优良四氟化碳

由碳与氟反应，或一氧化碳与氟反应，或碳化硅与氟反应，或氟石与石油焦在电炉里反应，或二氟二氯甲烷与氟化氢反应，或四氯化碳与氟化银反应，或四氯化碳与氟化氢反应，都能生成四氟化碳。四氯化碳与氟化氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行，反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体，再通过冷冻，用硅胶除去气体中的水分，经精馏而得成品。

预先称取5～10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉，置于镍盘中，使硅和碳化硅充分接触后，将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中，向反应管内通入氟气，氟气先和单质硅反应，反应放热后，氟开始和碳化硅进行反应，通入等体积的干燥氮气以稀释氟气，使反应继续进行，生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝，然后慢慢地气化后，将其通过装有氢氧化钠溶液的洗气瓶除去四氟化硅，随后通过硅胶和五氧化二磷干燥塔得到**终产品。

四氟化碳的化学性质稳定，在通常情况下，它与硅直接接触，也不会发生化学反应。优良四氟化碳

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上海市新能源四氟化碳高性价比的选择用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术。

半导体材料属于高技术壁垒行业，特别是晶圆制造材料，技术要求高，生产难度大。目前，半导体材料**产品大多集中在美国、日本、德国、韩国、中国台湾等国家和地区生产商。国内由于起步晚，技术积累不足，整体处于相对落后的状态。目前，国内半导体材料主要集中在中低端领域，**产品基本被国外生产商垄断。如硅片，2017年全球五大硅片厂商占据了全球94%的市场份额。

近年来国内半导体材料生产商加大了研发投入，大力推进半导体材料的研发及生产，力争实现国产替代。目前在部分细分领域，已经突破国外垄断，实现规模化供货。如CMP抛光材料的**企业安集科技，公司化学机械抛光液已在130-28nm技术节点实现规模化销售，主要应用于国内8英寸和12英寸主流晶圆产线；溅射靶材**江丰电子，16纳米技术节点实现批量供货，同时7纳米技术节点也实现供货。

运输成本方面，以林德集团为例，作为全球工业气体**，林德在国内的空分装置点有11 个，相比较之下，特种气体工厂* 2 个。考虑到林德集团在国内的特种气体工厂较少，因此大量的特种气体需从海外运输，而从欧洲、美国运至国内耗时约 30 天，运输费用预计不低于国内的长途运输，运输成本将更高。随着国内半导体晶圆厂从华东、华较高的运输和现场维护成本造就本地化配套优势。多品少量是电子特气的特点，因此相比现场制气的空分气体，采用零售方式进体销售更为普遍，但零售气体对于国外企业来讲，需要付出更高的运输和维护成本。然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生氟化物。

四氟化碳的化学性质稳定，在通常情况下，它与硅直接接触，也不会发生化学反应。温度较低时，四氟化碳与二氧化碳不发生作用，只有在1000℃以上，才能和二氧化碳进行反应，生成羰基氟。 只有适当的条件下，四氟化碳才能与氧化剂和还原剂进行反应。 四氟化碳不燃烧，有低毒性和窒息性。四氟化碳对肝脏、脑神经系统有损害。与可燃性气体一起燃烧时，发生分解，产生的氧化物。

   四氟化碳没有腐蚀性。可使用铝、铜、青铜、钢、不锈钢等大部分金属和合金材料。聚四氟乙烯和环氧树脂具有良好的耐腐蚀性能。聚三氟氯乙烯聚合体接触四氟化碳有轻微溶胀现象，但傻仍可耐无能蚀。尼龙在高温和有空或有水分存在情况下，它全变脆。

只有适当的条件下，四氟化碳才能与氧化剂和还原剂进行反应。优良四氟化碳

是稳定的有机化合物之一，不易溶于水。优良四氟化碳

四氟化碳亦称全氟化碳、四氟甲烷、全氟化碳，为非腐蚀性气体，所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜，铝等金属材料都可以使用，但是含镁大于2%的合金不能用。在高温，一些金属起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下：因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。

四氟化碳一般认为是惰性低毒物质，在高浓度下是窒息剂，其毒性不及四氯化碳。四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。

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