企业商机
四氟化碳基本参数
  • 产地
  • 上海
  • 品牌
  • 不限
  • 型号
  • 不限
  • 是否定制
四氟化碳企业商机

快速发展的半导体集成电路行业对上游的电子材料需求十分之大,随着近年来国家不断地出台政策扶持,多家 12寸晶圆厂已经完工并投产,同时8寸、6 寸晶圆厂也仍然在兴建中,其中国产厂商能够为6 寸、8 寸厂提供电子气体,但随着制造工艺制程进步,对电子气体质量的稳定性要求也越来越苛刻,从 28 纳米走到7纳米,产品的金属杂质要求须下降100倍,污染粒子的体积也必须要缩小4倍,12 寸厂需要的电子气体纯度通常为6N级(99.9999%)以上,国内厂家的质量很难到要求。用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术。上海原装四氟化碳高性价比的选择

经过现场测试和**评审,**组认为,黎明院生产的高纯四氟化碳和六氟化硫产品满足国家重大专项/课题任务书研究内容和考核指标规定的技术要求。项目的验收完成,标志着黎明院开发的高纯度含氟电子气体四氟化碳和六氟化硫产品,能够满足极大规模集成电路行业所需的高纯度气体需求,也标志着极大规模集成电路行业用高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体实现了国产化。‘高纯四氟化碳和六氟化硫研发与中试’子项目,通过了国家重大专项项目组的现场测试与评审。相关产品已提交客户使用,市场应用效果良好。”

上海市***四氟化碳厂家供货不燃气体,遇高热后容器内压增大,有开裂、危险。

由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。四氟化碳的溶氧性很好,因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的深度内,小白鼠仍可安全脱险。四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子蚀刻气体,也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。同时,由于四氟化碳的化学稳定性,四氟化碳可用于金属冶炼,例如:铜、不锈钢,碳钢、铝、蒙乃尔等;

四氟化碳的化学性质稳定,在通常情况下,它与硅直接接触,也不会发生化学反应。温度较低时,四氟化碳与二氧化碳不发生作用,只有在1000℃以上,才能和二氧化碳进行反应,生成羰基氟。 只有适当的条件下,四氟化碳才能与氧化剂和还原剂进行反应。 四氟化碳不燃烧,有低毒性和窒息性。四氟化碳对肝脏、脑神经系统有损害。与可燃性气体一起燃烧时,发生分解,产生的氧化物。

   四氟化碳没有腐蚀性。可使用铝、铜、青铜、钢、不锈钢等大部分金属和合金材料。聚四氟乙烯和环氧树脂具有良好的耐腐蚀性能。聚三氟氯乙烯聚合体接触四氟化碳有轻微溶胀现象,但傻仍可耐无能蚀。尼龙在高温和有空或有水分存在情况下,它全变脆。


四氟化碳是现阶段电子光学制造业中使用量较大的低温等离子蚀刻工艺汽体。

.以活性炭与氟为原料经氟化反应制备。在装有活性炭的反应炉中,缓缓通入高浓氟气,并通过加热器加热、供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。产品经除尘,碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去O2、N2、H2,得到高纯CF4。用途用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体,用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。

是微电子工业中用量的等离子蚀刻气体,四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术


四氟化碳对肝脏、脑神经系统有损害。常州节能四氟化碳价格便宜

由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。上海原装四氟化碳高性价比的选择

2019-2025年中国四氟化碳市场调查研究及发展前景趋势分析报告是对四氟化碳行业进行的阐述和论证,对四氟化碳研究过程中所获取的资料进行系统的整理和分析,通过图表、统计结果及文献资料,或以纵向的发展过程,或横向类别分析提出论点、分析论据,进行论证。2019-2025年中国四氟化碳市场调查研究及发展前景趋势分析报告如实地反映了四氟化碳行业客观情况,一切叙述、说明、推断、引用恰如其分,文字、用词表达准确,概念表述科学化。


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