超快激光超精密异形孔

一般来说，抛光是指使用陶瓷浆料的机械抛光，以及主要用于工业领域和蓝宝石抛光。激光抛光技术在技术上经常被提及，但并未应用于工业领域。 这使我们的微泰感到抛光技术的需求，以便在精细磨削后对精细的平面进行校正。我们与国际的研究机构合作，开发了激光抛光设备并将其应用于工业领域。 激光抛光技术是微泰的一项自主技术，它被广泛应用于大面积抛光和磨削后精细校正以及图案化技术。激光抛光特点是可以抛光异形件，复杂的图案，大面积均衡抛光，局部选择性抛光，抛光机动灵活，抛光时间短等特点。激光抛光原理和方法：1.扫描测量被加工表面台阶; 2.测量结果转化制作等高线数据 ; 3.按高度剖切曲面 ,进行打磨抛光； 4.每个表面的激光抛光不同条件下MAX限度地减少因间隙和齐平造成的加工错误。高功率激光打磨：测量高度→获取高度数据→转换成面数据→去除表面凸起  中等功率，利用中等功率激光可以刻画  低功率时具有，清洗效果；抛光效果超精密激光切割技术已经被应用于精密电子、装饰、模具、手机数码、钣金和五金等行业。超快激光超精密异形孔

客户可以信赖的超精密 K 半导体材料和元件的加工品牌，微泰，将客户满意度放在中心半导体晶圆真空卡盘、半导体孔卡盘和半导体流量计。 专业制造半导体设备的精密组件，包括半导体液位传感器（ODM/OEM）。处理无氧铜等特殊材料半导体设备，以及精密零件制造。为模件装配提供解决方案。精密零件加工方面，对于特殊材料，精密加工急件、具有快速服务及应急响应能力。加工半导体晶圆真空卡盘，半导体精密卡盘，半导体精密流量计，半导体液位传感器，半导体精设备精密元件，JIG 制作。模组部件组装方面，根据客户要求组装模组型元件，生产半导体重要零部件，半导体精密流量计。研发中心开发新产品，研发新材料，新的加工技术。飞秒激光超精密VACUM CHUCK超精密激光切割集切割、雕刻、镂空等工艺于一身，可以满足各类材料的切割打孔，以及其他工艺需求。

精密磨削技术-电解在线砂轮修整技术 (ELID)对于精密零件的加工生产，精密磨削技术是必不可少的。在半导体/LCD、MLCC 和新能源电池等领域中，精密元件的使用率很高。常见的磨削技术的问题是，必须根据磨削后的弓形磨损量继续修整，这给保持同等质量带来了困难，因为表面状况会发生细微变化。 简而言之，ELID 磨削技术是一种在不断修整的同时进行抛光的技术。微泰采用了高精度的磨削技术，这些技术都以 ELID 技术和专有技术为基础，在这种技术中，我们生产的产品具有高精度、平坦度和高质量，这是很难生产的。真空板ELID磨削技术ELID 磨削技术（真空板）。利用电解在线砂轮修整技术 (ELID)，提高真空吸附板、刀片的表面粗糙度，减少研磨时的毛刺，减少手动调节提高作业自动化。400mm见方的真空板平面度可达5um。

刀片/刀具/（BLADE / CUTTER/ KNIFE）微泰生产和供应用于 MLCC 的各种工业刀具，包括垂直刀片、刀轮刀具、修剪刀片和镜头刀具。 我们拥有制造刀片的自主技术，并拥有使用飞秒激光的切割机边缘校正技术，飞秒激光抛光技术，实现了无比锋利和提高使用寿命。刀锋（刀刃）的无凹痕、无缺陷的边缘。通过自动化检测设备进行管理，并以很高水平的光照度和直度进行管理。应用MLCC切割，相机模块+垂直刀片，刀轮切割器，镜头浇注口修整刀片、透镜切割器。特别是塑料镜头浇注口切割刀片占韩国市场90%以上。激光超精密加工可分为四类应用，分别是精密切割、精密焊接、精密打孔和表面处理。

现有物理切削技术,接触式加工,磨损基石，需要切削油,加工后需要清洗纳秒激光加工有以下问题：细微裂纹，熔化-再凝固产生热变形，表面物性发生变化，周围会产生多个颗粒飞秒激光打磨：改善现有打磨技术的问题-热影响极小，可以局部加工-不需要切削油和化学药剂-细微裂纹极少化表面物理特性变化少，在不改变物性值的情况下，提高表面粗糙度。高功率激光打磨：测量高度→获取高度数据→转换成面数据→去除表面凸起中等功率，利用中等功率激光可以刻画低功率时具有，清洗效果；抛光效果（也有去除微孔边缘毛刺的效果）抛光后，[AOI（自动光学检查）]对孔不良进行检测（手动或自动）（光学相机扫描仪）材料的边缘测量和修正材料位置误差。加工部件激光光学系统位移传感器、光学相机、防撞传感器滑门及外盖实用程序系统控制系统该激光加工设备环保，有利于工艺自动化，本公司通过各工序的联动及生产自动化，推进智能工厂化，成为超精密激光加工系统领域全球企业，上海安宇泰环保科技有限公司一旦产品图纸形成后，马上可以进行超精密激光加工，你可以很快得到新产品的实物。日本加工超精密异形孔

由于精度高的缘故，超精密加工常应用在光学元件。也会应用在机械工业。超快激光超精密异形孔

微泰真空卡盘精密的半导体晶圆真空吸盘是半导体制造设备的关键部件，可确保晶圆表面的平坦度和平行度，从而在半导体制造过程中安全地固定晶圆，使各种制造过程顺利进行。微泰使无氧铜、铝、SUS 材料的半导体晶圆真空吸盘的平坦度保持在 3 微米以下；支持 6 英寸、 8 英寸和 12 英寸尺寸的晶圆加工；支持 2 层和 3 层的高级加工技术。 提供 4 层连接。尺寸： 6 英寸， 8 英寸.12 英寸。材料: AL6061, AL7075, SUS304, SUS316OFHC(Oxygen free High Conductivity Copper) 平面度公差：小于 3 um 连接: 2floor, 3floor, 4floor 表面处理: Anodizing, Electroless Nickel Plating,Gold Plating, Mirror Polishing。无氧铜 (OFHC) 半导体晶圆真空卡盘，无氧铜 (OFHC) 材料可延长晶圆卡盘的使用寿命，并可MAX限度地减少杂质进入半导体材料，从而防止潜在污染，而且易于加工和成型，可精确匹配卡盘设计。 可加工 。 然而，这种材料的加工要求极高，需要特别小心和精确才能获得光滑的表面光洁度，例如翘曲或毛刺、易变形和加工过程中的硬化。超快激光超精密异形孔