HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL
®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。
EVG的HERCULES ® NIL产品系列
HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL
® UV-NIL系统达200毫米
对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案,具有EVG's专有SmartNIL ®印迹技术
HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟 踪解决方案,适用于比较大200 mm的晶圆,是EVG的NIL产品组合的***成员。HERCULES
NIL基于模块化平台,将EVG专有的SmartNIL压印技术与清洁,抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤相结合。这将HERCULES NIL变成了“一站式服务”,将裸露的晶圆装载到工具中,然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。 EVG ® 770是分步重复纳米压印光刻系统,使用分步重复纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作。EVG610纳米压印三维芯片应用
EVG ® 620 NT特征:
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形补偿序列
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和转换工具
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG ® 620 NT附加功能:
键对准
红外对准
SmartNIL
µ接触印刷技术数据
晶圆直径(基板尺寸)
标准光刻:比较大150毫米的碎片
柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片
SmartNIL ®:在100毫米范围
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:软UV-NIL&SmartNIL
®
曝光源:汞光源或紫外线LED光源
对准:
软NIL:≤±0.5 µm
SmartNIL ®:≤±3微米
自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL
®:支持
工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部:SmartNIL ®:支持
广西纳米压印美元报价SmartNIL集成多次使用的软标记处理功能,并具有显着的拥有成本的优势,同时保留可扩展性和易于维护的特点。
EVG ® 6200 NT是SmartNIL
UV纳米压印光刻系统。
用UV纳米压印能力设有EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术范围达150m。这些系统以其自动化的灵活性和可靠性而著称,以**小的占地面积提供了**
新的掩模对准技术。操作员友好型软件,**短的掩模和工具更换时间以及高 效的全球服务和支持使它们成为任何研发环境(半自动批量生产)的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并且可以选择背面对准。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。
EVG ® 6200 NT特征:
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形补偿序列
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和转换工具
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG ® 6200 NT附加功能:
键对准
红外对准
智能NIL ®
µ接触印刷技术数据
晶圆直径(基板尺寸)
标准光刻:75至200 mm
柔软的UV-NIL:75至200毫米
SmartNIL ®:**多至150mm
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:软UV-NIL&SmartNIL
®
曝光源:汞光源或紫外线LED光源
对准:软NIL:≤±0.5 µm;SmartNIL ®:≤±3微米
自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL
®:支持
工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持
EVG紫外光纳米压印系统有: EVG®610,EVG®620NT,EVG®6200NT,EVG®720,EVG®7200等。
SmartNIL是一项关键的启用技术,可用于显示器,生物技术和光子应用中的许多新创新。例如,SmartNIL提供了****的全区域共形压印,以便满足面板基板上线栅偏振器的**重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化,以支持下一代药 物研究和医学诊断设备的生产。此外,SmartNIL的***发展为制造具有比较高功能,**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度,这对于实现衍射光学元件(DOE)至关重要。
特征:
体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度
专有SmartNIL ®技术,多使用聚合物印模技术
经过生产验证的分辨率低至40 nm或更小
大面积全场压印
总拥有成本比较低
在地形上留下印记
对准能力
室温过程
开放式材料平台 EVG ® 520 HE是热压印系统。海南纳米压印代理价格
EVG620 NT是以其灵活性和可靠性而闻名的,因为它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。EVG610纳米压印三维芯片应用
EV集团和肖特携手合作,证明300-MM光刻/纳米压印技术在大体积增强现实/混合现实玻璃制造中已就绪联合工作将在EVG的NILPhotonics®能力中心开展,这是一个开放式的光刻/纳米压印(NIL)技术创新孵化器,同时也是全球***可及的300-mm光刻/纳米压印技术线2019年8月28日,奥地利,圣弗洛里安――微机电系统(MEMS)、纳米技术和半导体市场晶圆键合与光刻设备**供应商EV集团(EVG)***宣布,与特种玻璃和微晶玻璃领域的**技术集团肖特携手合作,证明300-mm(12英寸)光刻/纳米压印(NIL)技术在下一代增强现实/混合现实(AR/MR)头戴显示设备的波导/光导制造中使用的高折射率(HRI)玻璃晶圆的大体积图案成形已就绪。此次合作涉及EVG的专有SmartNIL®工艺和SCHOTTRealView™高折射率玻璃晶圆,将在EVG位于奥地利总部的NILPhotonics®能力中心进行。肖特将于9月4日至7日在深圳会展中心举行的中国国际光电博览会上展示一款采用EVGSmartNIL技术进行图案成形的300-mmSCHOTTRealView™玻璃晶圆。300-mm和200-mmSCHOTTRealView™玻璃基板,装配在应用SmartNIL®UV-NIL技术的EVG®HERCULES®。EVG610纳米压印三维芯片应用
岱美仪器技术服务(上海)有限公司创建于2002-02-07,注册资金 100-200万元,是一家专注磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 的公司。唯才是举,唯能是用:拥有优秀人才11~50人和,是实现企业战略目标的基础,是企业持续发展的动力。公司以诚信为本,业务领域涵盖[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ],我们本着对客户负责,对员工负责,更是对公司发展负责的态度,争取做到让每位客户满意。目前公司已经成为[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]的**企业,正积蓄着更大的能量,向更广阔的空间、更***的领域拓展。