氮化硼散热膜的制备方法主要有激光热解法、磁控溅射法、化学气相沉积法等。其中磁控溅射法和化学气相沉积法是目前应用广的制备方法。 1、磁控溅射法 磁控溅射法是一种将氮化硼薄膜沉积在基板上的方法，其基本原理是在真空腔室中，利用电子轰击将靶材表面的原子或分子溅射出来并沉积在基板上。 该方法的优点是制备过程简单、易于控制，可以得到高纯度、高致密度的氮化硼薄膜。但其缺点是设备成本较高，产量低。 2、化学气相沉积法 化学气相沉积法是一种将氮化硼膜沉积在基板上的方法，其基本原理是利用化学气相反应，在高温高压条件下，将气态前驱体分解成氮化硼原子或分子并在基板上沉积。 该方法的优点是可以制备大面积、大厚度的氮化硼膜，且成本较低，但其缺点是反应条件较为苛刻，易受前驱体污染影响，需要严格控制。二维氮化硼散热膜（SPA-TF40) 被国内主要手机品牌所应用。高导热二维氮化硼散热膜变革
1、二维氮化硼散热膜（SPA-TF40）：广东晟鹏科技有限公司开发了一种大尺寸、超薄二维六方氮化硼的制备技术。二维氮化硼又称白色石墨烯，具有许多优异的特性,如高导热性、绝缘性、导离子性、阻隔性、润滑性、耐高温和耐酸碱。基于这些性质，二维六方氮化硼在热管理材料，电子封装材料、防火材料、防腐材料、生物材料等领域具有非常广阔的应用前景。本团队发展了二维氮化硼的规模化制备方法，可快速生产超径厚比超过1000的超大超薄氮化硼纳米片，远较高水平，在诸多领域有重要应用价值。使用二维氮化硼散热膜特点二维氮化硼散热膜（SPA-TF40) 可以避免手机局部温度过高引起“烫手感明显”。
二维氮化硼散热膜（SPA-TF40）：在5G通信领域方面，石墨散热膜同样具有许多问题。5G通讯技术对于比较低延迟方面的需求，首先，石墨作为一种良好的电磁屏蔽材料，会阻碍通信信号的传输，所以在通信设备中只能用在不影响射频天线的部分。再者，石墨拥有较高的介电系数，而较高的介电系数会导致较高的信号延迟，不利于未来5G对于比较低延迟方面的需求。鉴于石墨散热膜在5G领域中的问题，因此一直以来天线区域温升、信号两难全一直是个大难题。氮化硼具有独特的“高导热、绝缘、低介电常数”的特性在信号完整性至关重要的功率器件散热应用需求中，BN带来了独特的价值。
二维氮化硼散热膜（SPA-TF40）：对于手机及笔记本等电子产品而言，只依靠疯狂的堆高配置来看似厉害，如果细节没做好，用着用着一样是卡得飞起。配置高并不等于使用流畅！没有好的导热散热机制，无法保证电子产品的持续、稳定工作。尤其对于手游玩家来说，想要保持强战斗力，手机高效散热尤其重要，不然三分钟是大神，三分钟后是菜鸡。当前，智能手机主流的散热器件主要包括石墨散热膜、石墨烯散热膜、热管和均热板等，并根据不同的配置搭配上不同的组合。以游戏手机iQOO9Pro为例，据称这款手机搭载了十八层叠瀑VC立体散热系统，配备了大面积的VC均热板和石墨散热膜，在正面屏幕之下，它又叠加了薄散热膜，这样做的好处在于，即使手机处于亮屏状态下，也能够很好的压制屏幕表面温度。二维氮化硼散热膜（SPA-TF40) AI领域有效的散热材料，具有不可替代性。
二维氮化硼散热膜（SPA-TF40），是由氮化硼粉体组成，氮化硼是由氮原子和硼原子所构成的晶体。化学组成为43.6%的硼和56.4%的氮，具有四种不同的变体：六方氮化硼（HBN)、菱方氮化硼（RBN）、立方氮化硼（CBN）和纤锌矿氮化硼（WBN）；氮化硼六方晶系结晶，**常见为石墨晶格，也有无定形变体，除了六方晶型以外，氮化硼还有其他晶型，包括：菱方氮化硼（r-BN)、立方氮化硼（c-BN）、纤锌矿型氮化硼（w-BN)。人们甚至还发现像石墨稀一样的二维氮化硼晶体。二维氮化硼散热膜（SPA-TF40)应用于智能制造领域。使用二维氮化硼散热膜特点
二维氮化硼散热膜（SPA-TF40) 是一种高功率通讯设备中常用的散热材料。高导热二维氮化硼散热膜变革
散热膜是一种高功率通讯设备中常用的散热材料，其中石墨是被为频繁使用的材料之一，石墨散热膜具有较高的平面热导率及较低的垂直热导率，这种特殊的导热结构使得热流可以很快地沿平面传播从而快速疏散局部高温集中情况，而很难穿透其散热膜的垂直方向，其主要作用在于防止电子产品局部过热。智能手机利用石墨散热膜的平面均热，热量传导作用，可以把热量迅速均匀地传导到机壳、框架以及屏幕等部件，以避免局部温度过高引起“烫手感明显”，使用性能下降，甚至长期性损坏手机零件的可能。高导热二维氮化硼散热膜变革
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