企业商机
真空烘箱基本参数
  • 品牌
  • 宏誉科技
  • 型号
  • HY-608-100
真空烘箱企业商机

一般的电热(鼓风)干燥箱均设有温度均匀度参数:自然对流式的干燥箱为工作温度上限乘3%,强制对流式的干燥箱为工作温度上限乘2.5%。惟独电热真空干燥箱不设温度均匀度参数,这是因为真空干燥箱内依靠气体分子运动使工作室温度达到均匀的可能性几乎已经没有了。因此,从概念上我们就不能再把通常电热(鼓风)干燥箱所规定的温度均匀度定义用到真空干燥箱上来。在真空状态下设这个指标也是没有意义的。热辐射的量与距离的平方成反比。同一个物体,距离加热壁20cm处所接受的辐射热只是距离加热壁10cm处的1/4。差异很大。这种现象与冬天晒太阳时,晒到太阳的一面很暖和,晒不到太阳的一面比较冷是一个道理。由于真空干燥箱在结构上很难做到使工作室三维空间内的各点辐射热的均匀一致,同时也缺乏好的评估方法,这有可能是电热真空干燥箱标准中不设温度均匀度参数的原因。箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。杭州防止氧化真空烘箱安全警报

真空烘箱

低温对产品的影响1、橡胶等柔韧性材料的弹性降低,并产⽣破裂;2、⾦属和塑料脆性增⼤,导致破裂或产⽣裂纹;3、由于材料的收缩系数不同,在温变率较⼤时,会引起活动部件卡死或转动不灵;4、润滑剂粘性增⼤或凝固,活动部件之间摩擦⼒增⼤,引起动作滞缓,甚⾄停⽌⼯作;5、元器件电参数发⽣变化,影响产品的电性能;6、结冰或结霜引起产品结构破坏或受潮等。⼆、低温环境效应1、使材料硬化及脆化。2、不同材料的不同收缩特性⽽使零件卡死。3、由于润滑剂增加黏性⽽失去润滑作⽤。4、电性改变(如电阻,电容等)。5、变压器和机电组件功能改变。6、冲击基座变硬。7、物破裂,如铵硝酸。8、使试件产⽣裂痕、脆化并改变耐冲击强度及减低强度。9、玻璃产⽣静⼒疲劳。10、使⽔凝结和冰冻。11、减低⼈的灵巧性及使听⼒和视⼒退化。12、改变燃烧速率。江苏整体成型硅橡密封圈真空烘箱PID调节不得放易燃、易爆、易产生腐蚀性气体的物品进行干燥。

杭州防止氧化真空烘箱安全警报,真空烘箱

真空烘箱有以下特点:短加热时间,与传统干燥烘箱比加热时间减少50%以上。真空烘箱因为是由电力提供热能,而湿的物品是会导电的,故在使用上宜小心不要有漏电的现象发生,故一般烘箱都要接地使用,以保安全。若没有地线也要确认烘箱没有漏电的现象;若有轻微的漏电现象,可试着将插座拔起后将插脚以相反方向再插入,若没有漏电现象可小心使用,若仍有漏电现象则应立即停用。广泛应用于医药,冶金,电子五金,食品,化工,PCB烘烤等等行业。

互感器生产工艺流程:包扎→二次线圈绕制→二次线圈检测→一次线圈绕制→装模→真空浇注→加热固化→脱模→试验。其中:真空浇注:装入模具内的互感器半成品加热干燥达到工艺要求后,送入互感器用环氧真空浇注设备内,将配置好的环氧混合材料采用真空浇注的方式注入模具内,进行真空脱气处理,达到工艺要求的真空度后,破空取出模具送入电加热烘箱加热固化。脱模:电加热烘箱内的环氧混合料(环氧树脂和硅微粉),在模具内经过加热固化成形后,将模具从烘箱内取出,打开模具,取出互感器产品。真空烘箱真空度≤133Pa,可有效进行真空脱处理,完成真空浇注工艺经常检查油位位置,不符合规定时须调整使之符合要求。

杭州防止氧化真空烘箱安全警报,真空烘箱

真空烘箱,是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它的工作原理是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。真空烘箱能在较低温度下得到较高的干燥速率,热量利用充分,主要适用于对热敏性物料和含有容剂及需回收溶剂物料的干燥。在干燥前可进行消毒处理,干燥过程中不得有任何杂物混入,本干燥器属于静态真空干燥器,故干燥物料的形成不会损坏。加热方式有:蒸汽、热水、导热油、电热。广泛应用于医药,冶金,电子五金,食品,化工,PCB烘烤等等行业。杭州防止氧化真空烘箱安全警报

本所物料的干燥周期,每隔一段时间观察一下,历力表,温度表,和箱体内的变化,来处理。杭州防止氧化真空烘箱安全警报

    为获得平坦而均匀的光刻胶涂层并使光刻胶与晶片之间有良好的黏附性,通常在涂胶前对晶片进行预处理。预处理第一步常是脱水烘烤,在真空或干燥氮气的机台中,以150~200℃烘烤。工艺目的是除去晶片表面吸附的水分,在此温度下,晶片表面大约保留了一个单分子层的水。涂胶后,晶片须经过一次烘烤,称之软烘或前烘。工艺作用是除去胶中大部分溶剂并使胶的曝光特性固定。通常,软烘时间越短或温度越低会使得胶在显影剂中的溶解速率增加且感光度更高,但对比度会有降低。实际上软烘工艺需要通过优化对比度而保持可接受感光度的试凑法用实验确定,典型的软烘温度是90~100℃,时间从用热板的30秒到用烘箱的30分钟。在晶片显影后,为了后面的高能工艺,如离子注入和等离子体刻蚀,也须对晶片进行高温烘烤,称之后烘或硬烘。这一工艺目的在于:减少驻波效应;激发化学增强光刻胶PAG产生的酸与光刻胶上的保护基团发生反应并移除基团使之能溶解于显影液。 杭州防止氧化真空烘箱安全警报

与真空烘箱相关的产品
与真空烘箱相关的**
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责