要获得结合牢固、致密、无针洞缺陷的膜层, 必须使膜层沉积在清洁、具有一定温度甚至是启用的基片上。为此前处理的过程包括机械清洗(打磨、毛刷水洗、去离子水冲洗、冷热风刀吹净)、烘烤、辉光等离子体轰击等。机械清洗的目的是去除基片表面的灰尘和可能残留的油渍等异物, 并且不含活性离子, 必要时还可采用超声清洗。烘烤的目的是彻底去除基片表面残余的水份, 并使基片加热到一定的温度, 很多材质在较高的基片温度下可以增强结合力和膜层的致密性。基片的烘烤可以在真空室外进行, 也可以在真空室内继续进行, 以获得更好的效果。但在真空室内作为提供热源的电源应有较低的电压, 否则易于引起放电。辉光等离子体轰击清洗可以进一步除去基片表面残留的不利于膜层沉积的成份, 同时可以提高基片表面原子的活性, 更有利于基片与沉积的材质原子产生牢固的结合。使用中频电源会取得比直流放电更明显的效果。可用磁控溅射方法在柔性基材上镀制各种介质膜。苏州磁控镀膜机质量怎么样
真空磁控溅射镀膜技术是通过真空磁控溅射镀膜机实现的，镀膜机内由不同级别的真空泵抽气，在系统内营造出一个镀膜所需的真空环境，真空度要达到镀膜所需的本底真空，一般在（1~5）×10-8 Pa。 在真空环境中向靶材（阴极）下充入工艺气体氩气（Ar），氩气在外加电场（由直流或交流电源产生）作用下发生电离生成氩离子（Ar+），同时在电场E的作用下，氩离子加速飞向阴极靶并以高能量轰击靶表面，使靶材产生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子（或分子）沉积在PET基片上形成薄膜。 同时被溅射出的二次电子在阴极暗区被加速，在飞向基片的过程中，落入设定的正交电磁场的电子阱中，直接被磁场的洛伦兹力束缚，使其在磁场B的洛伦兹力作用下，以旋轮线和螺旋线的复合形式在靶表面附近作回旋运动。电子e的运动被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子区域内，使其到达阳极前的行程大幅度增长，大幅度增加碰撞电离几率，使得该区域内气体原子的离化率增加，轰击靶材的高能Ar+离子增多，从而实现了磁控溅射高速沉积的特点。温州磁控镀膜机PVD镀膜加工工艺流程比较长、工序繁多，发生故障的影响因素会很多。
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在*近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，之后沉积在基片上。
目前窗膜磁控镀层所用靶材主要以金属及金属氧化物为主，如金、银、镍、钼、铬、铜、铝、钛、不锈钢、氮化钛、氧化铟、硅铝等，以金、银反射率好，铜次之。金、银在远红外阻隔方面效果远远优于其它金属。因金成本相对较高。银就成了高隔热及低辐射镀膜的佳选择。但银易氧化，又要匹配相应的保护层来防止银的氧化。而银层的氧化问题也一直是困绕各窗膜工厂的头疼问题。早期的威固V70、龙膜的LE系列、AVS70、量子的铂金70、韩国的NSN系列都被大规模客户投诉过。国产的就不说了。反而对隔热要求不是特别高的，以镍、铬、钛、不锈钢为主材的磁控膜反没有什么问题。因这几种材料相对稳定，不会轻易氧化。价格还相对便宜。但这几种材料的使用也只限于透光相对较低的侧档，在透光超过70%的时候，隔热效果差到可以忽略不计。但在低透光，如透光率在30%以下，隔热表现还是不错的。磁控溅射靶一般选择200V-1000V范围之内的电压。
镀制好的基片从真空室内输送到大气中后, 一般还要经过清洗及检测。清洗的要求没有前处理那么严格。目的是使膜层的缺陷更容易暴露出来, 以便在后续的检测中被发现。较简单的检测就是目测, 为便于观察, 基片的底部分布有光源, 可以发现针洞的存在和数量, 有无放电的痕迹。出线端的透过率检测仪可以指出膜层之后的透过率。也可以在基片范围内布置多道探头, 采集数据由计算机处理来评估膜层的纵向和横向的均匀性及有无异常。对于特殊用途的光学薄膜出线后即进入净化室, 覆上一层保护用的带胶薄膜后存放。磁控溅射工艺非常适合一些不太耐高温的塑料基材镀膜。温州磁控镀膜机
磁控溅射技术是一门起源较早，但至今仍能够发挥很大作用的技术。苏州磁控镀膜机质量怎么样
窗膜用磁控溅射镀膜设备与离线LOW-E磁控镀膜设备的生产原理是一样的，且都是在70年代开始投入应用的。差别是一种镀在薄膜上，一种镀在玻璃上。一种是卷对卷式镀膜，一种是平板是镀膜，甚至所镀的原料都是一样的。早期的平板镀膜设备是多腔室单独控制的，一个腔室镀完，再到下个腔室。每经过一种镀层都要抽真空，充氩气的过程，效率极低。而窗膜用磁控溅射镀膜设备是是在一个真空腔体中通过卷对卷的方式完成所有镀层。效率想对较高。在早期，卷式镀膜比平板镀膜还是有效率上的优势的。后来由于玻璃行业的快速发展，连续式平板磁控镀膜设备开始出现，效率大幅度提高。也随着玻璃行业的大规模应用，各种配套、技术也相需成熟，生产成本也大幅降低。在PET薄膜上能做到的隔热性能、参数在玻璃上也都可以做到。因为窗膜终应用还是在玻璃上，目前卷式镀膜对比平板式镀膜已失去价格优势。苏州磁控镀膜机质量怎么样
