企业商机
四氟化碳基本参数
  • 产地
  • 上海
  • 品牌
  • 不限
  • 型号
  • 不限
  • 是否定制
四氟化碳企业商机

随着我国经济结构调整,新兴产业,特别是计算机、消费电子、通信等产业规模持续增长,拉动了对上游集成电路需求。近几年我国从国家信息安全战略层面不断加大对集成电路产业的政策支持力度,同时,伴随国内集成电路技术的积累,国内近几年集成电路产业规模持续增长,2014年至2019年期间复合增长率达到13.45%,2019年的产值已达到1494.8亿。另一方面,随着半导体制程节点的进一步缩小,每片晶圆的成本越来越高,特种气体的消耗量也逐渐增多。逻辑芯片随着制程节点的缩小,特种气体消耗量增长率达20%,存储芯片特种气体消耗量增长率为1%。


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四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子烛刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。淄博迪嘉5N四氟化碳气体常用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术,  四氟化碳又称四氟甲烷,分子量为88.01,无色无味气体.微溶于水,在25℃、1大气压时,溶解度为0。0015%(重量)。常温下是压缩气体。 上海口碑好四氟化碳价格走势常温常压下比较稳定,但是需要避免接触强氧化剂、易燃或可燃物。

由碳与氟反应,或一氧化碳与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,或二氟二氯甲烷与氟化氢反应,或四氯化碳与氟化银反应,或四氯化碳与氟化氢反应,都能生成四氟化碳。四氯化碳与氟化氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分,经精馏而得成品。

预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉,置于镍盘中,使硅和碳化硅充分接触后,将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中,向反应管内通入氟气,氟气先和单质硅反应,反应放热后,氟开始和碳化硅进行反应,通入等体积的干燥氮气以稀释氟气,使反应继续进行,生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝,然后慢慢地气化后,将其通过装有氢氧化钠溶液的洗气瓶除去四氟化硅,随后通过硅胶和五氧化二磷干燥塔得到**终产品。



经过现场测试和**评审,**组认为,黎明院生产的高纯四氟化碳和六氟化硫产品满足国家重大专项/课题任务书研究内容和考核指标规定的技术要求。项目的验收完成,标志着黎明院开发的高纯度含氟电子气体四氟化碳和六氟化硫产品,能够满足极大规模集成电路行业所需的高纯度气体需求,也标志着极大规模集成电路行业用高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体实现了国产化。‘高纯四氟化碳和六氟化硫研发与中试’子项目,通过了国家重大专项项目组的现场测试与评审。相关产品已提交客户使用,市场应用效果良好。”

四氟化碳不与铜、镍、钨、钼反应。

由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。四氟化碳的溶氧性很好,因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的深度内,小白鼠仍可安全脱险。四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子蚀刻气体,也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。同时,由于四氟化碳的化学稳定性,四氟化碳可用于金属冶炼,例如:铜、不锈钢,碳钢、铝、蒙乃尔等; 温度较低时,四氟化碳与二氧化碳不发生作用。无锡正规四氟化碳厂家供货

四氟化碳是现阶段电子光学制造业中使用量较大的低温等离子蚀刻工艺汽体。上海市新能源四氟化碳价格便宜

.以活性炭与氟为原料经氟化反应制备。在装有活性炭的反应炉中,缓缓通入高浓氟气,并通过加热器加热、供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。产品经除尘,碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去O2、N2、H2,得到高纯CF4。用途用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体,用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。

是微电子工业中用量的等离子蚀刻气体,四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术


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