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碳化硅有黑碳化硅和绿碳化硅两个常用的基本品种，都属α-SiC。①黑碳化硅含SiC约95%，其韧性高于绿碳化硅，大多用于加工抗张强度低的材料，如玻璃、陶瓷、石材、耐火材料、铸铁和有色金属等。②绿碳化硅含SiC约97%以上，自锐性好，大多用于加工硬质合金、钛合金和光学玻璃，也用于珩磨汽缸套和精磨高速钢刀具。此外还有立方碳化硅，它是以特殊工艺制取的黄绿色晶体，用以制作的磨具适于轴承的超精加工，可使表面粗糙度从Ra32～0.16微米一次加工到Ra0.04～0.02微米。碳化硅的硬度很大,莫氏硬度为9.5级，仅次于世界上硬的金刚石（10级），具有优良的导热性能，是一种半导体，高温时能抗氧化。硅铁适合用作脱氧剂来炼钢，但是碳化硅的加入对于钢材的质量也有更好的效果提升。崇明区碳化硅公司哪家好

因其3.2的比重及高的升华温度（约2700 °C），碳化硅很适合做为轴承或高温炉之原料物件。在任何已能达到的压力下，它都不会熔化，且具有相当低的化学活性。由于其高热导性、高崩溃电场强度及高的大电流密度，在半导体高功率元件的应用上，不少人试着用它来取代硅。此外，它与微波辐射有很强的偶合作用，并其所有之高升华点，使其可实际应用于加热金属。纯碳化硅为无色，而工业生产之棕至黑色系由于含铁之不纯物。晶体上彩虹般的光泽则是因为其表面产生之二氧化硅保护层所致。黄浦区碳化硅介绍碳化硅的粒度越细，价格就越高。

碳化硅因其很大的硬度而成为一种重要的磨料，但其应用范围却超过一般的磨料。制备碳化硅制品首先要制备碳化硅冶炼块。在工业生产中，碳化硅冶炼块通常以石英、石油焦等为原料，辅助回收料、乏料，经过粉磨等工序调配成为配比合理与粒度合适的炉料经高温制备而成。高温制备碳化硅冶炼块的热工设备是**的碳化硅电炉，其结构由炉底、内面镶有电极的端墙、可卸式侧墙、炉心体等组成。该电炉所用的烧成方法俗称：埋粉烧成。它一通电即为加热开始，炉心体温度约2500℃，甚至更高，炉料达到1450℃时开始合成碳化硅，且放出co。然而，≥2600℃时碳化硅会分解，但分解出的si又会与炉料中的C生成碳化硅。

碳化硅在半导体产业的应用：碳化硅半导体产业链主要包括碳化硅高纯粉料、单晶衬底、外延片、功率器件、模块封装和终端应用等环节。单晶衬底是半导体的支撑材料、导电材料和外延生长基片。目前，SiC单晶生长方法有物理的气相传输法（PVT法）、液相法（LPE法）、高温化学气相沉积法（HTCVD法）等。碳化硅外延片，是指在碳化硅衬底上生长了一层有一定要求的、与衬底晶向相同的单晶薄膜（外延层）的碳化硅片。实际应用中，宽禁带半导体器件几乎都做在外延层上，碳化硅晶片本身只作为衬底，包括GaN外延层的衬底。碳化硅高纯粉料是采用PVT法生长碳化硅单晶的原料，其产品纯度直接影响碳化硅单晶的生长质量以及电学性能。采用碳化硅材料制造的宽禁带功率器件，具有耐高温、高频、高效的特性。按照器件工作形式，SiC功率器件主要包括功率二极管和功率开关管。碳化硅很适合做为轴承或高温炉之原料物件。

我国碳化硅冶炼生产工艺、技术装备和单吨能耗达到先进水平。黑、绿碳化硅原块的质量水平也属世界的级别。我国碳化硅与世界先进水平的差距主要集中在四个方面：一是在生产过程中很少使用大型机械设备，很多工序依靠人力完成，人均碳化硅产量较低；二是在碳化硅深加工产品上，对粒度砂和微粉产品的质量管理不够精细，产品质量的稳定性不够；三是某些产品的性能指标与发达国家同类产品相比有一定差距；四是冶炼过程中一氧化碳直接排放。国外主要企业基本实现了封闭冶炼，而我国碳化硅冶炼几乎全部是开放式冶炼，一氧化碳全部直排。2012年，我国企业开发出了封闭冶炼技术，实现了一氧化碳全部回收，但是距离全行业普及还有很长的路要走。碳化硅有黑碳化硅和绿碳化硅两个常用的基本品种，都属α-SiC。崇明区碳化硅公司哪家好

碳加硅会形成一种新的化合物—碳化硅（SiC），俗称金刚砂。崇明区碳化硅公司哪家好

碳化硅的真假识别，碳化硅相对于金属硅粉和金属铝粉来说分辨起来容易一些，一般的化验室就能直接化验出碳化硅的化学成分，所以碳化硅作假一般也不是在化学成分上做文章，而是晶粒大小上，有一种工业回收产物其主要成分也是碳化硅，而且含量很高，价格非常便宜，但是其晶粒非常小，加入镁碳砖中起不到相应的作用，所以说，对于碳化硅而言，只要化验出碳化硅的含量，控制其粒度范围，即可杜绝碳化硅作假，如果实在不放心，可以直接购买块状碳化硅，然后自行破碎。崇明区碳化硅公司哪家好

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