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磁控镀膜机基本参数
  • 品牌
  • 无锡光润真空科技有限公司
  • 型号
  • 齐全
  • 包装材料
  • 其他
  • 包装类型
  • 其他
磁控镀膜机企业商机

磁控溅射是一种涉及气态等离子体的沉积技术,该等离子气体被生成并限制在一个包含要沉积的材料的空间内,溅射靶材的表面被等离子体中的高能离子侵蚀,释放出的原子穿过真空环境并沉积在基板上以形成薄膜。影响磁控溅射镀膜结果的因素: 1、溅射功率的影响,在基体和涂层材料确定的情况下,工艺参数的选择对于涂层生长速率和涂层质量都有很大的影响。其中溅射功率的设定对这两方面都有极大的影响。 2、气压的影响,磁控溅射是在低气压下进行高速溅射,为此需要提高气体的离化率,使气体形成等离子体。在保证溅射功率固定的情况下,分析气压对于磁控溅射的影响。磁控溅射采用新型阴极使其拥有很高的靶材利用率和高沉积速率。苏州磁控镀膜机作用有哪些

间冷式的适合于气密性较差的靶材, 功率要小一些。靶内磁体目前更多采用的是钕铁硼永磁体, 只要保证磁场的均匀, 再在工作气体的布气装置上采用合理的方式, 在整个靶面的区域内, 实践证明均能获得均匀的溅射刻蚀。这是膜层横向均匀性的重要保证。考虑到靶的两端所产生的边缘效应, 为使基片的两端也获得与中间部分相同的膜厚, 靶的两端要伸出基片边缘足够的长度。高真空的背景是溅射沉积的必要条件, 所以溅射室对称设置有高真空机组。目前采用的大多是扩散泵机组。进口设备中, 配置涡轮分子泵的, 但维修麻烦, 更换轴承需由厂家进行;配置扩散泵的还加有液氮冷阱, 这样有更好的挡油效果, 但维持费用高。这种泵用于进片室可以免油蒸汽对基片的污染, 并可防止活性气体周期性的混入镀膜室内。温州磁控镀膜机哪家专业磁控溅射工艺特别适合用于多层膜结构的沉积。

要获得结合牢固、致密、无针洞缺陷的膜层, 必须使膜层沉积在清洁、具有一定温度甚至是启用的基片上。为此前处理的过程包括机械清洗(打磨、毛刷水洗、去离子水冲洗、冷热风刀吹净)、烘烤、辉光等离子体轰击等。机械清洗的目的是去除基片表面的灰尘和可能残留的油渍等异物, 并且不含活性离子, 必要时还可采用超声清洗。烘烤的目的是彻底去除基片表面残余的水份, 并使基片加热到一定的温度, 很多材质在较高的基片温度下可以增强结合力和膜层的致密性。基片的烘烤可以在真空室外进行, 也可以在真空室内继续进行, 以获得更好的效果。但在真空室内作为提供热源的电源应有较低的电压, 否则易于引起放电。辉光等离子体轰击清洗可以进一步除去基片表面残留的不利于膜层沉积的成份, 同时可以提高基片表面原子的活性, 更有利于基片与沉积的材质原子产生牢固的结合。使用中频电源会取得比直流放电更明显的效果。

磁控溅射镀膜的适用范围: 1、建材及民用工业中 2、在铝合金制品装饰中的应用 3、优良产品零/部件表面的装饰镀中的应用 4、在不锈钢刀片涂层技术中的应用 5、在玻璃深加工产业中的应用 磁控溅射镀膜注意事项: 1、辐射:有些镀膜要用到射频电源,如功率大,需做好屏蔽处理。另外,欧洲标准在单室镀膜机门框四周嵌装金属线屏蔽辐射; 2、金属污染:镀膜材料有些(如铬、铟、铝)是对人体有害的,特别要注意真空室清理过程中出现的粉尘污染; 3、噪音污染:如特别是一些大的镀膜设备,机械真空泵噪音很大,可以把泵隔离在墙外; 4、光污染:离子镀膜过程中,气体电离发出强光,不宜透过观察窗久看。磁控溅射工艺可沉积元素有很多。

磁控溅射系统在阴极靶材的背后放置100~1000Gauss强力磁铁,真空室充入011~10Pa压力的惰性气体(Ar),作为气体放电的载体。磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径,改变电子的运动方向,提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不只只是基片,真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用(E X B shift)使单个电子轨迹呈三维螺旋状,而不是只只在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓,那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。 磁控溅射工艺可以有效减少电子轰击基材,因而基材的温度较低。苏州磁控镀膜机作用有哪些

磁控镀膜设备采用中频磁控溅射及多弧离子相结合技术,适用于塑胶、玻璃、陶瓷、五金等产品。苏州磁控镀膜机作用有哪些

中频交流磁控溅射在单个阴极靶系统中,与脉冲磁控溅射有同样的释放电荷、防止打弧作用。中频交流溅射技术还应用于孪生靶(Twin2Mag)溅射系统中,中频交流孪生靶溅射是将中频交流电源的两个输出端,分别接到闭合磁场非平衡溅射双靶的各自阴极上,因而在双靶上分别获得相位相反的交流电压,一对磁控溅射靶则交替成为阴极和阳极。孪生靶溅射技术有效提高磁控溅射运行的稳定性,可避免被毒化的靶面产生电荷积累,引起靶面电弧打火以及阳极消失的问题,溅射速率高,为化合物薄膜的工业化大规模生产奠定基础。 连续式的磁控溅射生产线 总体上可以分为三个部分: 前处理, 溅射镀膜, 后处理。苏州磁控镀膜机作用有哪些

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