上海市四氟化碳厂家哪家好

    四氟化碳与氧在高温下不反应]四氟化炭是目前微电子行业使用比较多的等离子蚀刻气体，它是由高纯气与高纯气配高纯氧的混合物，可用于硅粉、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和钨薄膜材料的蚀刻。在使用CF4-H2反应离子刻蚀的硅及二氧化硅系统中，通过调节两种气体的比例，可以获得45:1的选择性，这对刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜是非常有用的。危害概览危险类别：：吸入健康危险：吸入浓度高的四氟化碳后，出现呼吸困难、呕吐等窒息症状。 四氟化碳是稳定的有机化合物之一。上海市四氟化碳厂家哪家好

南通安全四氟化碳厂家价格四氟化碳对肝脏、脑神经系统有损害。

四氟化碳，又称为四氟甲烷。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳，也可以被视为一种无机化合物。所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中，需要使用四氟化碳。在蚀刻过程中，用四氟化碳将多余的铜皮腐蚀掉，附有油墨的电路上铜皮得以保留，之后再用四氟化碳进行清洗电路上的油墨再烘干，等工艺。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于化学稳定性极强，四氟化碳还可以用于金属冶炼和塑料行业等。

随着半导体等现代行业的快速发展,四氟化碳由于其稳定的化学性质而被广泛应用,由于能够强烈的吸收红外辐射和极高的稳定性,使得四氟化碳成为一种全球变暖潜力值和生命周期极高的温室气体。具有低能耗和高效率的等离子体处理法被广泛应用于四氟化碳分解中,表面波等离子体的大面积、无极放电、放电容器形状多样等优点使其成为处理四氟化碳的良好方法。设计了一套大面积表面波等离子体反应器,在低气压下激发等离子体用于处理四氟化碳,考察了微波功率、气体流量、氧气比例等影响因素对分解率的影响。用硅胶除去气体中的水分，经精馏而得成品。

    四氟化碳用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体，用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。四氟化碳是微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。四氟化碳常温常压下稳定，避免强氧化剂、易燃或可燃物。不燃气体，遇高热后容器内压增大，有开裂危险。化学性质稳定，不燃。常温下只有液氨-金属钠试剂能发生作用。 四氟化碳不与铜、镍、钨、钼反应。上海四氟化碳销售价格

如在泄漏时，应迅速撤离泄漏污染区人员至上风处，并进行隔离，严格限制出入。上海市四氟化碳厂家哪家好

R-14商品名称Reflube14。R-14属于FC类物质——对臭氧层没有破坏、但存在温室效应；目前对于R14制冷剂的生产、销售以及在新制冷设备上的初装、售后设备上的再添加均没有限制。四氟化碳（四氟甲烷/全氟甲烷）CF4R-14制冷剂，别名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名称有Freon14等，中文名称四氟化碳、四氟甲烷，英文名称CarbonTetrafluorideorTetrafluoromethane，化学式CF4，产品用途R-14作为一款特种**温制冷剂，主要应用于要求温度非常低的深冷设备中（包括科研制冷、医用制冷等），R14同时也是**温配合冷媒的重要组分。四氟化碳（四氟甲烷）是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟甲烷高纯气配高纯氧气的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、泄漏检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。上海市四氟化碳厂家哪家好