企业商机
常温无镍封孔剂基本参数
  • 产地
  • 湖北
  • 品牌
  • WF
  • 型号
  • WF-801
  • 是否定制
常温无镍封孔剂企业商机

    应用领域适用于铝及铝合金制品的或草酸阳极氧化膜的封闭处理,特别适用于染色膜的封闭,适用于建筑物铝合金工件的封孔,应用于染色铝合金阳极氧化膜的封闭防止退色或变色能力较好。工艺参数和注意事项工艺参数1.封孔剂浓度:5-10g/l2.封孔温度:65-95℃3.封孔时间:由阳极氧化膜厚决定,室内件2min/μm,室外件3min/μm。为了延长槽液寿命,建议增加连续过滤装置,滤芯孔径10-15μm.每班(8小时)过滤量为3倍槽体积以上。膜层封孔质量:ISO2143(外观、抗染料污染试验、酸溶解试验)稀释过程:加纯水于干净的封孔槽中,用去离子水配制槽液,需升高pH值则用1N的NaOH溶液,需降低pH值则用1N的醋酸溶液,确保槽液pH值在。 常温无镍封孔剂哪家比较好,详情可以访问仙桃百事德,相信您的选择,值得信赖。河北库存常温无镍封孔剂

    目前,铝的阳极氧化层封孔处理有热水封孔、水蒸气封孔、常温封孔以及近年来发展的中温封孔等。热水或者水蒸气封孔是借助于水在微孔中的缔合作用,生成水合离子封孔,但沸水封孔的氧化膜容易吸附空气中的co2,尤其是吸附沿海气候中的nacl,造成微孔腐蚀,使得封孔工件的使用寿命短。一般认为,常温和中温封闭是金属离子的水合和沉积作用对小孔进行封闭,并且常温封孔剂具有杂质容许量高,降低能耗,提高生产效率和改善工作环境的优点。铝常温封孔技术以其节能、快速、优质的整体优势替代沸水法。北京常温无镍封孔剂哪家快常温无镍封孔剂哪家好,详情可以访问仙桃百事德!

铝氧化膜常温封孔机理,阳极氧化膜的微孔形成机理 在阳极氧化过程中,铝作为阳极生成三价铝离子,而电解质溶液中阴离子含有氧,阳极氧化生成的a13+与电解质中的氧作用生成氧化物.随着氧化物薄膜的不均匀生长,必然要伴随着簿膜的局部溶解,这种溶解包括化学溶解和电化学溶解两部分。化学溶解发生在氧化膜所有的面上,使得整个生成的氧化膜不断减薄;而电化学溶解发生多取决于电场方向,主要发生在多孔膜的薄膜孔底,使得氧化膜的微孔不断加深。当两种化学溶解达到平衡时的氧化膜厚度为阳极氧化膜的最终厚度。


    所述非离子表面活性剂为烷基醇酰胺,吐温-80,斯潘-80的混合物。进一步地,以二氧化硅的质量计,所述水玻璃的浓度为20-30%;所述硫酸铝水溶液的质量浓度为10-20%;所述氢氧化钠水溶液的质量浓度为60-80%。本发明还提供一种所述瓦斯抑爆剂的制备方法,包括以下步骤,将一部分拟薄水铝石加入到氢氧化钠水溶液中,在30-40℃下搅拌混合均,得混合液a;将所得混合液a与水玻璃混合,在30-45℃下搅拌2-3h,得混合液b;将剩余的拟薄水铝石与混合液b、硫酸铝水溶液、金属钌盐混合,在55-65℃下搅拌混合20-50分钟,然后升温至93-98℃,静置3-9h,得混合液c;将混合液c冷却后,非离子表面活性剂混合均匀,即得所述瓦斯抑爆剂。进一步地,还包括加入环氧树脂的步骤,具体为,将混合液c冷却后与环氧树脂、非离子表面活性剂混合,即得所述瓦斯抑爆剂。进一步地,与所述氢氧化钠水溶液混合的拟薄水铝石的重量份数为10-20份。进一步地,将所得混合液a与水玻璃混合,在32-36℃下搅拌。进一步地,混合液c的制备过程中,升温至95-98℃,静置6-9h。本发明还提供一种所述瓦斯抑爆剂的应用,其具体使用方法为,将其直接喷洒至含瓦斯的空气中即可。本发明技术方案。常温无镍封孔剂哪家好,详情可以访问仙桃百事德。

    对本技术做进一步描述:如图1所示为本技术较佳实施例的封孔装置的结构示意图,该封孔装置包括封孔罐1、通过管道与封孔罐1密封连接的真空泵2、安装在封孔罐1与真空泵2之间的管道上的第二真空泵3以及用于防止封孔剂进入真空泵2与第二真空泵3内的过滤器4;所述过滤器4的进口端与出口端均连接在封孔罐1与第二真空泵3之间的管道上,在该管道与过滤器4之间形成闭合回路。其中,所述真空泵2为机械泵,所述第二真空泵3为罗茨泵。该封孔装置还包括安装在真空泵2与第二真空泵3之间的管道上用于控制真空泵2与封孔罐1连通和断开的抽滤阀5、安装在第二真空泵3与过滤器4之间的管道上用于控制第二真空泵3与封孔罐1连通和断开的第二抽滤阀6以及安装在封孔罐1与过滤器4之间管道上用于保护真空泵2与第二真空泵3的主阀7以及安装在过滤器4的进口端与出口端之间的管道中还安装有用于控制过滤器4与封孔罐1连通和断开的高真空蝶阀8。所述封孔罐1还连接用于将封孔剂输送至封孔罐1的输送管道11。常温无镍封孔剂选哪家,仙桃百事德为您服务!欢迎各位新老朋友垂询!江西本地常温无镍封孔剂

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    加速封孔物质常温封孔主要靠镍离子在碱性条件下于膜孔中水解产生ni(oh)2沉积而实现,。电中性或者负电性有利于荷正电的ni2+入孔, 因此需要添加某些具有电中和、强吸附、能降低表面张力以及强配合性的物质, 以有效地加速ni2+入孔并创造孔内ni2+水解所需要的环境.氟离子半径小, 有强的化学活性, 带负电荷。在孔壁被吸附后可中和膜孔的正电荷使孔显中性。与孔壁的氧化膜反应可造成孔内碱性环境。正常情况下,氟离子比较好控制在0.6~0.8g /l. 因过高或过低都不利于封孔, 过低时达不到应有的加速封孔效果,过高时封孔速度过快容易引起表面产生“粉霜”,除影响表观质量外, 还会引起一些不利于封孔的副反应。


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