材料刻蚀是一种通过化学反应或物理过程来去除材料表面的一层或多层薄膜的技术。它通常用于制造微电子器件、光学元件、MEMS(微机电系统)和纳米技术等领域。材料刻蚀可以分为湿法刻蚀和干法刻蚀两种类型。湿法刻...
光刻技术是一种将光线通过掩模进行投影,将图案转移到光敏材料上的制造技术。在光学器件制造中,光刻技术被广泛应用于制造微型结构和纳米结构,如光学波导、光栅、微透镜、微镜头等。首先,光刻技术可以制造高精度的...
材料刻蚀是一种重要的微纳加工技术,广泛应用于半导体、光电子、生物医学等领域。在材料刻蚀过程中,影响刻蚀效果的关键参数主要包括以下几个方面:1.刻蚀气体:刻蚀气体的种类和流量对刻蚀速率和表面质量有很大影...
双等离子体源刻蚀机加装有两个射频(RF)功率源,能够更精确地控制离子密度与离子能量。位于上部的射频功率源通过电感线圈将能量传递给等离子体从而增加离子密度,但是离子浓度增加的同时离子能量也随之增加。下部...
干法刻蚀也可以根据被刻蚀的材料类型来分类。按材料来分,刻蚀主要分成三种:金属刻蚀、介质刻蚀、和硅刻蚀。介质刻蚀是用于介质材料的刻蚀,如二氧化硅。接触孔和通孔结构的制作需要刻蚀介质,从而在ILD中刻蚀出...
等离子体刻蚀机要求相同的元素是:化学刻蚀剂和能量源。物理上,等离子体刻蚀剂由反应室、真空系统、气体供应、终点检测和电源组成。晶圆被送入反应室,并由真空系统把内部压力降低。在真空建立起来后,将反应室内充...
材料刻蚀是一种重要的微纳加工技术,可以用于制造微电子器件、MEMS器件、光学元件等。提高材料刻蚀的效率可以提高加工速度、降低成本、提高产品质量。以下是一些提高材料刻蚀效率的方法:1.优化刻蚀参数:刻蚀...
在GaN发光二极管器件制作过程中,刻蚀是一项比较重要的工艺。ICP干法刻蚀常用在n型电极制作中,因为在蓝宝石衬底上生长LED,n型电极和P型电极位于同一侧,需要刻蚀露出n型层。ICP是近几年来比较常用...
化学机械抛光(CMP)是一种重要的表面处理技术,广泛应用于半导体制造中的光刻工艺中。CMP的作用是通过机械磨削和化学反应相结合的方式,去除表面的不均匀性和缺陷,使表面变得平整光滑。在光刻工艺中,CMP...
材料刻蚀是一种通过化学反应或物理作用,将材料表面的一部分或全部去除的过程。它是一种重要的微纳加工技术,被广泛应用于半导体、光电子、生物医学、纳米科技等领域。材料刻蚀可以分为湿法刻蚀和干法刻蚀两种类型。...
光刻技术是一种重要的微纳加工技术,广泛应用于半导体、光电子、生物医学、纳米科技等领域。在半导体领域,光刻技术是制造芯片的关键工艺之一。通过光刻技术,可以将芯片上的电路图案转移到硅片上,从而实现芯片的制...
光刻机是半导体制造过程中重要的设备之一,其关键技术主要包括以下几个方面:1.光源技术:光刻机的光源是产生光刻图形的关键,目前主要有紫外线(UV)和深紫外线(DUV)两种光源。其中,DUV光源具有更短的...