一般来说，抛光是指使用陶瓷浆料的机械抛光，以及主要用于工业领域和蓝宝石抛光。激光抛光技术在技术上经常被提及，但并未应用于工业领域。 这使我们的微泰感到抛光技术的需求，以便在精细磨削后对精细的平面进行校正。我们与国际的研究机构合作，开发了激光抛光设备并将其应用于工业领域。 激光抛光技术是微泰的一项自主技术，它被广泛应用于大面积抛光和磨削后精细校正以及图案化技术。激光抛光特点是可以抛光异形件，复杂的图案，大面积均衡抛光，局部选择性抛光，抛光机动灵活，抛光时间短等特点。激光抛光原理和方法：1.扫描测量被加工表面台阶; 2.测量结果转化制作等高线数据 ; 3.按高度剖切曲面 ,进行打磨抛光； 4.每个表面的激光抛光不同条件下MAX限度地减少因间隙和齐平造成的加工错误。高功率激光打磨：测量高度→获取高度数据→转换成面数据→去除表面凸起 中等功率，利用中等功率激光可以刻画 低功率时具有，清洗效果；抛光效果超精密加工常见的有CNC车床、研磨加工、放电及线切割加工等，由于大部分都由程式输入数据后加工。纳米级超精密相机模组镜头切割器
微泰半导体流量计精密元件半导体流量计的精密组件，可精确测量半导体制造过程中使用的各种气体和液体的流量，并提供实时数据来严格控制该过程。由主体（Body）、叶片(impeller)、钨轴和钎焊轴组成。铝、不锈钢（SUS304、SUS316）、聚甲醛（POM）、可采用聚醚醚酮 (PEEK) 材料加工，提供 1/2"、3/4"、1" 、 11/4" 尺寸。模组型产品尺寸： 1/2 英寸、 9/4 英寸、 1 英寸、 11/4 英寸 材料: AL6061, SUS304, SUS316, POM, PEEK零件包括：主体 、叶片、 钨轴和钎焊轴。半导体流量计适用于半导体设备的流量计，具有高精度的流量检测功能，能够承受从低到高的温度变化，并能将传感器和转换器等部件降到比较低，从而提高空间利用率。芯片超精密异形孔激光束可以聚焦到很小的尺寸，因而特别适合于超精密加工。激光精密加工质量的影响因素少，加工精度高。
微泰利用先进的飞秒激光螺旋钻孔系统和独有ELID（电解在线砂轮修正技术），飞秒激光抛光技术，生产各种超精密零部件。用于半导体加工真空板 薄膜真空板 倒装芯片工艺真空块 M L C C贴合用真空板 薄膜芯片粘接工具，镜头模组组装治具。超精密刀片特性，材料：碳化钨、氧化锆等。刀刃对称性：低于3um，刀片厚度（t1）：100um刀片边缘粗糙度：Ra0.02um ，刀刃厚度（t2）：低于0.2um角度（0）精度：±0.3° 刀刃直线度：低于5um。MLCC刀具方面，生产MLCC垂直刀片，MLCC轮刀，MLCC修剪刀片，其特点是1，刀刃锋利。2，与现有产品相比，耐用性提高了50%。材料采用超细碳化钨，具有1，高耐磨性。2，耐碎裂。特别是超薄，超锋利的镜头切割器，光滑无毛边地切割塑料镜片的浇口，占韩国塑料镜头切割刀具90%以上的市场。
精密零件的加工生产离不开精密切削技术，半导体/LCD、MLCC、二次电池等领域尤其使用精密零件。一般磨削技术的问题是，磨削后要根据叶轮磨损量继续进行修整，修整后叶轮表面会发生细微变化，因此很难保持相同的质量。相反，ELID研磨技术可以解决这些问题，因为无需研磨即可连续工作。微泰的ELID（在线砂轮修正）技术和经验为基础，实现高精度的切削加工技术，由此生产的产品具有一般难以生产的高精度平坦度和质量。提高真空板（VACUUM 板）表面粗糙度，改善刀片的表面粗糙度，减少研磨时的Burr，无需手动调整可以连续稳定作业。刀片可以做到，材料：碳化钨、氧化锆等。刀片厚度（t1）：100㎛叶片 。边缘厚度（t2）：低于0.2㎛。刀刃线性度：低于5㎛。刀刃对称性：低于3㎛。刀片边缘粗糙度：Ra0.02㎛。角度（θ）精度：±0.3°超精密加工是指在维持精细公差，并于工件上去除材料、精加工等过程。
现有物理打磨技术,接触式加工,磨损基石，需要切削油, 加工后需要清洗，异形件打磨和局部打磨有难度。纳秒激光打磨有以下问题：产生细微裂纹，熔化-再凝固产生热变形， 表面物性发生变化， 周围会产生多个颗粒。飞秒激光打磨：改善现有打磨技术的问题 -热影响极小，可以局部打磨，异形件打磨，不需要化学药剂 -细微裂纹极少化 表面物理特性变化少，在不改变物性值的情况下，提高表面粗糙度。 高功率激光打磨：测量高度→获取高度数据→转换成面数据→去除表面凸起 中等功率，利用中等功率激光可以刻画 低功率时具有，清洗效果；抛光效果（也有去除微孔边缘毛刺的效果） 抛光后，[A O I（自动光学检查）] 对孔不良进行检测（手动或自动） （光学相机扫描仪）材料的边缘测量和修正材料位置误差。非常适合异形件打磨、抛光。局部打磨抛光。不受加工数量的限制，对于小批量加工服务，激光超精密加工更加便宜。高效超精密半导体零件
超精密加工的精度比传统的精密加工提高了一个以上的数量级。纳米级超精密相机模组镜头切割器
微泰真空卡盘精密的半导体晶圆真空吸盘是半导体制造设备的关键部件，可确保晶圆表面的平坦度和平行度，从而在半导体制造过程中安全地固定晶圆，使各种制造过程顺利进行。微泰使无氧铜、铝、SUS 材料的半导体晶圆真空吸盘的平坦度保持在 3 微米以下；支持 6 英寸、 8 英寸和 12 英寸尺寸的晶圆加工；支持 2 层和 3 层的高级加工技术。 提供 4 层连接。尺寸： 6 英寸， 8 英寸.12 英寸。材料: AL6061, AL7075, SUS304, SUS316OFHC(Oxygen free High Conductivity Copper) 平面度公差：小于 3 um 连接: 2floor, 3floor, 4floor 表面处理: Anodizing, Electroless Nickel Plating,Gold Plating, Mirror Polishing。无氧铜 (OFHC) 半导体晶圆真空卡盘，无氧铜 (OFHC) 材料可延长晶圆卡盘的使用寿命，并可MAX限度地减少杂质进入半导体材料，从而防止潜在污染，而且易于加工和成型，可精确匹配卡盘设计。 可加工 。 然而，这种材料的加工要求极高，需要特别小心和精确才能获得光滑的表面光洁度，例如翘曲或毛刺、易变形和加工过程中的硬化。纳米级超精密相机模组镜头切割器
