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四氟化碳基本参数
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四氟化碳企业商机

特性 在常温下,四氟化碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体,挥发性较高,是稳定的有机化合物之一,在900℃时,不与铜、镍、钨、钼反应,*在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时,会分解产生氟化物。 应用 四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子烛刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯阳氧气的混合体,可 广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。 在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。温室气体,其造成温室效应的作用是二氧化碳的数千倍。上海市新能源四氟化碳高性价比的选择

四氟化碳的溶氧性很好,因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的深度内,四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体,也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。同时,由于四氟化碳的化学稳定性,四氟化碳可用于金属冶炼,例如:铜、不锈钢,碳钢、铝、蒙乃尔等;还可用于塑料行业;如:合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。

      无锡正规四氟化碳销售价格由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。

四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子烛刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯阳氧气的混合体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。对于硅和二氧化硅体系,采用CF4-O2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。



四氟化碳,又称为四氟甲烷。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳,也可以被视为一种无机化合物。所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中,需要使用四氟化碳。在蚀刻过程中,用四氟化碳将多余的铜皮腐蚀掉,附有油墨的电路上铜皮得以保留,之后再用四氟化碳进行清洗电路上的油墨再烘干,等工艺。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。 四氟化碳又称四氟甲烷,被视为一种无机化合物。

高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体是极大规模集成电路行业必须的清洗、蚀刻气体。随着极大规模集成电路技术的提升,芯片制程向14纳米甚至7纳米的迈进,其对电子气体的纯度要求越来越高。为此,四氟化碳在黎明院借助国家科技重大专项平台,突破产物合成、精制提纯、杂物分析、洁净充装等关键技术,攻克了高纯度四氟化碳和六氟化硫制备过程中微量杂质的纯化、分析等技术难题,制备出5.8N四氟化碳和5.5N六氟化硫,部分杂质含量在0.1ppm以内。四氟化碳可用于金属冶炼。江浙沪***四氟化碳优化价格

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体。上海市新能源四氟化碳高性价比的选择

随着集成电路制造要求复杂度的提升,制造中所使用的电子特气用量也将提升。根据德国普尔茨海姆应用技术大学工业生态研究所(INEC)的 Mario Schmidt 教授等人共同撰写的论文《用于微电子芯片和太阳能电池硅片加工的生命周期评估》,硅晶圆的加工离不开大量化学试剂以及特殊气体,这些气体可以用于包括清洗、蚀刻、光刻、外延、掺杂等工序。经测算,每平方米逻辑电路晶圆加工所需要的电子特气约为 37.3kg,每平方米存储电路晶圆加工需要约 12.0kg 的电子特气。逻辑芯片和存储芯片本身在集成电路中的占比就超 6 成,随着未来 5G 和汽车电子化的趋势以及集成电路技术与制造工艺的提升,电子特气的用量也会得到大幅度的提升。 上海市新能源四氟化碳高性价比的选择

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