溅射产额随入射离子能量变化的简单示意图，简称溅射曲线。从该图可以看出溅射产额随入射离子能量的变化有如下特征：存在一个溅射阈值，阈值能量一般为20~100 eV。当入射离子的能量小于这个阈值时，没有原子被溅射出来。通常当入射离子的能量为1~10 keV时，溅射产额可以达到一个较大值。当入射离子的能量超过10 keV 时，溅射产额开始随入射离子的能量增加而下降。反应溅射是在溅射的惰性气体气氛中,通入一定比例的反应气体,通常用作反应气体的主要是氧气和氮气。但直流溅射方法用于被溅射材料为导电材料的溅射和反应溅射镀膜中,其工艺设备简单,有较高的溅射速率。真空电镀工艺可以适用的塑胶材料范围相当广。常州磁控镀膜机哪里买
磁控溅射镀膜注意事项： 1、辐射:有些镀膜要用到射频电源,如功率大,需做好屏蔽处理.另外,欧洲标准在单室镀膜机门框四周嵌装金属线屏蔽辐射;2、金属污染:镀膜材料有些(如铬、铟、铝)是对人体有害的,特别要注意真空室清理过程中出现的粉尘污染;3、噪音污染:如特别是一些大的镀膜设备,机械真空泵噪音很大,可以把泵隔离在墙外;4、光污染:离子镀膜过程中,气体电离发出强光,不宜透过观察窗久看.磁控溅射镀膜的适在 1、建材及民用工业中。 2、在铝合金制品装饰中的应用。 3、前端产品零/部件表面的装饰镀中的应用。 4、在不锈钢刀片涂层技术中的应用。 5、在玻璃深加工产业中的应用。丽水磁控镀膜机哪里好磁控溅射工艺还用于卷绕工艺中用于包装膜、光学膜、贴膜等膜层镀制。
磁控镀膜设备采用中频磁控溅射及多弧离子相结合技术，适用于塑胶、玻璃、陶瓷、五金等产品，如眼镜、手表、手机配件、电子产品、水晶玻璃等。膜层的附着力、重复性、致密度、均匀性好，具有产量大，产品良率高等特点。磁控溅射镀膜设备用高能粒子轰击固体表面,固体表面的原子、分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞溅出来的现象称为溅射。溅射出来的原子具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶材击出阴极靶材的原子或分子,飞向被镀基片表面沉积成薄膜。本公司设备均为非标定制，可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。
磁控溅射镀膜设备的磁控溅射靶是采用静止电磁场，而磁场是曲线型的，对数电场用于同轴圆柱形靶；均匀电场用于平面靶；S-靶则位于两者间。各部分的原理是一样的。电子受电场影响而加速飞向基材，在此过程中跟氩原子触发碰撞。如果电子本身足够30eV的能量的话，则电离出Ar⁺同时产生电子。电子依旧飞向基材，而Ar⁺受电场影响会移动到阴极（也就是溅射靶），同时用一种高能量轰击靶的表面，也就是让靶材发生溅射。在这些溅射粒子中，中性的靶分子或原子会沉积在基片上而成膜；而二次电子在加速飞向基材时，在磁场的洛仑兹力影响之下，呈现螺旋线状与摆线的复合形式在靶表面作一系列圆周运动。该电子不但运动路径长，还是被电磁场理论束缚在靠近靶表面的等离子体区域范围内。于此区内电离出大量的Ar⁺对靶材进行轰击，所以说磁控溅射镀膜设备的沉积速率高。低能电子会沿着磁力线来回振荡，直至电子能量快耗尽的时候，受电场影响而终会沉积于基材上。
真空镀膜设备增加塑胶表面的硬度；塑胶材料易成型的特性决定了其表面不具备良好的耐刮伤性能，UV真空电镀在镀膜完成后，还在镀膜层表面加罩了一层光固化UV涂料，大幅度提升了产品表面的硬度，提升了产品的耐刮花、耐划伤、耐磨性能，大可以达到4H级别的硬度，远远超出水电镀工艺的抗刮伤耐磨级别。同时具有优良的环境耐候性能；真空电镀工艺可以赋予产品更加优良的耐极端使用环境的性能，比如耐高温高湿、耐低温、耐热烫、高盐份（耐盐雾）、耐紫外线照射老化、耐化妆品、耐汗液、耐酸碱等性能；一般的喷油工艺或水电镀工艺是无法满足这些性能要求的。相信在新的物联网硬件及电子疯狂向上生长的背后一定会有更多的机会与挑战，需要CMF从事人员更多的跨界交流和思考磁控溅射镀膜在相互垂直的磁场和电场的双重作用下，沉积速度快，膜层致密且与基片附着性好。常州磁控镀膜机哪里买
眼镜镀膜常用药品:二氧化锆(ZrO₂)、二氧化硅(SiO₂)、ITO(增加镜片导电抗紫外线)等。常州磁控镀膜机哪里买
镀制好的基片从真空室内输送到大气中后, 一般还要经过清洗及检测。清洗的要求没有前处理那么严格。目的是使膜层的缺陷更容易暴露出来, 以便在后续的检测中被发现。较简单的检测就是目测, 为便于观察, 基片的底部分布有光源, 可以发现针洞的存在和数量, 有无放电的痕迹。出线端的透过率检测仪可以指出膜层之后的透过率。也可以在基片范围内布置多道探头, 采集数据由计算机处理来评估膜层的纵向和横向的均匀性及有无异常。对于特殊用途的光学薄膜出线后即进入净化室, 覆上一层保护用的带胶薄膜后存放。常州磁控镀膜机哪里买
