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四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。淄博迪嘉5N四氟化碳气体常用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术，  四氟化碳又称四氟甲烷,分子量为88.01,无色无味气体.微溶于水,在25℃、1大气压时，溶解度为0。0015%（重量）。常温下是压缩气体。 四氟化碳对肝脏、脑神经系统有损害。上海优良四氟化碳价格便宜

对于混合气而言，配比的精度是参数，随着产品组分的增加、配制精度的上升，客户常要求气体供应商能够对多种 ppm（part per million，百万分之）乃至 ppb（part perbillion，十亿分之）级浓度的气体组分进行精细操作，其配制过程的难度与复杂程度也增大。此外，气瓶处理、气体分析检测、气体配送等环节亦对生产企业提出了较高的技术要求作为关键性材料，特种气体的产品质量对下游产业的正常生产影响巨大。如果晶圆加工环节所使用的气体发生质量问题，将导致整条生产线产品报废，造成巨额损失华东***四氟化碳价格便宜如在泄漏时，应迅速撤离泄漏污染区人员至上风处，并进行隔离，严格限制出入。

半导体电子特气行业具有较高的技术壁垒。半导体电子特种气体在生产过程中涉及合成、纯化、混合气配制、充装、分析检测、气瓶处理等多项工艺技术，每一步均有严格的技术参数要求和质量控制措施。为了保证半导体器件的质量与成品率，特种气体产品要同时满足“超纯”和“超净”的要求，“超纯”要求气体纯度达到 4.5N、5N 甚至 6N、7N（N 是 Nine 的简写，几个 N 就有几个 9“超净”即要求严格控制粒子与金属杂质的含量。作为特种气体的参数，纯度每提升一个 N，粒子、金属杂质含量浓度每降低一个数量级，都将带来工艺复杂度和难度的提升。

.以活性炭与氟为原料经氟化反应制备。在装有活性炭的反应炉中，缓缓通入高浓氟气，并通过加热器加热、供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。产品经除尘，碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏，通过控制精馏温度，除去O2、N2、H2，得到高纯CF4。用途用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体，用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。

是微电子工业中用量的等离子蚀刻气体，四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术

四氟化碳可用于金属冶炼。

在常温常压下四氟化碳为无色无臭有轻微醚味的气体，在空气中不燃烧，具有可压缩性，挥发性较高，是一种比较稳定的有机化合物。但是在高温时，或与可燃气体一同燃烧时，会分解出的氟化物。

在900℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，*在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%(重量比)，然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生氟化物。在1000℃以上能与二氧化碳形成羰基氟。微溶于水，在25℃，101.325kPa时，水中溶解度为0.0015%(重量)。有轻微的水解作用。

目前对于R14制冷剂的生产、销售以及在新制冷设备上的初装、售后设备上的再添加均没有限制。杭州销售四氟化碳价格走势

性状：无色无味气体 2.熔点（℃）：-183.6 3.沸点（℃）：-127.8。上海优良四氟化碳价格便宜

四氟化碳亦称全氟化碳、四氟甲烷、全氟化碳，为非腐蚀性气体，所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜，铝等金属材料都可以使用，但是含镁大于2%的合金不能用。在高温，一些金属起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下：因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。

四氟化碳一般认为是惰性低毒物质，在高浓度下是窒息剂，其毒性不及四氯化碳。四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。

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