调整,使其具备其它特征。它们极其适合工业环境,在较短的生产周期时间内粘合各种微小的元件。此外,DELO紫外线LED固化设备与点胶阀的可靠度十分杰出。关于德路德路(DELO)是世界前列的工业粘合剂制造商,总部位于德国慕尼黑附近的Windach。在美国、中国、新加坡及日本均设有子公司。2019财政年,公司的780名员工创造了。该公司产品在全球范围内广泛应用于汽车、消费类电子产品与工业电子产品。几乎每一部智能手机与超过一半的汽车上都使用该公司产品。DELO的客户包括博世、戴姆勒、华为、欧司朗、西门子以及索尼等。关于EVGroup(EVG)EV集团(EVG)是为生产半导体、微机电系统(MEMS)、化合物半导体、功率器件以及纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的**供应商。该公司主要产品包括晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/纳米压印光刻技术(NIL)与计量设备,,以及涂胶机、清洗机与检测系统。EV集团创办于1980年,可为遍及全球的众多客户与合作伙伴提供各类服务与支持。EVG620 NT支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,以及背面对准选项。

EVG610特征:
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和光刻工艺之间的转换
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG610附加功能:
键对准
红外对准
纳米压印光刻
µ接触印刷
EVG610技术数据:
晶圆直径(基板尺寸)
标准光刻:比较大150毫米的碎片
柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:柔软的UV-NIL
曝光源:汞光源或紫外线LED光源
自动分离:不支持
工作印章制作:外部
SmartNIL 非常适合对具有复杂纳米结构微流控芯片进行高精度图案化,用在下一代药 物研究和医学诊断设备生产。陕西纳米压印用途是什么
EV Group 提供完整的UV 紫外光纳米压印光刻(UV-NIL)产品线。EVG720纳米压印微流控应用
它为晶圆级光学元件开发、原型设计和制造提供了一种独特的方法,可以方便地接触***研发技术与材料。晶圆级纳米压印光刻和透镜注塑成型技术确保在如3D感应的应用中使用小尺寸的高 分辨率光学传感器供应链合作推动晶圆级光学元件应用要在下一代光学传感器的大众化市场中推广晶圆级生产,先进的粘合剂与抗蚀材料发挥着不可取代的作用。开发先进的光学材料,需要充分地研究化学、机械与光学特性,以及已被证实的大规模生产(HVM)的可扩展性。拥有在NIL图形压印和抗蚀工艺方面的材料兼容性,以及自动化模制和脱模的专业知识,才能在已验证的大规模生产中,以**小的形状因子达到晶圆级光学元件的比较好性能。材料供应商与加工设备制造商之间的密切合作,促成了工艺流程的研发与改善,确保晶圆级光学元件的高质量和制造的可靠性。EVG和DELO的合作将支持双方改善工艺流程与产品,并增强双方的专业技能,从而适应当前与未来市场的要求。双方的合作提供了成熟的材料与专业的工艺技术,并将加快新产品设计与原型制造的速度,为双方的客户保驾护航。“NILPhotonics解决方案支援中心的独特之处是:它解决了行业内部需要用更短时间研发产品的需求,同时保障比较高的保密性。EVG720纳米压印微流控应用
岱美仪器技术服务(上海)有限公司致力于仪器仪表,以科技创新实现***管理的追求。岱美中国拥有一支经验丰富、技术创新的专业研发团队,以高度的专注和执着为客户提供半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪。公司继续坚定不移地走高质量发展道路,既要实现基本面稳定增长,又要聚焦关键领域,实现转型再突破。岱美中国始终关注自身,在风云变化的时代,我们对自身的建设毫不懈怠,高度的专注与执着使我们在行业的从容而自信。