上海新能源四氟化碳

    四氟化碳(CF4)是目前微电子工业中使用的等离子体蚀刻气体，广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。四氟化碳早就是通过氟碳直接反应法制得的，该方法经过不断的发展与完善，如今己成为工业上制备全氟烷的主要的方法之一。氟气与碳反应剧烈，反应不易控制。因此，人们一直在研究四氟化碳的安全生产工艺。 四氟化碳在高温时，或与可燃气体一同燃烧时，分解出有毒的氟化物。上海新能源四氟化碳

    四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常环境下是相对惰性的，在不通风的地方会引起窒息。在射频等离子体环境中，氟自由基表现为典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高纯度的四氟化碳能很好的控制加工过程，使尺寸和形状得到更好的控制，这不同于其他的卤烃遇到空气或氧气时不利于各种特殊的控制（如半导体各项异性控制）。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯阳氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。 华东新能源四氟化碳价格走势R-14制冷剂，别名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名称有Freon 14等。

    四氯化碳有什么作用？四氯化碳可以做萃取剂来萃取有机物（极性分子相似相溶）。萃取实验中萃取出的碘单质是紫红色的，而其他卤素也会有其他对应的颜色，所以四氯化碳有的时候用于卤素除杂与鉴定；曾用作灭火剂但是由于在一些条件下四氯化碳会产生窒息性的剧毒气体——光气;另外它也不能用于扑灭活泼金属钾、钠的失火，因四氯化碳会强烈分解。现被1211灭火剂替代；可与水置于同一容器防倒吸（利用密度梯度分离，导气管需伸入下层）。

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体，广用于硅、氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性极强，四氟化碳还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电予气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规格，各国为推动本国微电子工业发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言，四氟化碳以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体市场，因此具有广阔的发展潜力。四氟化碳在常温常压下为无色无臭有轻微醚味的气体。空气中不燃烧，是比较稳定的无毒物质。

    CF4具有高的稳定性，属于完全不燃性气体，常温下不与酸、碱及氧化剂反应，900℃以下不与Cu、Ni、W、Mo等过渡金属反应，1000℃不与碳、氢及CH4反应。室温下可与液氨-金属钠试剂反应，高温下CF4可与碱金属、碱土金属及SiO2反应，生成相应的氟化物。CF4在800℃下开始分解，CF4在电弧作用下可与CO和CO2反应生成COF2，有人还试图在碳弧温度中使CF4聚合来合成其他碳氟化合物。由于C-F键的化学稳定性极强，因此以CF4为表示的全氟烃可认为是无毒的。CF4、C2F6和C3F8的全球变暖势（GWP）的下限值分别为620、190和53，呈明显下降趋势，且远小于氯氟烃（CFC）、SF6和CO2。 四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体，挥发性较高。上海新能源四氟化碳

.由碳与氟反应，或一氧化碳与氟反应，或碳化硅与氟反应。上海新能源四氟化碳

四氟甲烷（R-14）是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟甲烷高纯气配高纯氧气的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷剂、泄漏检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。四氟化碳的包装可重复使用高压钢瓶包装（需回收包装钢瓶）。四氟化碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造，以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。上海新能源四氟化碳