要获得结合牢固、致密、无针洞缺陷的膜层, 必须使膜层沉积在清洁、具有一定温度甚至是启用的基片上。为此前处理的过程包括机械清洗(打磨、毛刷水洗、去离子水冲洗、冷热风刀吹净)、烘烤、辉光等离子体轰击等。机械清洗的目的是去除基片表面的灰尘和可能残留的油渍等异物, 并且不含活性离子, 必要时还可采用超声清洗。烘烤的目的是彻底去除基片表面残余的水份, 并使基片加热到一定的温度, 很多材质在较高的基片温度下可以增强结合力和膜层的致密性。基片的烘烤可以在真空室外进行, 也可以在真空室内继续进行, 以获得更好的效果。但在真空室内作为提供热源的电源应有较低的电压, 否则易于引起放电。辉光等离子体轰击清洗可以进一步除去基片表面残留的不利于膜层沉积的成份, 同时可以提高基片表面原子的活性, 更有利于基片与沉积的材质原子产生牢固的结合。使用中频电源会取得比直流放电更明显的效果。磁控溅射卷绕镀膜是采用磁控溅射（直流、中频、射频）的方法。金华磁控镀膜机行业
磁控溅射镀膜的产品特点： 1、磁控溅射所利用的环状磁场迫使二次电子跳栏式地沿着环状磁场转圈。相应地，环状磁场控制的区域是等离子体密度较高的部位。在磁控溅射时，可以看见溅射气体——氩气在这部位发出强烈的淡蓝色辉光，形成一个光环。处于光环下的靶材是被离子轰击较严重的部位，会溅射出一条环状的沟槽。环状磁场是电子运动的轨道，环状的辉光和沟槽将其形象地表现了出来。磁控溅射靶的溅射沟槽一旦穿透靶材，就会导致整块靶材报废，所以靶材的利用率不高，一般低于40％； 2、等离子体不稳定； 3、不能实现强磁性材料的低温高速溅射，因为几乎所有的磁通都通不过磁性靶子，所以在靶面附近不能加外加强磁场。镇江磁控镀膜机厂磁控溅射镀膜设备的基本原理是通过磁场使电子运动的方向改变。
磁控溅射技术应用中存在的问题及思考 随着科技和经济社会的发展，人们对磁控溅射技术提出了更高的要求，其存在的不足也日益显现。人们也正不断深入研究、改进完善这项技术。 一个重要问题是靶材的利用率较低，这对工业生产的成本控制是不利的。靶材是磁控溅射中基本的耗材，靶材不只消耗量大，而且靶材的利用率高低对整个工艺过程、效果以及工艺周期都有相当大的影响。然而，由于目前对于大多数磁控溅射设备，溅射靶材在溅射过程中总会产生不均匀冲蚀的现象。一旦靶材被击穿，就会报废。由此造成的靶材利用率一直较低，一般在30%以下。虽然靶材能够回收再利用，但其仍然对企业成本控制以及产品竞争力有很大的影响。 为了提高靶材利用率，目前国内磁控镀膜研究的主要方向还是集中在磁场的优化设计上，针对别的领域例如靶材冷却系统的设计仍较少。目前常用的方法是采用旋转磁场增加溅射面积等通过改变平面靶结构来提高靶材的利用率，取得了较好成效。
磁控溅射镀膜机： 磁控溅射镀膜机是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器，于2011年03月26日启用。 1技术指标： 1.配装3支Ф2英寸的磁控溅射靶，其中一支可镀铁磁材料。2.磁控溅射靶射频（RF）、直流（DC）兼容。3.每只磁控溅射靶均配备挡板，基片配挡板。4.极限真空：5*10-5Pa；工作背景真空：7*10-4Pa.5.基片尺寸≤Ф4英寸。6.基片可加热至500℃.7.控制系统：PC+PLC全自动控制。 2主要功能： 磁溅射镀膜机是一种普适镀膜机，用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜，亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。磁控溅射工艺包括了光学设计、彩色膜、耐磨涂层、纳米层压板、超晶格镀膜、绝缘膜等。
磁控溅射是一种涉及气态等离子体的沉积技术，该等离子气体被生成并限制在一个包含要沉积的材料的空间内，溅射靶材的表面被等离子体中的高能离子侵蚀，释放出的原子穿过真空环境并沉积在基板上以形成薄膜。影响磁控溅射镀膜结果的因素： 1、溅射功率的影响，在基体和涂层材料确定的情况下，工艺参数的选择对于涂层生长速率和涂层质量都有很大的影响。其中溅射功率的设定对这两方面都有极大的影响。 2、气压的影响，磁控溅射是在低气压下进行高速溅射，为此需要提高气体的离化率，使气体形成等离子体。在保证溅射功率固定的情况下，分析气压对于磁控溅射的影响。溅射镀膜过程中溅射出的粒子的能量很低，导致成膜速率不高。金华磁控镀膜机行业
镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。金华磁控镀膜机行业
间冷式的适合于气密性较差的靶材, 功率要小一些。靶内磁体目前更多采用的是钕铁硼永磁体, 只要保证磁场的均匀, 再在工作气体的布气装置上采用合理的方式, 在整个靶面的区域内, 实践证明均能获得均匀的溅射刻蚀。这是膜层横向均匀性的重要保证。考虑到靶的两端所产生的边缘效应, 为使基片的两端也获得与中间部分相同的膜厚, 靶的两端要伸出基片边缘足够的长度。高真空的背景是溅射沉积的必要条件, 所以溅射室对称设置有高真空机组。目前采用的大多是扩散泵机组。进口设备中, 配置涡轮分子泵的, 但维修麻烦, 更换轴承需由厂家进行；配置扩散泵的还加有液氮冷阱, 这样有更好的挡油效果, 但维持费用高。这种泵用于进片室可以免油蒸汽对基片的污染, 并可防止活性气体周期性的混入镀膜室内。金华磁控镀膜机行业
