真空镀膜机常见问题： 1: 请问真空镀膜机镀膜膜层的厚度是多少? PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工。 2: 请问真空镀膜机能够镀出的膜层种类有那些? PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。 3: 请问采用真空镀膜机镀膜技术镀出的膜层有什么特点? 采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。沉积到光学级的PET基材上形成金属镀膜层，这样的膜才叫多层磁控溅射金属膜。舟山磁控镀膜机供应商
磁控溅射靶表面不均匀刻蚀。磁控溅射靶表面刻蚀不均是由靶磁场不均所导致，靶的局部位置刻蚀速率较大，使靶材有效利用率较低（只20％-30％的利用率）。因此，想要提高靶材利用率，需要通过一定手段将磁场分布改变，或者利用磁铁在阴极中移动，也可提高靶材利用率。磁控溅射工艺可制作复合靶镀合金膜，目前，采用复合磁控靶溅射工艺已成功镀上了Ta-Ti合金、（Tb-Dy）-Fe以及Gb-Co合金膜。复合靶的结构有四种，分别是圆块镶嵌靶、方块镶嵌靶、小方块镶嵌靶以及扇形镶嵌靶，其中以扇形镶嵌靶结构的使用效果为佳。舟山磁控镀膜机供应商相应地，环状磁场控制的区域是等离子体密度较高的部位。
磁控溅射的工艺流程： 在磁控溅射过程中，具体工艺过程对薄膜性能影响很大，主要工艺流程如下： （l）基片清洗，主要是用异丙醇蒸汽清洗，随后用乙醇、酮浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污； （2）抽真空，真空须控制在2 × 104 Pa以上，以保证薄膜的纯度； （3）加热，为了除去基片表面水分，提高膜与基片的结合力，需要对基片进行加热，温度一般选择在150 ℃~200 ℃之间； （4）氩气分压，一般选择在0.01一lPa范围内，以满足辉光放电的气压条件； （5）预溅射，预溅射是通过离子轰击以除去靶材表面氧化膜，以免影响薄膜质量； （6）溅射，氩气电离后形成的正离子在正交的磁场和电场的作用下，高速轰击靶材，使溅射出的靶材粒子到达基片表面沉积成膜； （7）退火，薄膜与基片的热膨胀系数有差异，结合力小，退火时薄膜与基片原子相互扩散可以有效提高粘着力。
真空镀膜行业中，氩气的流量大小具体如何控制? 如果是说镀膜时为了调节压力使用的气体 个人认为如下：氩气如果只是调节压力，一次压可以不计，但是二次压要小于0.5个大气压。氮气也是，主要是因为如果大了，会导致真空仓内的压力变化太剧烈，导致误差。如果是使用离子源，那么氩气入气量不宜过大的，大了导致离子量过大，烧坏部件。压力和上边没什么差别。 任何固体材料在大气环境下都会溶解和吸附一些气体，当材料置于真空状态时就会因为脱附、解析而出气。出气的速率与材料中的气体含量成正比。不同的材料解析的气体成分及解析的温度及时间是不同的，各种泵对不同成分的气体抽气速率也是不一样的。镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。
镀膜常用在相机镜头、近视、远视、老花镜等矫正眼镜上使用。 镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。目的是希望减少光的反射，增加透光率，抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同颜色的镀膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，镀膜尚可延迟镜片老化、变色的时间。 眼镜镀膜常用药品:二氧化锆(ZrO₂)、二氧化硅(SiO₂)、ITO(增加镜片导电抗紫外线)、HT-100(防水膜，防止老化和氧化)…… 镀膜原理:高电压电子将以上几种药品汽化，均匀分布在镜片表面。磁控镀膜机可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜。嘉兴磁控镀膜机销售价格
氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。舟山磁控镀膜机供应商
在真空电镀加工工作方式主要有两种，真空蒸镀与真空溅镀。下面简单介绍一下这两种方式。 真空蒸镀是将工件装入电镀机内，然后将室内空气抽走，达到一定的真空度后，将室内的钨丝通电加热。当达到一定的温度后，钨丝上所放置的金属丝气化，然后随着室内的工件的转动均匀的沉积在工件表面，形成金属膜。一般常见的电镀用金属有铝、镍、铜等等。但由于熔点，工艺控制等方面的原因，镀铝成为的做法。 真空溅镀主要利用辉光防电将ya气AR离子撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来得好，但是镀膜速度却比蒸镀慢的多。新型的溅镀设备几乎都是用磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围ya气离子化，造成靶与ya气离子间的撞击几率增加，提高溅镀速率。舟山磁控镀膜机供应商
