接触探头测量弯曲和难测的表面CP-1-1.3测量平面或球形样品,结实耐用的不锈钢单线圈。CP-1-AR-1.3可以抑制背面反射,对1.5mm厚的基板可抑制96%。钢制单线圈外加PVC涂层,ZUI大可测...
FSM360拉曼光谱系统FSM紫外光和可见光拉曼系统,型号360FSM拉曼的应用l局部应力;l局部化学成分l局部损伤紫外光可测试的深度优袖的薄膜(SOI或Si-SiGe)或者厚样的近表面局部应力可见光...
不管您参与对显示器的基础研究还是制造,Thetametrisis都能够提供您所需要的...测量液晶层-聚酰亚胺、硬涂层、液晶、间隙测量有机发光二极管层-发光、电注入、缓冲垫、封装对于空白样品,我们建议...
EVG的掩模对准系统含有:EVG610;EVG620NT半自动/全自动掩模对准系统;EVG6200NT半自动/全自动掩模对准系统;IQAligner自动掩模对准系统;IQAlignerNT自动掩模对准...
光刻机软件支持基于Windows的图形用户界面的设计,注重用户友好性,并可轻松引导操作员完成每个流程步骤。多语言支持,单个用户帐户设置和集成错误记录/报告和恢复,可以简化用户的日常操作。所有EVG系统...
该公司的高科技粘合剂以功能与可靠性闻名于世。根据客户的专门需求,公司对这些聚合物作出调整,使其具备其它特征。它们极其适合工业环境,在较短的生产周期时间内粘合各种微小的元件。此外,DELO紫外线LED固...
EVG®7200LA大面积SmartNIL®UV纳米压印光刻系统用于大面积无人能比的共形纳米压印光刻。EVG7200大面积UV纳米压印系统使用EVG专有且经过量证明的SmartNIL技术,将纳米压印光...
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EVG®770分步重复纳米压印光刻系统分步重复纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法...
NanoX-8000系统主要性能▪菜单式系统设置,一键式操作,自动数据存储▪一键式系统校准▪支持连接MES系统,数据可导入SPC▪具备异常报警,急停等功能,报警信息可储存▪MTBF≥1500hrs▪产...
HERCULES®NIL完全模块化和集成SmartNIL®UV-NIL系统达300毫米结合EVG的SmartNIL一个完全模块化平台®技术支持AR/VR,3D传感器,光子和生物技术生产应用EVG的HE...
光纤紫外线、可见光谱和近红外备用光纤。接触探头是相当坚固的,但是光纤不能经常被抽屉碰撞或者被椅子压过。该套件包括指令,以及简单的维修工具,新的和旧风格的探头。FO-PAT-SMA-SMA-200-22...