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光稳定剂基本参数
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  • 紫外线吸收剂
光稳定剂企业商机

Chiguard 353 若将涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353与紫外线吸收剂Chiguard 5530,Chiguard 5228,Chiguard 5582或Chiguard 5400配合使用,会使涂料的耐候性有明显的提高.协同作用会使涂料更好地发挥作用,对于失光、开裂、起泡、脱落和变色均有很好的抑制作用. 液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353光稳定剂可加于清漆,中涂和实色漆中。根据我们的经验,光稳定剂加于较上一层涂层中可发挥其较大的保护作用。 液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353可能会和涂料体系中的酸性成分如:酸类催化剂发生反应。所以在此类条件下使用,请加以测试。 建议用量(相对于树脂固体份): 清漆和单层金属漆:0.5-2%天来稳292+ 1-3%Chiguard 5530,Chiguard 5228,Chiguard 5582或Chiguard 5400 实色漆:0.5-2% Chiguard 353(单独使用)或+ 1-3%Chiguard 5530,Chiguard 5228,Chiguard 5582或Chiguard 5400薄 膜: 线性低密度聚乙烯和聚丙烯的抗紫外稳定作用。光稳定剂Chiguard 1064

光稳定剂Chiguard 1064,光稳定剂

Chiguard 353涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353与紫外线吸收剂Chiguard 5530,Chiguard 5228,Chiguard 5582或Chiguard 5400配合使用,会使涂料的耐候性有明显的提高.协同作用会使涂料更好地发挥作用,对于失光、开裂、起泡、脱落和变色均有很好的防止作用. 涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353光稳定剂可加于清漆,中涂和实色漆中。根据我们的经验,光稳定剂加于较上一层涂层中可发挥其较大的保护作用。长期耐紫外线光稳定剂厂家供应低挥发及少量迁移的光稳定剂。

光稳定剂Chiguard 1064,光稳定剂

Tinuvin 622巴斯夫光稳定剂622为聚合型高分子量受阻胺光稳定剂, Tinuvin622是一种齐聚物, 具有很好的加工热稳定性和与各种树脂良好的相容性, 又由于本品是高分子量化合物, 具有很好的耐水抽出性, 因此, 在加工过程中或使用中, 耐水抽出性良好, 不易损失。本品可以有效地防止光、热及气候、水分对高聚物的降解作用。比一般低分子量受阻胺光稳定剂(HALS)优越很多。聚合型受阻胺具有更好的耐热性, 耐抽出性, 更低的挥发性和迁移性。作为光稳定剂, 本品适用于聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、烯烃共聚物、聚酯、软质聚氯乙烯、聚氨酯、聚甲醛和聚酰胺等。

Chiguard 353基本特性: 涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353是被经常用于改善各种聚合物耐候性的一种液体光稳定剂。 化学名称: 双(1,2,2,6,6-五甲基- 4 –哌啶基)葵二酸酯 CAS:41556-26-7和82919-37-7 涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353是高效液体稳定剂,适用于多种聚合物和多种用途,包括聚氨酯、密封胶、粘合剂、弹性体、不饱和聚酯、丙烯酸类、乙烯基聚合物(PVB、PVC)、苯乙烯均聚和共聚物、聚烯烃、液体颜色浓缩物和其它有机物基体。 涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353可用于如下领域: --汽车涂料(非酸固化体系) --工业涂料 --木器涂料和DIY涂料 --辐射固化涂料(不影响固化速度)聚烯烃和苯乙烯聚合物良好相容性的耐候助剂。

光稳定剂Chiguard 1064,光稳定剂

UV3529 品牌:Cytec氰特 型号:CYASORB UV 3529 相关参数: 热失重温度, -10% 350℃ (空气中升温速度10C/min) 熔点:85-95°C 分子量:1,700+/-10% 产品形态:锭剂 溶解度(g/100ge 25°C)可溶于多种有机溶剂 性能特点: 1、与酸性物质的低反应性 2、很低色污 3、低挥发性 4、与光吸收剂和其他受阻胺的较好的互配性 应用领域: PE:膜,扁丝,注塑和滚塑制品、片材、茂金属. PP:膜.扁丝,纤维,注塑制品.TPO,聚缩醛,尼龙, PET,PBT, ASA, ABS, HIPS,硬质和软质PVC, PMIMA和PUR,汽车涂料、工业涂料、 木器涂料和 DIY 涂料 、辐射固化涂料适用的涂料体系的光稳定剂。长期耐紫外线光稳定剂厂家供应

空间位阻胺,单体紫外光稳定剂。光稳定剂Chiguard 1064

Nylostab S-EED 是一种新颖的尼龙用多功能添加剂,在单一分子里含有多种有利的性质。由于分子结构独特,Nylostab S-EED能 够耐尼龙熔体的还原环境,可作为一种熔体稳定剂,也可作为熔体加工改性剂。通过应用Nylostab S-EED,熔体压力的高度稳定性使 得尼龙注塑制件、吹塑制件及挤出产品质量很好,在纤维纺丝的应用中断丝的比例很低。 尼龙6加工时的扭矩曲线(表现为挤出机马达的电流消耗) 图表1很清楚地阐明了Nylostab S-EED对尼龙6的稳定作用。在熔体加工时如果同时加入了其他的受阻胺(HALS)稳定剂时,没有这个效 果。 从图1可以看出,Nylostab S-EED可以改善注塑件的表观质量。含有Nylostab S-EED的制品表面更平滑些,注塑螺纹无缺陷。同样也发现,Nylostab S-EED可以改善吹注应用时的可加工性。光稳定剂Chiguard 1064

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