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    FZ硅主要用于高压大功率可控整流器件领域，在大功率输变电、电力机车、整流、变频、机电一体化、节能灯、电视机等系列产品的芯片中普遍采用。当前FZ硅片直径可控制在3~6英寸之间。外延硅片主要用于晶体管和集成电路领域，如逻辑电路一般使用价格较高的外延片，因其在集成电路制造中有更好的适用性，并具有消除闩锁效应的能力。当前外延片的直径在3~12英寸之间。实际生产中是从成本和性能两方面考虑新用硅片的生产方法和规格的，当前仍是直拉法单晶硅材料应用**为***。硅片利用介绍硅片再利用是一种从废物中分离出来的有用物质经过物理或机械加工成为再利用的制品。如废玻璃、废金属、硅片，废电池片的回收再利用指以将再次生产的方式。硅片如何利用硅片如何利用流程具体介绍如下：切片：将单晶硅棒切成具有精确几何尺寸的薄硅片。此过程中产生的硅粉采用水淋，产生废水和硅渣都可以利用。退火：双工位热氧化炉经氮气吹扫后，用红外加热至300~500℃，硅片表面和氧气发生反应的材料，使硅片技术表面形成二氧化硅再次生产。倒角：将退火的硅片进行修整成圆弧形，防止硅片边缘破裂及晶格缺陷产生，增加磊晶层及光阻层的平坦度。此过程中产生的硅片废水和硅渣。 硅片回收的性价比、质量哪家比较好？工业园区硅片硅片回收

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碳化硅具有两种晶型，β-型是立方体，α＝0.4350纳米特硬。绿色至蓝黑色。介电常数7。硬度9莫斯。A-是半导体。迁移率（300K），平方厘米/（VS），400电子和50空穴，谱带间隙eV，303（0开）和2.996（300开）；有效质量0.60电子和1.00空穴，电导性，耐高温氧化性能。相对密度3.16。熔点2830℃。导热系数（500℃）22.5、（1000℃）23.7瓦特（平方米·开）。热膨胀系数：线性至100℃：5.2×10-6/℃，不溶于水、醇；溶于熔融碱金属氢氧化物。通常碳化硅在切割加工过程中，由于机械力作用，导致碳化硅微粒的球形系数、粒径和粒径分布发生变化；另外，切割液使用过程中，多晶硅被切割的粉末和其它机械杂质混于其中，形成混合性切割加工副产物。切割用碳化硅微粒要求很高的纯度以及一定的球形系数，合适的粒径分布。所以，硅片切割加工副产物不能直接回用于生产过程。碳化硅作为重要的材料，由于生产过程复杂，消耗大量的能源，价格高，所以，人们一直致力于从硅片切割加工副产物中提取高纯度、符合硅片切割加工工艺要求的碳化硅微粉。

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