朗盛树脂企业商机

树脂床膨胀率(20 oC. Per m/h) 空塔空间反洗(外部 / 内部) vol. % 60-80 再生剂HCl H 2 SO 4 NaCl 逆流再生水平app. g/l 50 80 90 逆流再生浓度wt.% 4-6 1.5/3** 8-10 线速度再生app.m/h 5 10-20 5 线速度冲洗app.m/h 5 5 5 冲洗用水量慢/快app.BV 2 2 2 顺流再生水平app.g/l 100 150 200 顺流再生浓度app. wt. % 6-10 1.5/3** 8-10 线速度再生app.m/h 5 10-20 5 线速度冲洗app.m/h 5 5 5 冲洗用水量慢/快app.BV 6 6 6 混床操作HCl H2SO4 树脂床高再生水平app.g/l 100 150 再生浓度朗盛树脂上海纯超环保询问报价。销售朗盛树脂价格

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产品介绍:

LEWATIT. MonoPlus MP 62

产品信息

Lewatit . MP 62 是一类具有叔胺单功能基团的弱碱性大孔阴离子交换树脂,其有着低的碱度和标准的粒径分布。其高的全交换量和工作交换量以及出色的机械稳定性使之非常适合脱矿物质系统,尤其适用于要求低的硅漏出量时与强解离阴离子树脂联用。由于其大孔结构Lewatit . MP 62 可以有效的吸附解吸附自然界存在的有机物质(高抗有机污垢性)。

Lewatit . MP 62 主要应用领域是:

. 工业蒸汽发生器顺流过程中水的脱矿物质,或者用于现在逆流过程系统,如:Lewatit . WS 系统,Lewatit . Liftbed 系统,Lewatit . Rinsebed 系统。

. 去除水(尤其是地表水)中的有机物质


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外观形态: 浅黄色,半透明物化特性:均一系数* max. 1.1 平均粒径* mm 0.59 (+/-0.05) 堆积密度(+/-5%) g/l 650 密度app. g/ml 1.08 含水量wt. % 45-50 体积全交换容量* min. eq/l 1.4 体积变化Cl--->OH- max. vol.% 22 稳定性pH 0-14 储存期max. 年2 储存温度 oC -20-+40 推荐操作条件*:操作温度max. oC 70 操作酸碱度0-12 树脂床高度min. mm 800 压降(15oC) approx. kPa*h/m2 1.0 比较大允许压降kPa 200 线速度工作max. m/h 5-120 线速度反洗(20oC) approx. m/h 7树脂床膨胀率(20 oC. Per m/h) 空塔空间反洗(外部 / 内部) vol. % 80-100

•与Lewatit ® MonoPlus S200 KR联合使用于凝结水精处理混床 Lewatit ® MonoPlus M 800 使树脂床拥有了以下特点: •在再生和装填过程中有很高的交换流速 • 体积全交换容量得到充分的利用 • 淋洗水用量低 • 再生剂、水和溶液可以均匀分散在系统中,由此产生有均匀的工作区 • 整个床层深度有几乎线性变化的压降梯度,由此使得在更深的床层条件下进行操作成为可能。 • 作为混床中的一个成分,易于分离概要:供应类型: Cl- 聚合物类型: 交联聚苯乙烯官能团: 季胺I型结构: 凝胶型购买朗盛树脂请咨询上海纯超环保。

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混床操作床高再生剂NaOH 再生水平app.g/l 100 再生剂浓度冲洗水用量慢/快app.BV 2/5 * 信据推。息荐然表操中而作获,条得要件计。是算指离在子正交常换条设件备下所使需用的产树品脂。量这还是需基要于额试外验的工数厂据的。测那试些和数工据业可应以用从中我获们得的技数术额外信息及规则:安全防范强氧化剂,如硝酸,与离子交换树脂接触能引发剧烈的反应。毒性请参考安全数据表。它包含如产品描述、运输、仓储、处理、安全和生态环保废品处理在欧共体,必须依照欧洲废品命名法来处理离子交换树脂,该命名法可从欧盟网站上获取。储存建议将离子交换树脂储存于干燥、没有阳光直射的室内,储存温度应高于水的冰点。如果树脂冻结,不能用机械方法处理,将其置于环境温度中逐步解冻。在处理或使用前,应当使树脂完全解冻。不能试图去加速解冻过程。上海纯超环保出售原装朗盛树脂。浙江销售朗盛树脂货源充足

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TP 207是一类带有螯合的亚氨基二乙酸官能团的弱酸性大孔阳离

子交换树脂,它可以从弱酸性溶液中选择性提取*阳离子到弱碱性溶液

中。从中性水溶液中去除二价阳离子依据下列选择性顺序:

Cu2+>VO 2+>UO2 2+>Pb2+>Ni2+>Zn2+>Cd2+>Fe2+>Be2+>Mn2+>Ca2+>Mg2+>Sr2+>Ba

2+>Na+

TP 207 是标准粒径分布的。其好的化学和机械稳定性使之特别适

用于下列应用:

?从金属表面修饰工厂废水中,甚至在存在高浓度钙离子的情况下,选择性去除痕量*



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