要获得结合牢固、致密、无针洞缺陷的膜层, 必须使膜层沉积在清洁、具有一定温度甚至是启用的基片上。为此前处理的过程包括机械清洗(打磨、毛刷水洗、去离子水冲洗、冷热风刀吹净)、烘烤、辉光等离子体轰击等。机械清洗的目的是去除基片表面的灰尘和可能残留的油渍等异物, 并且不含活性离子, 必要时还可采用超声清洗。烘烤的目的是彻底去除基片表面残余的水份, 并使基片加热到一定的温度, 很多材质在较高的基片温度下可以增强结合力和膜层的致密性。基片的烘烤可以在真空室外进行, 也可以在真空室内继续进行, 以获得更好的效果。但在真空室内作为提供热源的电源应有较低的电压, 否则易于引起放电。辉光等离子体轰击清洗可以进一步除去基片表面残留的不利于膜层沉积的成份, 同时可以提高基片表面原子的活性, 更有利于基片与沉积的材质原子产生牢固的结合。使用中频电源会取得比直流放电更明显的效果。磁控溅射工艺特别适合用于多层膜结构的沉积。湖州磁控镀膜机直销
磁控溅射镀膜的适用范围： 1、建材及民用工业中 2、在铝合金制品装饰中的应用 3、优良产品零/部件表面的装饰镀中的应用 4、在不锈钢刀片涂层技术中的应用 5、在玻璃深加工产业中的应用 磁控溅射镀膜注意事项： 1、辐射：有些镀膜要用到射频电源，如功率大，需做好屏蔽处理。另外，欧洲标准在单室镀膜机门框四周嵌装金属线屏蔽辐射; 2、金属污染：镀膜材料有些(如铬、铟、铝)是对人体有害的，特别要注意真空室清理过程中出现的粉尘污染; 3、噪音污染：如特别是一些大的镀膜设备，机械真空泵噪音很大，可以把泵隔离在墙外; 4、光污染：离子镀膜过程中，气体电离发出强光，不宜透过观察窗久看。丽水磁控镀膜机应用溅射产额随入射离子能量变化的简单示意图，简称溅射曲线。
磁控溅射镀膜是现代工业中不可缺少的技术之一，磁控溅射镀膜技术正普遍应用于透明导电膜、光学膜、超硬膜、抗腐蚀膜、磁性膜、增透膜、减反膜以及各种装饰膜，在**和国民经济生产中的作用和地位日益强大。镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性，沉积速率，靶材利用率等方面的问题是实际生产中十分关注的。解决这些实际问题的方法是对涉及溅射沉积过程的全部因素进行整体的优化设计，建立一个溅射镀膜的综合设计系统。薄膜厚度均匀性是检验溅射沉积过程的较重要参数之一，因此对膜厚均匀性综合设计的研究具有重要的理论和应用价值。
开放性：系统各部分是有机结合并不断发展的。随着技术的进步，各部分功能必然会得到进一步发展，从而使系统的综合性能得到提高。自动控制技术的发展使系统的功能变得强大：溅射过程中对等离子体光谱的监控技术，以及对电磁场的操纵能力使得系统对整个溅射过程的参数控制程度达到较大限度，可以实现精细设计。系统的开放性属于横向发展。 继承性：系统发展到一定程度，就会发生由量变到质变的过程。系统在保汪原有功能基础上不断完善和提高。薄膜制备技术会随着理论的发展而逐步深入。对非平衡磁控溅射和等离子体理论研究，促进了溅射技术的进一步发展。随之而来的是对系统进行升级改造，以实现新的功能。继承性是系统的纵向发展。磁控溅射技术是为了提高成膜速率在溅射镀膜基础上发展起来的。
大多数塑料在真空镀膜之前，一般先要涂覆底涂层，主要原因是有以下几点： 一：塑料在成型后，表面肯定有的粗糙度，比如有0.5um的粗糙度。 真空镀膜层很薄，很难掩盖基材表面的凹凸不平，如果采用底涂技术，光固化涂层厚度约10~20um，涂层自身粗糙度在0.1um以下，因此可大幅度提高镀层的光亮度。 二：塑料中含有水分、残留溶剂、单体、低聚合物、增塑剂等，挥发性小分子会在真空或升温环境下逸出表面，严重影响真空镀层对基材的附着力，而采用底涂技术就可阻碍这些小分子的逸出，提高真空镀层对基材的附着力。 三：塑料基材与真空镀层通常为金属)两者热膨胀系数相差很大，在真空镀膜升温、降温过程中膜层容易破裂，膜层越厚，破裂的可能性越大，因此选用合适的涂层作为过渡层，可以减少内应力的积累和破裂的发生。磁控溅射卷绕镀膜设备与蒸发卷绕镀膜设备相比，生产效率较低、设备成本高。金华磁控镀膜机机组
溅射镀膜过程中溅射出的粒子的能量很低，导致成膜速率不高。湖州磁控镀膜机直销
简单的说，多层磁控溅射金属膜就是在真空的环境里采用电离子有序轰击多种贵金属，并采用磁场控制的方式让金属离子均匀的溅射5-15层。沉积到光学级的PET基材上形成金属镀膜层，这样的膜才叫多层磁控溅射金属膜。也是目前生产工艺先的，俗称第五代汽车膜。多层磁控溅射隔热膜又称反射膜。膜中的贵金属分子会选择性将阳光中光源、热源进行筛选并将多余的反射回去。从而有效起到隔热、防紫外线、防红外线的作用。金属膜就像一面镜子，光线越强反射的效果也就越好。当然金属层数越多反射效果也越好，防击穿的效果也就越好。湖州磁控镀膜机直销
