20-羟基二十烷酸基本参数
  • 品牌
  • 山鼎化工
  • 型号
  • 20-羟基二十烷酸
20-羟基二十烷酸企业商机

在化妆品的卸妆产品中,20-羟基二十烷酸可作为卸妆成分的辅助原料,其合成的衍生物具备良好的油脂溶解能力,可快速溶解彩妆、防晒等顽固污渍,提升卸妆产品的清洁效果,实现温和高效卸妆。该产品化学性质温和,与卸妆产品的表面活性剂体系(如卸妆油中的植物油、卸妆水的非离子表面活性剂)兼容性良好,不会对皮肤产生刺激,避免卸妆后出现皮肤紧绷、泛红等问题。产品易溶于油脂和有机溶剂,便于配方的均匀调配。存储时密封置于室温环境,避免与强氧化剂接触即可,能满足护理品生产企业的常规仓储需求。此外,该产品具备一定的保湿效果,可缓解卸妆后皮肤的干燥感,提升产品的使用体验。20-羟基二十烷酸助力环保生物材料合成,适配绿色日化品。标准品20-羟基二十烷酸纯度规格

标准品20-羟基二十烷酸纯度规格,20-羟基二十烷酸

作为精细化工领域的基础原料,20-羟基二十烷酸具备多样化的反应潜力。其分子结构中的羟基与羧基可通过选择性修饰,生成酯类、酰胺类、酰氯类、酯盐类等多种功能衍生物,适配不同行业的应用需求。该产品溶解性参数明确,在乙醇中加热可完全溶解,在氯仿、中常温即可溶解,为不同反应体系的溶剂选择提供灵活性。产品外观为均匀的白色结晶粉末,无明显杂质与色差,便于企业进行原料品质的直观检验。存储于2-8℃密封环境中,可有效延缓产品氧化变质,保质期长达12个月以上,为精细化工企业的连续生产提供稳定原料供给。标准品20-羟基二十烷酸纯度规格20-羟基二十烷酸改善护发精油顺滑度,减少发丝打结。

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20-羟基二十烷酸是制备合成酯类润滑剂的主要原料,其与多元醇(如甘油、、三羟甲基丙烷)发生酯化反应生成的合成酯具备优异的润滑性能、抗氧化性与低温流动性。该产品化学结构稳定,在高温环境下不易分解挥发,可保障润滑剂在极端工况下的长效润滑效果。其熔点稳定在86-88℃,在润滑剂生产的酯化反应环节,可通过温度准确调控实现反应进程的高效管控。存储时密封置于阴凉干燥处,避免吸潮与氧化,即可保持良好的反应活性。由其制备的合成酯润滑剂适配范围广,可应用于精密机械、汽车发动机、航空航天等对润滑性能要求严苛的领域,为终端产品性能提升提供主要原料保障。

作为合成酯润滑剂的主要原料,20-羟基二十烷酸具备优异的反应活性,其与醇类发生酯化反应可生成品质高的合成酯,该合成酯具备良好的润滑性能、低温流动性与抗氧化性,在低温环境下仍能保持良好的流动性,避免润滑剂凝固失效。产品化学性质稳定,在酯化反应过程中不易发生副反应,能提升合成酯的收率与纯度。存储时密封置于阴凉干燥处,可有效防止产品氧化,保持良好的反应活性。同时,其生成的合成酯具备良好的生物降解性,符合环保要求,适用于低温环境下的润滑场景,如寒冷地区的机械设备润滑、精密仪器低温润滑等,为润滑剂企业的产品多元化提供支撑。20-羟基二十烷酸提升面霜锁水能力,改善肌肤干燥问题。

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20-羟基二十烷酸作为医药中间体合成原料,具备准确的化学活性,其羟基与羧基可作为明确的反应位点,实现药物分子的定向合成与修饰。该产品纯度高,杂质含量控制在ppm级别,能有效提升药物中间体的合成收率与品质稳定性。产品溶解性适配多种反应溶剂体系,可根据合成需求选择合适的溶解方式(如加热溶解、溶剂复配),便于反应的顺利开展与后续分离提纯。存储时2-8℃的冷藏条件可有效防止产品变质,密封包装能避免产品受到外界污染。同时,该产品符合医药原料的安全使用规范,操作风险低,为制药企业的中间体生产提供稳定、可靠的原料保障,助力提升药物生产的安全性与效率。20-羟基二十烷酸增强药物制剂相容性,提升使用体验。标准品20-羟基二十烷酸纯度规格

20-羟基二十烷酸适配眼霜配方,实现温和滋养眼周。标准品20-羟基二十烷酸纯度规格

在化妆品膏霜类产品中,20-羟基二十烷酸可作为辅助乳化剂与增稠剂,提升产品的乳化稳定性与质地细腻度。该产品与各类主乳化剂(如硬脂酸甘油酯、吐温-80、司盘-60)兼容性良好,可协同增强乳化效果,防止膏霜出现分层、结块、出水等问题。其化学性质温和,不会对皮肤产生刺激,符合化妆品原料的安全要求。产品易溶于油脂相成分,便于在配方中均匀分散,提升产品质地的均匀度与延展性。存储时只需密封置于室温环境,避免阳光直射即可,能满足化妆品生产企业的仓储管理需求。此外,该产品可优化膏霜的稠度,提升产品的使用触感与涂抹体验。标准品20-羟基二十烷酸纯度规格

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