磁控溅射是为了在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率的方法。二极直流溅射时，气体被电离之后，气体离子在电场作用下飞向接阴极的靶材，电子则飞向接地的壁腔和基片。这样在低电压和低气压下，产生的离子数目少，靶材溅射效率低；而在高电压和高气压下，尽管可以产生较多的离子，但飞向基片的电子携带的能量高，容易使基片发热甚至发生二次溅射，影响制膜质量。另外，靶材原子在飞向基片的过程中与气体分子的碰撞几率也大为增加，因而被散射到整个腔体，既会造成靶材浪费，又会在制备多层膜时造成各层的污染。磁控靶电压施加较低，磁场将等离子体约束在阴极附近，可防止较高能量的带电粒子入射到基材上。淮安磁控镀膜机有用吗
真空镀膜设备增加塑胶表面的硬度；塑胶材料易成型的特性决定了其表面不具备良好的耐刮伤性能，UV真空电镀在镀膜完成后，还在镀膜层表面加罩了一层光固化UV涂料，大幅度提升了产品表面的硬度，提升了产品的耐刮花、耐划伤、耐磨性能，大可以达到4H级别的硬度，远远超出水电镀工艺的抗刮伤耐磨级别。同时具有优良的环境耐候性能；真空电镀工艺可以赋予产品更加优良的耐极端使用环境的性能，比如耐高温高湿、耐低温、耐热烫、高盐份（耐盐雾）、耐紫外线照射老化、耐化妆品、耐汗液、耐酸碱等性能；一般的喷油工艺或水电镀工艺是无法满足这些性能要求的。相信在新的物联网硬件及电子疯狂向上生长的背后一定会有更多的机会与挑战，需要CMF从事人员更多的跨界交流和思考江苏磁控镀膜机出售相应地，环状磁场控制的区域是等离子体密度较高的部位。
目前真空镀膜机应用于光学，眼镜，塑料薄膜、金属、灯具、陶瓷、玻璃、廉价塑料，以及各种塑料玩具、塑料日用装饰品、人造首饰、圣诞装饰品、家用电器装饰、电器仪表的表面金属化镀膜，真空镀膜机运用非常普遍。客户在产品镀制膜层需求量大了之后，往往会知道自己的产品需要镀什么材质，也知道在材料上要镀一层膜，但国内外镀膜机制造商实在太多，镀膜机对于整个产品的加工又有重大的影响，需要采购，却不知道如何下手采购一台适合自己公司的真空镀膜机。根据要镀膜工件的材质，根据镀出来的是什么样的效果来选购真空镀膜机的种类。例如，如果主要从事五金加工，那么我们就要买多弧离子镀膜机或者磁控溅射镀膜机机；如果从事塑料镀膜，例如做汽车灯罩行业的，那么我们就要选择车灯保护膜镀膜设备。
磁控溅射工艺具备以下特点： 1、沉积速率大。由于采用高速磁控电极，可获得的离子流很大，有效提高了此工艺镀膜过程的沉积速率和溅射速率。与其它溅射镀膜工艺相比，磁控溅射的产能高、产量大、于各类工业生产中得到普遍应用。 2、功率效率高。磁控溅射靶一般选择200V-1000V范围之内的电压，通常为600V，因为600V的电压刚好处在功率效率的较高有效范围之内。 3、溅射能量低。磁控靶电压施加较低，磁场将等离子体约束在阴极附近，可防止较高能量的带电粒子入射到基材上。 4、基片温度低。可利用阳极导走放电时产生的电子，而不必借助基材支架接地来完成，可以有效减少电子轰击基材，因而基材的温度较低，非常适合一些不太耐高温的塑料基材镀膜。整机采用立式柜体结构设计安装使用方便，插电即用。
磁控溅射系统在阴极靶材的背后放置100～1000Gauss强力磁铁,真空室充入011～10Pa压力的惰性气体(Ar),作为气体放电的载体。磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不只只是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用（E X B shift）使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是只只在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。 磁控光学镀膜机，配备公自转旋转系统，在线监测膜厚。江苏磁控镀膜机出售
磁控溅射镀膜设备的沉积速率高。淮安磁控镀膜机有用吗
磁控溅射是一种涉及气态等离子体的沉积技术，该等离子气体被生成并限制在一个包含要沉积的材料的空间内，溅射靶材的表面被等离子体中的高能离子侵蚀，释放出的原子穿过真空环境并沉积在基板上以形成薄膜。影响磁控溅射镀膜结果的因素： 1、溅射功率的影响，在基体和涂层材料确定的情况下，工艺参数的选择对于涂层生长速率和涂层质量都有很大的影响。其中溅射功率的设定对这两方面都有极大的影响。 2、气压的影响，磁控溅射是在低气压下进行高速溅射，为此需要提高气体的离化率，使气体形成等离子体。在保证溅射功率固定的情况下，分析气压对于磁控溅射的影响。淮安磁控镀膜机有用吗
