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四氟化碳基本参数
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四氟化碳企业商机

电子特气:半导体工业的关键原料,电子特气是电子工业的关键原料,属于工业气体的重要分支。工业气体是现代工业的基础原材料,而电子特气是工业气体中附加值较高的品种,与传统工业气体的区别在于纯度更高(如高纯气体)或者具有特殊用途(如参与化学反应),是极大规模集成电路、平面显示器件、化合物半导体器件、太阳能电池、光纤等电子工业生产中不可或缺的基础和支撑性材料之一,相关下游领域的快速发展将带动未来特种气体的增量需求。 R-14制冷剂,别名R14、氟利昂14、PFC-14,商品名称有Freon 14等。上海正规四氟化碳优化价格

四氟化碳的化学性质稳定,在通常情况下,它与硅直接接触,也不会发生化学反应。

温度较低时,四氟化碳与二氧化碳不发生作用,只有在1000℃以上,才能和二氧化碳进行反应,生成羰基氟。其反应

 只有适当的条件下,四氟化碳才能与氧化剂和还原剂进行反应。

四氟化碳不燃烧,有低毒性和窒息性。四氟化碳对肝脏、脑神经系统有损害。与可燃性气体一起燃烧时,发生分解,产生的氧化物,

 四氟化碳没有腐蚀性。可使用铝、铜、青铜、钢、不锈钢等大部分金属和合金材料。聚四氟乙烯和环氧树脂具有良好的耐腐蚀性能。聚三氟氯乙烯聚合体接触四氟化碳有轻微溶胀现象,但傻仍可耐无能蚀。尼龙在高温和有空或有水分存在情况下,它全变脆。






上海正规四氟化碳优化价格用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体及制冷剂。

.以活性炭与氟为原料经氟化反应制备。在装有活性炭的反应炉中,缓缓通入高浓氟气,并通过加热器加热、供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。产品经除尘,碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去O2、N2、H2,得到高纯CF4。用途用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体,用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。

是微电子工业中用量的等离子蚀刻气体,四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术


作为关键性原材料,特种电子气体的产品质量对下游产业影响很大,例如对晶圆加工生产商而言,若生产用的气体产品发生质量问题,将导致整条生产线产品报废,造成巨额损失。因此,精密化程度非常高的大规模集成电路厂商对气体供应商的选择都会非常审慎和严格。国内外企业市场份额占比悬殊的主要缘由之一便是难以在短期内弥补的技术差距。特种电子气体生产是一个系统工程,涉及到气体的深度提纯技术、痕量杂质分析检测技术、气瓶的内表面处理技术、尾气的处理技术等。


它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳,也可以被视为一种无机化合物。

四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子烛刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯阳氧气的混合体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。对于硅和二氧化硅体系,采用CF4-O2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。



是稳定的有机化合物之一,不易溶于水。镇江直销四氟化碳厂家供货

四氟化碳挥发性较高。上海正规四氟化碳优化价格

公司特种气体产能扩张项目稳步进行。根据公司的招股说明书,公司拟投资 3.5 亿元用于气体中心建设及仓储经营项目,2.2 亿元用于电子气体生产纯化及工业气体充装项目总投资。其中,气体中心建设及仓储经营项目主要为电子特气产品,电子气体生产纯化及工业气体充装项目也涉及对氟碳类气体如四氟化硅、六氟乙烷等电子气体。

气体中心建设及仓储经营项目全部达产后,公司将新增产品年产能包括:高纯锗烷 10 吨、硒化氢 40 吨、磷烷 10 吨、年充装混配气体 500 吨、仓储经营销售砷烷 10 吨、乙硼烷 3 吨、氯气 300 吨、三氟化硼 10 吨。电子气体生产纯化及工业气体充装项目分两期完成,期投资建设规模为年生产 50 吨硫化氢、年纯化 10 吨锗化氢、100 吨四氟化硅、100吨六氟乙烷、100 吨八氟乙烷、100 吨一氟甲烷。 上海正规四氟化碳优化价格

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