怎么保证真空镀膜设备镀膜效果与质量？ 真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。真空镀膜设备若有灰尘，将会影响真空镀膜的效果和质量。首先，被镀膜材料表面肯定是有灰尘的，在尽量减小材料表面灰尘的前提下，我们还应当注意以下几点： 1、真空镀膜设备使用一段时间后，必须要对设备进行清洁维护； 2、规范操作人员及操作要求，包括穿戴专业的服装、手套、脚套等； 3、严格处理衬底材料，做到清洁干净，合乎工艺要求； 4、源材料符合必要的纯度要求； 5、保证设施设备及操作环境清洁。如材料、样品放置地环境要求，环境温度湿度要求等； 6、降低真空镀膜设备室内空气流动性低、尽量减小室外灰尘侵入。在这些溅射粒子中，中性的靶分子或原子会沉积在基片上而成膜。徐州磁控镀膜机改造
真空系统设计是一个相对成熟的设计部分，主要包括下面四个部分： (1)室体结构——由系统工作方式设定其设计形式。真空室可设计为单室，多室和生产线等形式，并可以选择诸如连续、半连续等生产方式。对于生产平板基片的室体来说，应该进行强度、刚度、稳定性等优化设计，同时考虑加工工艺的可行性和简易性。 (2)材料选择——按照真空工艺要求，选择满足饱和蒸气压低，热稳定性和化学稳定性好，易除气，透气率小等要求的材料21。例如，奥氏体不锈钢，铝合金，无氧铜等。对于大尺寸设备，为降低设备整体或移动部件的重量，可以优先选取铝合金等轻质金属材料。 (3)真空元件的设计——真空密封，电极引入，管路和阀门等。不同的工艺条件所选用的真空元件不同。 (4)真空泵和真空计的选择——一般可按照常见的工程要求进行设计。精确的设计需要定量的计算真空室内的工艺气体密度分布。不同种类的气体和不同的真空室清洁程度的要求需要选用不同的真空泵和真空计。真空泵的返油会对基片造成污染，氧气等反应气体会氧化泵油，因此，常选用干式无油真空泵作为真空抽气系统。 江苏磁控镀膜机批发溅射产额随入射离子能量变化的简单示意图，简称溅射曲线。
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。 需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。 蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。
磁控溅射镀膜技术的发展： 近年来磁控溅射技术发展非常迅速，代表性方法有平衡平衡磁控溅射、反应磁控溅射、中频磁控溅射及高能脉冲磁控溅射等等。 平衡磁控溅射：即传统的磁控溅射技术，将永磁体或电磁线圈放到在靶材背后，在靶材表面会形成与电场方向垂直的磁场。在高压作用下氩气电离成等离子体，Ar+离子经电场加速轰击阴极靶材，靶材二次电子被溅射出，且电子在相互垂直的电场及磁场作用下，被束缚在阴极靶材表面附近，增加了电子与气体碰撞的几率，即增加了氩气电离率，使氩气在低气体下也可维持放电，因而磁控溅射既降低了溅射气体压力，同时也提高了溅射效率及沉积速率。但传统磁控溅射有一些缺点，比如：低气压放电产生的电子和溅射出的靶材二次电子都被束缚在靶面附近大约60 mm的区域内，这样工件只能被安·放在靶表面50一100 mm的范围内。这样小的镀膜区间限制了待镀工件的尺寸，较大的工件或装炉量不适合传统方法。反应磁控溅射是具有一定能量的离子(Ar+)溅射金属或合金靶表面。
溅射镀膜这部分应是生产线的主体, 而且是处在真空状态下的一个系统, 是由不锈钢或碳钢做成的一个个单独的室体连接组成。它的两端为了反复地使清洗过的玻璃基片进入和让镀制好的基片输出, 而处在一个特殊的状态, 称为真空锁室。每个锁室的两端都有阀门并配置抽气能力强大的真空机组, 可以容易地完成真空和大气的转换。与真空锁室相连的真空室体称之为过渡室。它的作用是停留由锁室输入的待镀基片, 或让沉积好的基片停留于此, 等待输出锁室, 起到调配基片运行的作用。过渡室亦应配置真空机组, 并要保持较高的真空度。输入端的过渡室内可以设置辉光放电等离子清洗装置。但应考虑与基片运行方向相邻的室体的隔离, 这种隔离主要是相邻的室体维持不同的压力。真空蒸镀是将工件装入电镀机内，然后将室内空气抽走，达到一定的真空度后，将室内的钨丝通电加热。徐州磁控镀膜机改造
水电镀通常只能对ABS塑胶和少量的ABS+PC塑胶材料上进行电镀加工，具有一定的局限性。徐州磁控镀膜机改造
镀制好的基片从真空室内输送到大气中后, 一般还要经过清洗及检测。清洗的要求没有前处理那么严格。目的是使膜层的缺陷更容易暴露出来, 以便在后续的检测中被发现。较简单的检测就是目测, 为便于观察, 基片的底部分布有光源, 可以发现针洞的存在和数量, 有无放电的痕迹。出线端的透过率检测仪可以指出膜层之后的透过率。也可以在基片范围内布置多道探头, 采集数据由计算机处理来评估膜层的纵向和横向的均匀性及有无异常。对于特殊用途的光学薄膜出线后即进入净化室, 覆上一层保护用的带胶薄膜后存放。徐州磁控镀膜机改造
