为什么要在真空镀膜工艺之前在基材表面先喷一层底漆呢？因为塑料基材外表可能不平滑，如果没有先喷底漆直接使用高真空镀膜的话，如果客人要求很高，产品可能会因为工件外表不光滑，而使加工出来的产品光泽度相对会低一点，金属质感相对也会有所下降，如果基料有气泡，水泡这状况更高明显，就无法满足前端客人需求。喷上一层底漆往后，会构成一个光滑平坦的外表，而且杜绝了塑料自身存在的气泡水泡的发生，使得电镀的作用得以展现.真空电镀可分为通常真空电镀、UV真空电镀、真空电镀格外。 电镀按技术分类可分为蒸镀、溅镀、色等，水电镀因技术较简略，从设备到环境得要求均没有真空离子镀苛刻，然后被普遍使用。但水电镀有个缺陷，只能镀ABS料和ABS+PC料(此料镀的效果也不是很理想).而ABS料耐温只需80℃,这使得它的使用规划被约束了，而真空电镀可达200℃分配，这对运用在高温的部件就可以进行电镀处理了.像风嘴、风嘴环运用PC料，这些部件均要求耐130℃的高温，通常要求耐高温的部件，做真空电镀都要在毕竟喷一层UV油，这么使得商品外表既有光泽、有能耐高温、同时又加强其附着力。PVD镀膜技术的应用主要分为两大类：装饰镀和工具镀。绍兴真空镀膜设备价位
在真空电镀加工工作方式主要有两种，真空蒸镀与真空溅镀。下面简单介绍一下这两种方式。 真空蒸镀是将工件装入电镀机内，然后将室内空气抽走，达到一定的真空度后，将室内的钨丝通电加热。当达到一定的温度后，钨丝上所放置的金属丝气化，然后随着室内的工件的转动均匀的沉积在工件表面，形成金属膜。一般常见的电镀用金属有铝、镍、铜等等。但由于熔点，工艺控制等方面的原因，镀铝成为的做法。 真空溅镀主要利用辉光防电将ya气AR离子撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来得好，但是镀膜速度却比蒸镀慢的多。新型的溅镀设备几乎都是用磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围ya气离子化，造成靶与ya气离子间的撞击几率增加，提高溅镀速率。绍兴真空镀膜设备价位众所周知，油封式机械泵不适宜抽除对金属有腐蚀性、对真空油起化学反应的以及含有颗粒尘埃的气体。
扩散泵连续使用6个月以上，抽的速度会显然变慢，当操作不当应拆去联结水管，卸下电炉盘，将一级喷嘴拧出，先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍，再用洗衣粉兑水清洗一遍，然后用清水彻底清洗干净，待水份挥发干以后，装好泵胆，加入新扩散泵油，并装回机体，接好水管，装好电炉盘，便可以重新开机。在重新开机前，要注意检漏工作。首先启动维持泵，关好大门，数分钟后，观察扩散泵部分真空度是否达到标准，否则要进行检漏。检查联接处的密封圈是否正常。排除漏气隐患后方可加热，否则扩散泵油会烧环，无法进入工作状态。
真空镀膜机平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射： 真空镀膜机平衡磁控溅射即传统的磁控溅射，是在阴极靶材背后放置芯部与外环磁场强度相等或相近的永磁体或电磁线圈，在靶材表面形成与电场方向垂直的磁场。沉积室充入一定量的工作气体，通常为Ar，在高压作用下Ar 原了电离成为Ar+离子和电子，产生辉光放电，Ar+ 离子经电场加速轰击靶材，溅射出靶材原子、离子和二次电子等。 真空镀膜机电子在相互垂直的电磁场的作用下，以摆线方式运动，被束缚在靶材表面，延长了其在等离子体中的运动轨迹，增加其参与气体分子碰撞和电离的过程，电离出更多的离子，提高了气体的离化率，在较低的气体压力下也可维持放电，因而磁控溅射既降低溅射过程中的气体压力，也同时提高了溅射的效率和沉积速率。眼镜镀膜常用药品:二氧化锆(ZrO₂)、二氧化硅(SiO₂)、ITO(增加镜片导电抗紫外线)等。
真空镀膜设备维护和保养： 1、真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上，应清洁工作室一次。方法是:用烧碱(NaOH)饱和溶液反复 擦洗真空室内壁，( 注意人体皮肤不可以直接接触烧碱溶液，以免灼伤)目的是使镀上去的膜料铝(AL)与NaOH发生反应，反应后膜层脱落，并释放出氢气。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽阀内的污垢。 2、当粗抽泵(滑阀泵，旋片泵)连续工作一个月(雨季减半)，需更换新油。方法是:拧开放油螺栓，放掉旧油，再将泵启动数秒，使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓，加入新油至额定量(油视镜观察)。连续使用半年以上，换油时应将油盖打开，用布擦干净箱内污垢。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。绍兴真空镀膜设备价位
真空镀膜设备加上正确的镀膜工艺，方能生产出合格的镀膜产品。绍兴真空镀膜设备价位
真空镀膜技术，是一种材料合成加工技术，普遍应用在半导体电路、LED屏、触摸屏、显示屏行业，比如光学膜、感光膜、防护膜，刀具超硬膜、纳米材料功能性薄膜的生产，而全球制造业高速发展，带给真空镀膜行业极大的机遇和挑战。真空镀膜跟传统镀膜工艺相比，有很多优点：真空电场条件下，等离子体直接沉积在工件表面形成膜层，避免了电镀液的污染；还可让工艺处理温度控制在500度以内，适应多种基体材料；靶材种类多样，更适用于多种产品的镀膜。蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀是真空镀膜技术的三种形式，而基于三种技术的真空镀膜设备，是高质量、高性能膜层生成的关键。以磁控溅射镀膜设备为例，真空环境下，通过高压电、磁场，使充入的氩气呈现离子态，撞击靶材，使靶原子冲向基体，形成膜层。绍兴真空镀膜设备价位
