企业商机
四氟化碳基本参数
  • 产地
  • 上海
  • 品牌
  • 不限
  • 型号
  • 不限
  • 是否定制
四氟化碳企业商机

    四氟化碳用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体,用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。四氟化碳是微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体,四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。四氟化碳常温常压下稳定,避免强氧化剂、易燃或可燃物。不燃气体,遇高热后容器内压增大,有开裂危险。化学性质稳定,不燃。常温下只有液氨-金属钠试剂能发生作用。 四氟化碳不与铜、镍、钨、钼反应。常州***四氟化碳销售价格

    四氯化碳有什么作用?四氯化碳可以做萃取剂来萃取有机物(极性分子相似相溶)。萃取实验中萃取出的碘单质是紫红色的,而其他卤素也会有其他对应的颜色,所以四氯化碳有的时候用于卤素除杂与鉴定;曾用作灭火剂但是由于在一些条件下四氯化碳会产生窒息性的剧毒气体——光气;另外它也不能用于扑灭活泼金属钾、钠的失火,因四氯化碳会强烈分解。现被1211灭火剂替代;可与水置于同一容器防倒吸(利用密度梯度分离,导气管需伸入下层)。 常州***四氟化碳价格便宜等离子清洗机利用纯四氟化碳气体或四氟化碳与氧气配合的方式可对晶圆制造中的氮化硅进行微米级的刻蚀。

四氟甲烷(Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane),亦称四氟化碳、全氟化碳,PFC-14(R-14),化学式CF4,商品名称Reflube 14,相对分子量88.00。在常温下,四氟甲烷是无色、无臭、不燃,不溶于水的可压缩性气体。沸点-128℃,熔点-183.6℃。液体密度(-130℃)1.613g/cm3,临界温度-45.67℃,临界压力3.74MPa,蒸气压(-150.7℃)13.33kPa,介电常数(25℃,0.5MPa)1.0006。挥发性较高,是稳定的有机化合物之一,在900摄氏度时,不与钢、镍、钨、钼反应,在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25摄氏度及0.1MPa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时, 会分解产生有毒氟化物,危险性类别为第2.2类不燃气体。

二氧化碳钢瓶的使用方法及注意事项; 使用前检查连接部位是否漏气,可涂上肥皂液进行检查,调整至确实不漏气后才进行实验。使用时先逆时针打开钢瓶总开关观察高压表读数,记录高压瓶内总的二氧化碳压力。然后顺时针转动低压表压力调节螺杆,使其压缩主弹簧将活门打开。这样进口的高压气体,由高压室经节流减压后进入低压室,并经出口通往工作系统。使用后,先关闭顺时针,关闭钢瓶总开关,再逆时针旋松减压阀。各种气瓶必须定期进行技术检查。充装一般气体的气瓶三年检验一次;如在使用中发现有严重腐蚀或严重损伤的,应提前进行检验。






也要注意使用四氟化碳的注意事项。

开放的深入,使中国气体行业得以借助他国优势,弥补在技术和设备上的空白。然而,这也为中国特气行业的发展埋下了隐患。这一时期,中国半导体行业引进的大多为技术含量低的封测工序,在供应链中处于劣势状态,直接影响到上游特种气体的生产和供应水平。同时,由于下游半导体产业的发展原动力完全依赖政策投入,重视短期成果和效益,缺少长远观念,这种饮鸩止渴的思维一直蔓延到特气领域。靠与外国企业合作,就能收获不错的效益,加之技术上的差距又十分悬殊,很少有企业静下心来搞研发。相反,前沿的国外气体公司为了保持地位,每年在研发上投入巨额资金。以1995年为例,各主要气体公司研发投入为6100万美元,为1.446亿美元,这一支出在净利润中的占比达36.75%。值得一提的是,当年,英国BOC加工设备公司还设计开发了一种现场用的组装式制氮装备,特别适用于电子、金属等领域的生产。


四氯化碳与氟化银反应,或四氯化碳与氟化氢反应,都能生成四氟化碳。镇江节能四氟化碳哪里有

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四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体,也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。同时,由于四氟化碳的化学稳定性,四氟化碳可用于金属冶炼,例如:铜、不锈钢,碳钢、铝、蒙乃尔等;还可用于塑料行业;如:合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。常州***四氟化碳销售价格

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