日本艾迪科光稳定剂Chiguard 5400

Chiguard 1108 紫外光稳定剂Chiguard 1108 是一种受阻苯甲酸酯类光稳定剂、抗紫外线自由基捕获剂，抗气熏褪色，低碱性。挥发性低、着色性小、化学稳定性好、可耐酸和碱。低化学活性使其适合于需加入卤素阻燃剂或过氧化物聚烯烃体系。 理化数据： 产品形态 白色粉末 熔点 60℃ 分子量 475 相对密度 1.07（25℃） 热失重温度T-10% 291℃ 功能 ： 1、是较佳的自由基捕获剂，具有很好的光稳定性能，同时还具有抗氧剂性能。 2、抗NOX气熏褪色，PH值中性。 3、与受阻胺的协同增效作用。 4、对PP和阻燃聚烯烃体系具有很有效稳定性。聚酰胺（polyamides）和聚缩醛（polyacetals）光稳定剂。日本艾迪科光稳定剂Chiguard 5400

Chiguard 353基本特性： 涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353是被经常用于改善各种聚合物耐候性的一种液体光稳定剂。 化学名称: 双（1，2，2，6，6-五甲基- 4 –哌啶基）葵二酸酯 CAS:41556-26-7和82919-37-7 涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353是高效液体稳定剂，适用于多种聚合物和多种用途，包括聚氨酯、密封胶、粘合剂、弹性体、不饱和聚酯、丙烯酸类、乙烯基聚合物（PVB、PVC）、苯乙烯均聚和共聚物、聚烯烃、液体颜色浓缩物和其它有机物基体。 涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353可用于如下领域： --汽车涂料（非酸固化体系） --工业涂料 --木器涂料和DIY涂料 --辐射固化涂料（不影响固化速度）长期耐紫外线光稳定剂Chiguard 5411聚合物中优异相容性和抗萃取性的光稳定剂。

Nylostab S-EED 是一种新颖的尼龙用多功能添加剂，在单一分子里含有多种有利的性质。由于分子结构独特，Nylostab S-EED能 够耐尼龙熔体的还原环境，可作为一种熔体稳定剂，也可作为熔体加工改性剂。通过应用Nylostab S-EED，熔体压力的高度稳定性使 得尼龙注塑制件、吹塑制件及挤出产品质量很好，在纤维纺丝的应用中断丝的比例很低。 尼龙6加工时的扭矩曲线（表现为挤出机马达的电流消耗） 图表1很清楚地阐明了Nylostab S-EED对尼龙6的稳定作用。在熔体加工时如果同时加入了其他的受阻胺(HALS)稳定剂时，没有这个效 果。 从图1可以看出，Nylostab S-EED可以改善注塑件的表观质量。含有Nylostab S-EED的制品表面更平滑些，注塑螺纹无缺陷。同样也发现，Nylostab S-EED可以改善吹注应用时的可加工性。

YASORB UV-2908 美国氰特（CYTEC）紫外线吸收剂 紫外线吸收剂YASORB UV-2908是一种受阻苯甲酸酯类光稳定剂、高效的抗紫外线自由基捕获剂，抗气熏褪色，低碱性。挥发性低、着色性小、化学稳定性好、可耐酸和碱。低化学活性使其适合于需加入卤素阻燃剂或过氧化物聚烯烃体系。 理化数据： 产品形态 白色粉末 熔点 60℃ 分子量 475 相对密度 1.07（25℃） 热失重温度T-10% 291℃ 功能 ： 1、高效的自由基捕获剂，具有很好的光稳定性能，同时还具有抗氧剂性能。 2、抗NOX气熏褪色，PH值中性。 3、与受阻胺的协同增效作用。 4、对PP和阻燃聚烯烃体系的高效稳定性。汽车涂料、工业涂料、 木器涂料和 DIY 涂料 、辐射固化涂料适用的涂料体系的光稳定剂。

Chiguard 353液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353可能会和涂料体系中的酸性成分如：酸类催化剂发生反应。所以在此类条件下使用，请加以测试。 建议用量（相对于树脂固体份）：清漆和单层金属漆：0.5-2%天来稳292+ 1-3%Chiguard 5530,Chiguard 5228,Chiguard 5582或Chiguard 5400 实色漆：0.5-2% Chiguard 353（单独使用）或+ 1-3%Chiguard 5530,Chiguard 5228,Chiguard 5582或Chiguard 5400 CAS:41556-26-7和82919-37-7 涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353是高效液体稳定剂，适用于多种聚合物和多种用途，包括聚氨酯、密封胶、粘合剂、弹性体、不饱和聚酯、丙烯酸类、乙烯基聚合物（PVB、PVC）、苯乙烯均聚和共聚物、聚烯烃、液体颜色浓缩物和其它有机物基体。与酸性物质的低反应性光稳定剂？长期耐紫外线光稳定剂Chiguard 5411

适合于卤素阻燃或过氧化物聚烯烃体系的紫外光稳定剂。日本艾迪科光稳定剂Chiguard 5400

Tinuvin 622巴斯夫光稳定剂622为聚合型高分子量受阻胺光稳定剂, Tinuvin622是一种齐聚物, 具有很好的加工热稳定性和与各种树脂良好的相容性, 又由于本品是高分子量化合物, 具有很好的耐水抽出性, 因此, 在加工过程中或使用中, 耐水抽出性良好, 不易损失。本品可以有效地防止光、热及气候、水分对高聚物的降解作用。比一般低分子量受阻胺光稳定剂(HALS)优越很多。聚合型受阻胺具有更好的耐热性, 耐抽出性, 更低的挥发性和迁移性。作为光稳定剂, 本品适用于聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、烯烃共聚物、聚酯、软质聚氯乙烯、聚氨酯、聚甲醛和聚酰胺等。日本艾迪科光稳定剂Chiguard 5400

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