在EVG的NILPhotonics®解决方案支援中心，双方合作研发用于制造光学传感器的新材料，以及适用于大众化市场的晶圆级光学元件。（奥地利）与WINDACH（德国），2019年11月27日――EV集团(EVG)这一全球领仙的为微机电系统、纳米技术与半导体市场提供晶圆键合与光刻设备的供应商，金天宣布与高科技工业粘合剂制造商DELO在晶圆级光学元件(WLO)领域开展合作。这两家公司均在光学传感器制造领域处于领仙地位。它们的合作将充分利用EVG的透镜注塑成型与纳米压印光刻(NIL)加工设备与DELO先进的粘合剂与抗蚀材料，在工业，汽车，消费类电子产品市场开发与应用新型光学设备，例如生物特征身份认证，面部识别。目前双方正在EVG的NILPhotonics®解决方案支援中心（位于EVG总部，奥地利Florian）以及DELO在德国Windach的总部展开合作。双方致力于改善与加快材料研发周期。EVG的NILPhotonics解决方案支援中心为NIL供应链的客户与合作伙伴提供了开放的创新孵化器，旨在通过合作来缩短创新设备与应用的研发与推广周期。该中心的基础设施包括领仙技术的洁净室与支持NIL制造的主要步骤的设备，例如分步重复母版，透镜模制，以及EVG的SmartNIL®技术，晶圆键合与必要的测量设备。纳米压印技术在纳米科技领域具有广泛的应用前景，可以推动纳米科技的发展和应用。高精密仪器纳米压印干涉测量应用
关于WaveOpticsWaveOptics是衍射波导的全球lingxian设计商和制造商，衍射波导是可穿戴AR设备中的关键光学组件。诸如智能眼镜之类的AR可穿戴设备使用户能够观看覆盖在现实世界之上的数字图像。有两个关键元素可让您看到这些图像-微型投影仪之类的光源，以及将图像从投影仪传递到用户眼睛中的一种方式。WaveOptics的波导技术可传输来自光源的光波并将其投射到用户的眼睛中。该技术可产生大的眼框，双目观察和高视野。眼图框（查看窗口）是从中可以看到完整图像的AR显示器的尺寸-请参见下图。WaveOptics的波导提供清晰，无失真的文本以及稳定的图像。WaveOptics技术旨在用于工业，企业和消费者市场的沉浸式AR体验。该公司的目标是，凭借其独特的技术和专业知识，其波导将成为所有AR可穿戴设备中使用的he心光学组件，以实现wuyulunbi的制造可扩展性和视觉性能，并为众多应用提供多功能性。镜片成型纳米压印国内代理EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台，可用于进行母版制作或对基板上的复杂结构来进行直接图案化。
纳米压印设备哪个好？预墨印章用于将材料以明显的图案转移到基材上。该技术用于表面化学的局部修饰或捕获分子在生物传感器制造中的精确放置。纳米压印设备可以进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。将聚合物片或旋涂聚合物加热到其玻璃化转变温度以上，从而将材料转变为粘性状态。然后以足够的力将压模压入聚合物中。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
HERCULES®NIL：完全集成的纳米压印光刻解决方案，可实现300mm的大批量生产■批量生产低至40nm的结构或更小尺寸（分辨率取决于过程和模板）■结合了预处理（清洁/涂布/烘烤/冷却）和SmartNIL®技术■全自动压印和受控的低力分离，可蕞大程度地重复使用工作印章■具备工作印章制造能力EVG®770：连续重复的纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作■用于晶圆级光学器件的微透镜的高效母模制造，直至SmartNIL®的纳米结构■不同类型的母版的简单实现■可变的光刻胶分配模式■分配，压印和脱模过程中的实时图像■用于压印和脱模的原位力控制岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。
EVG®6200NT特征：顶部和底部对准能力高精度对准台自动楔形补偿序列电动和程序控制的曝光间隙支持蕞新的UV-LED技术蕞小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）敏捷处理和转换工具台式或带防震花岗岩台的单机版EVG®6200NT附加功能：键对准红外对准智能NIL®µ接触印刷技术数据晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：75至200mm柔软的UV-NIL：75至200毫米SmartNIL®：蕞多至150mm解析度：≤40nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：软UV-NIL＆SmartNIL®曝光源：汞光源或紫外线LED光源对准：软NIL：≤±0.5µm；SmartNIL®：≤±3微米自动分离：柔紫外线NIL：不支持；SmartNIL®：支持工作印章制作：柔软的UV-NIL：外部；SmartNIL®：支持HERCULES ® NIL是完全集成SmartNIL ®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。EVG520 HE纳米压印竞争力怎么样
SmartNIL的主要技术是可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印结果。高精密仪器纳米压印干涉测量应用
SmartNIL是行业领仙的NIL技术，可对小于40nm*的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无人可比的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。注：*分辨率取决于过程和模板如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。高精密仪器纳米压印干涉测量应用
