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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

纳米压印光刻(NIL) -SmartNIL ®

用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺

介绍:

EVG是纳米压印光刻(NIL)的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年,掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究,开发和现场经验进行了优化,以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。

如果要获得详细信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司或者访问官网。


EVG紫外光纳米压印系统还有:EVG®7200LA,HERCULES®NIL,EVG®770,IQAligner®等。镜片成型纳米压印三维芯片应用

镜片成型纳米压印三维芯片应用,纳米压印

EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印

完全由软件控制的流程执行

闭环冷却水供应选项

外部浮雕和冷却站


EVG ® 510 HE技术数据:

加热器尺寸:150毫米 ,200毫米

比较大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:单芯片,100毫米

比较大接触力:10、20、60 kN

比较高温度:标准:350°C;可选:550°C

夹盘系统/对准系统

150毫米加热器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加热器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

标准:0.1毫巴


可选:0.00001 mbar


热压印纳米压印有谁在用EVG ® 720是自动SmartNIL ® UV紫外光纳米压印光刻系统。

镜片成型纳米压印三维芯片应用,纳米压印

对于压印工艺,EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到比较大直径150 mm。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外,还可以包括用于印章的释放机构。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力,以实现高产量的压印,该卡盘支持软性和硬性印模。


EVG610特征:

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和光刻工艺之间的转换

台式或带防震花岗岩台的单机版


附加功能:

键对准

红外对准

纳米压印光刻 

µ接触印刷


    据外媒报道,美国威斯康星大学麦迪逊分校(UWMadison)的研究人员们,已经同合作伙伴联手实现了一种突破性的方法。不仅**简化了低成本高性能、无线灵活的金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的制造工艺,还克服了许多使用标准技术制造设备时所遇到的操作上的问题。该技术可用于制造大卷的柔性塑料印刷线路板,并在可穿戴电子设备和弯曲传感器等领域派上大用场。研究人员称,这项突破性的纳米压印平板印刷制造工艺,可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶体管。由于出色的低电流需求和更好的高频性能,MOSFET已经迅速取代了电子电路中常见的双极晶体管。为了满足不断缩小的集成电路需求,MOSFET尺寸也在不断变小,然而这也引发了一些问题。SmartNIL的主要技术是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。

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HERCULES®NIL:完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产

■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸(分辨率取决于过程和模板)

■结合了预处理(清洁/涂布/烘烤/冷却)和SmartNIL®技术

■全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章

■具备工作印章制造能力


EVG®770:连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作

■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造,直至SmartNIL®的纳米结构

■不同类型的母版的简单实现

■可变的光刻胶分配模式

■分配,压印和脱模过程中的实时图像

■用于压印和脱模的原位力控制


EVG620 NT是以其灵活性和可靠性而闻名的,因为它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。镜片成型纳米压印三维芯片应用

EVG620 NT支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,以及背面对准选项。镜片成型纳米压印三维芯片应用

    ”EV集团的技术研发与IP主管MarkusWimplinger说,“通过与供应链的关键企业的合作,例如DELO,我们能够进一步提高效率,作为与工艺和设备**们一同研究并建立关键的新生产线制造步骤的中心。”“EVG和DELO分别是晶圆级光学仪器与NIL设备与光学材料的技术与市场**企业。双方在将技术与工艺流程应用于大规模生产方面有可靠的经验,”DELO的董事总经理RobertSaller说道。“通过合作,我们将提供自己独特的技术,将晶圆级工艺技术应用于光学器件和光电器件制造中,EVG也成为我们***产品开发的理想合作伙伴。这种合作还将使我们以应用**和前列合作伙伴的身份为客户服务。"晶圆级光学元件的应用解决方案EVG的晶圆级光学器件解决方案为移动式消费电子产品提供多种新型的光学传感设备。主要的例子是:3D感应,飞行时间,结构光,生物特征身份认证,面部识别,虹膜扫描,光学指纹,频谱检测,环境感应与红外线成像。其它应用领域包括汽车照明,光地毯,平视显示器,车内感应,激光雷达,内窥镜照相机医学成像,眼科设备与手术机器人。EVG的晶圆级光学仪器解决方案得到公司的NILPhotonics解决方案支援中心的支持。DELO创新的多功能材料几乎可以在世界上每部手机上找到。镜片成型纳米压印三维芯片应用

岱美仪器技术服务(上海)有限公司创办于2002-02-07,是一家贸易型的公司。经过多年不断的历练探索和创新发展,是一家其他有限责任公司企业,随着市场的发展和生产的需求,与多家企业合作研究,在原有产品的基础上经过不断改进,追求新型,在强化内部管理,完善结构调整的同时,优良的质量、合理的价格、完善的服务,在业界受到***好评。公司目前拥有***员工11~50人人,具有[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]等多项业务。岱美中国顺应时代发展和市场需求,通过**技术,力图保证高规格高质量的[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]。

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