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磁控镀膜机基本参数
  • 品牌
  • 无锡光润真空科技有限公司
  • 型号
  • 齐全
  • 包装材料
  • 其他
  • 包装类型
  • 其他
磁控镀膜机企业商机

辉光放电的压力一般较高, 而溅射镀膜的工作压力往往在更低的量级。在前后过渡室之间的部分称为镀膜室或溅射室。每个镀膜室是一个单独的沉积区域。所谓单独是指该镀膜室内的工作压力以及工作氛围不受其它室体的影响。每个溅射室设有一付或两付靶位。每付靶位上可以安装一付磁控溅射靶, 或称为阴极。溅射室的数量亦或溅射靶的数量, 包括选用的靶材, 取决于生产线开发膜系的能力和产量。磁控溅射靶的功率密度一般13W/ cm 2, 比直流溅射要高得多。但实际的电源往往很难保证靶的功率。没有大的功率就没有高沉积速率,而高沉积速率是现代镀膜所推崇的。电源的并联是增强功率的一个途径。平面磁控靶的结构分为直冷式和间冷式两类。直冷式适合于气密性好的靶材。由于冷却效果好, 功率更大一些。溅射出来的原子具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为溅射镀膜。淮安磁控镀膜机制造厂

相对准确的电磁场设计是对溅射过程中的电磁场进行模拟,而不是只对未工作时的磁控溅射设备进行电磁场模拟。 电源的选择:“电源”的选择应根据不同的工艺过程确定,常见的有直流电源、中频电源、射频电源及能够实现多种供电模式的混合型电源等。 材料的选择:对于射频电源来说,功率的载人和匹配是非常重要的问题。大功率射频电源的电极载入材料要求面电导率高且化学稳定性好,工业上常选用无氧铜作为电极材料。磁控靶内的材料可按磁导率的高低划分,磁靴为高磁导率材料,一般为工业纯铁。阳极与屏蔽:阳极设计要考虑空间的位置,电位关系,尺寸和面积以及阳极的材料性能,保证溅射过程稳定进行。屏蔽的设计,首先要考虑电场的设计和电位关系,防止非靶材材料被溅射,污染薄膜。其次考虑屏蔽材料的性能,一般选用饱和蒸气压低,溅射阈值高且符合真空工艺要求的材料。常州磁控镀膜机种类有哪些整机采用立式柜体结构设计安装使用方便,插电即用。

电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在*近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径很长,在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,之后沉积在基片上。

溅射镀膜这部分应是生产线的主体, 而且是处在真空状态下的一个系统, 是由不锈钢或碳钢做成的一个个单独的室体连接组成。它的两端为了反复地使清洗过的玻璃基片进入和让镀制好的基片输出, 而处在一个特殊的状态, 称为真空锁室。每个锁室的两端都有阀门并配置抽气能力强大的真空机组, 可以容易地完成真空和大气的转换。与真空锁室相连的真空室体称之为过渡室。它的作用是停留由锁室输入的待镀基片, 或让沉积好的基片停留于此, 等待输出锁室, 起到调配基片运行的作用。过渡室亦应配置真空机组, 并要保持较高的真空度。输入端的过渡室内可以设置辉光放电等离子清洗装置。但应考虑与基片运行方向相邻的室体的隔离, 这种隔离主要是相邻的室体维持不同的压力。中国真空镀膜机械行业,经过了几十年发展,形成了门类齐全、布局合理。

抽真空系统,目前基本是两种,一种是扩散泵系统,一种是分子泵系统,分子泵系统属于清洁抽气系统,没有扩散泵的返油现象,抽速也相对比较稳定,而且比较省电,电费的支出是镀膜企业生产运营成本中很大的一环。对于泵系统的定期维护是很重要的,特别是润滑油的定期更换,注意油品牌号的选择,选择错误很容易损坏真空泵。真空检测系统,目前基本都是用复合真空计,热偶规+电离规的组合,这个组合在遇到充入大量含有C元素的气体的工艺,电离规很容易毒化,造成电离规损坏,如果镀制含有大量C元素的气体的工艺,可以考虑,配置电容薄膜规。磁控溅射镀膜设备的基本原理是通过磁场使电子运动的方向改变。淮安磁控镀膜机制造厂

镀膜机内由不同级别的真空泵抽气,在系统内营造出一个镀膜所需的真空环境。淮安磁控镀膜机制造厂

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